Deposition and characterization of AlN thin films obtained by radio frequency reactive magnetron sputtering1 (2014)
- Autores:
- Autores USP: CHÁVEZ, MARCO ISAÍAS ALAYO - EP ; PEREYRA, INÊS - EP ; PELEGRINI, MARCUS VINICIUS - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1139/cjp-2013-0556
- Assuntos: FILMES FINOS; FOTÔNICA
- Idioma: Inglês
- Fonte:
- Título do periódico: Canadian Journal of Physics
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 92, n. 7/8, p. 940-942, 2014
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
PELEGRINI, Marcelo Aparecido et al. Deposition and characterization of AlN thin films obtained by radio frequency reactive magnetron sputtering1. Canadian Journal of Physics, v. 92, n. 7/8, p. 940-942, 2014Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1139/cjp-2013-0556. Acesso em: 19 set. 2024. -
APA
Pelegrini, M. A., Pereyra, I., Alvarado, M. A., & Alayo Chávez, M. I. (2014). Deposition and characterization of AlN thin films obtained by radio frequency reactive magnetron sputtering1. Canadian Journal of Physics, 92( 7/8), 940-942. doi:10.1139/cjp-2013-0556 -
NLM
Pelegrini MA, Pereyra I, Alvarado MA, Alayo Chávez MI. Deposition and characterization of AlN thin films obtained by radio frequency reactive magnetron sputtering1 [Internet]. Canadian Journal of Physics. 2014 ; 92( 7/8): 940-942.[citado 2024 set. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1139/cjp-2013-0556 -
Vancouver
Pelegrini MA, Pereyra I, Alvarado MA, Alayo Chávez MI. Deposition and characterization of AlN thin films obtained by radio frequency reactive magnetron sputtering1 [Internet]. Canadian Journal of Physics. 2014 ; 92( 7/8): 940-942.[citado 2024 set. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1139/cjp-2013-0556 - Deposition and characterization of AlN thin films obtained by radio frequency reactive magnetron sputtering
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Informações sobre o DOI: 10.1139/cjp-2013-0556 (Fonte: oaDOI API)
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| Tipo | Nome | Link | |
|---|---|---|---|
 | Sysno 2905589 Deposition ... |
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