Estudo da liga 'TI'w como uma barreira de difusao entre aluminio e 'TI''SI IND.2' (1990)
- Authors:
- USP affiliated authors: SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP ; FURLAN, ROGERIO - EP
- Unidade: EP
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: Sbmicro/Spie
- Publisher place: Campinas
- Date published: 1990
- Source:
- Título: Anais
- Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica
-
ABNT
FURLAN, Rogério e VAN DER SPIEGEL, J e SWART, Jacobus Willibrordus. Estudo da liga 'TI'w como uma barreira de difusao entre aluminio e 'TI''SI IND.2'. 1990, Anais.. Campinas: Sbmicro/Spie, 1990. . Acesso em: 14 fev. 2026. -
APA
Furlan, R., Van der Spiegel, J., & Swart, J. W. (1990). Estudo da liga 'TI'w como uma barreira de difusao entre aluminio e 'TI''SI IND.2'. In Anais. Campinas: Sbmicro/Spie. -
NLM
Furlan R, Van der Spiegel J, Swart JW. Estudo da liga 'TI'w como uma barreira de difusao entre aluminio e 'TI''SI IND.2'. Anais. 1990 ;[citado 2026 fev. 14 ] -
Vancouver
Furlan R, Van der Spiegel J, Swart JW. Estudo da liga 'TI'w como uma barreira de difusao entre aluminio e 'TI''SI IND.2'. Anais. 1990 ;[citado 2026 fev. 14 ] - Titanium silicide formation and arsenic dopant behavior under rtp in vacuum
- Formação de siliceto de titanio por rtp em vácuo e verificação da influência do arsênio
- Titanium silicide formation and arsenic dopant behavior under rapid thermal treatments in vacuum
- Verificação da redistribuição de arsenio no processo de formação de siliceto de titanio por rtp em vacuo
- Obtenção de contato ôhmico sobre junções rasas em Si, utilizando siliceto de Ti e TiW entre substrato e Al
- Study of the thermal stability of the Al/TiW/TiSi2/Si structure
- Formacao de siliceto de titanio por rtp: visando a estrutura salicide
- Design and processing of hbts
- Difusao de estanho em 'GA''AS' por processamento termico rapido
- Fabricacao de hbt de 'AL''GA''AS' / 'GA''AS'
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
