Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados (2004)
- Authors:
- USP affiliated authors: ALVAREZ, INES PEREYRA DE - EP ; CHÁVEZ, MARCO ISAÍAS ALAYO - EP
- Unidade: EP
- Assunto: DISPOSITIVOS ÓPTICOS
- Language: Português
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: SIICUSP 2004: resumos.
- Conference titles: Simpósio Internacional de Iniciação Científica da Universidade de São Paulo
-
ABNT
SIQUEIRA, Vinícius Valério de et al. Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados. 2004, Anais.. São Paulo: USP, 2004. Disponível em: http://www.usp.br/siicusp/12osiicusp/index_2004.htm. Acesso em: 23 abr. 2024. -
APA
Siqueira, V. V. de, Alayo Chávez, M. I., Iguchi, K., & Pereyra, I. (2004). Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados. In SIICUSP 2004: resumos.. São Paulo: USP. Recuperado de http://www.usp.br/siicusp/12osiicusp/index_2004.htm -
NLM
Siqueira VV de, Alayo Chávez MI, Iguchi K, Pereyra I. Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados [Internet]. SIICUSP 2004: resumos. 2004 ;[citado 2024 abr. 23 ] Available from: http://www.usp.br/siicusp/12osiicusp/index_2004.htm -
Vancouver
Siqueira VV de, Alayo Chávez MI, Iguchi K, Pereyra I. Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados [Internet]. SIICUSP 2004: resumos. 2004 ;[citado 2024 abr. 23 ] Available from: http://www.usp.br/siicusp/12osiicusp/index_2004.htm - Influência dos parâmetros de corrosão em filmes de oxinitreto de silício depositados por PECVD para utilização em óptica integrada
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