Obtencao de contato ohmico sobre juncoes rasas em 'SI', utilizando siliceto de 'TI' e 'TI'w entre substrato a 'AL' (1990)
- Authors:
- USP affiliated authors: SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP ; FURLAN, ROGERIO - EP
- Unidade: EP
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: Ipen/Cnen-Sp/Dema-Ufscar
- Publisher place: São Paulo
- Date published: 1990
- Source:
- Título: Anais
- Conference titles: Congresso Brasileiro de Engenharia e Ciencia dos Materiais
-
ABNT
FURLAN, Rogério e SWART, Jacobus Willibrordus. Obtencao de contato ohmico sobre juncoes rasas em 'SI', utilizando siliceto de 'TI' e 'TI'w entre substrato a 'AL'. 1990, Anais.. São Paulo: Ipen/Cnen-Sp/Dema-Ufscar, 1990. . Acesso em: 28 dez. 2025. -
APA
Furlan, R., & Swart, J. W. (1990). Obtencao de contato ohmico sobre juncoes rasas em 'SI', utilizando siliceto de 'TI' e 'TI'w entre substrato a 'AL'. In Anais. São Paulo: Ipen/Cnen-Sp/Dema-Ufscar. -
NLM
Furlan R, Swart JW. Obtencao de contato ohmico sobre juncoes rasas em 'SI', utilizando siliceto de 'TI' e 'TI'w entre substrato a 'AL'. Anais. 1990 ;[citado 2025 dez. 28 ] -
Vancouver
Furlan R, Swart JW. Obtencao de contato ohmico sobre juncoes rasas em 'SI', utilizando siliceto de 'TI' e 'TI'w entre substrato a 'AL'. Anais. 1990 ;[citado 2025 dez. 28 ] - Verificação da redistribuição de arsenio no processo de formação de siliceto de titanio por rtp em vacuo
- Titanium silicide formation and arsenic dopant behavior under rapid thermal treatments in vacuum
- Study of the thermal stability of the al / tiw / tisi2 / si structure
- Estudo da liga 'TI'w como uma barreira de difusao entre aluminio e 'TI''SI IND.2'
- Formação de siliceto de titanio por rtp em vácuo e verificação da influência do arsênio
- Titanium silicide formation and arsenic dopant behavior under rtp in vacuum
- Formacao de siliceto de titanio por rtp: visando a estrutura salicide
- Analise da influencia de impurezas em filmes de 'CO' na formacao do siliceto
- Interconexoes e contatos em circuitos integrados
- Presilha eletrostatica para camadas em sistemas de deposicao cvd
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
