Verificação da redistribuição de arsenio no processo de formação de siliceto de titanio por rtp em vacuo (1988)
- Authors:
- USP affiliated authors: SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP ; FURLAN, ROGERIO - EP
- Unidade: EP
- Assunto: MICROELETRÔNICA
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: Sbmicro/Epusp
- Publisher place: São Paulo
- Date published: 1988
- Source:
- Título: Anais
- Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica
-
ABNT
FURLAN, Rogério e SWART, Jacobus Willibrordus. Verificação da redistribuição de arsenio no processo de formação de siliceto de titanio por rtp em vacuo. 1988, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1988. . Acesso em: 29 dez. 2025. -
APA
Furlan, R., & Swart, J. W. (1988). Verificação da redistribuição de arsenio no processo de formação de siliceto de titanio por rtp em vacuo. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp. -
NLM
Furlan R, Swart JW. Verificação da redistribuição de arsenio no processo de formação de siliceto de titanio por rtp em vacuo. Anais. 1988 ;[citado 2025 dez. 29 ] -
Vancouver
Furlan R, Swart JW. Verificação da redistribuição de arsenio no processo de formação de siliceto de titanio por rtp em vacuo. Anais. 1988 ;[citado 2025 dez. 29 ] - Titanium silicide formation and arsenic dopant behavior under rapid thermal treatments in vacuum
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