Structural analysis of silicon oxynitride films deposited by PECVD (2004)
- Authors:
- USP affiliated authors: FANTINI, MARCIA CARVALHO DE ABREU - IF ; CHÁVEZ, MARCO ISAÍAS ALAYO - EP ; PEREYRA, INÊS - EP
- Unidades: IF; EP
- DOI: 10.1016/j.mseb.2004.05.017
- Subjects: MATERIAIS; MATÉRIA CONDENSADA; FILMES FINOS; FÍSICA DE PLASMAS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Materials Science and Engineering B
- ISSN: 0921-5107
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
CRIADO, Denise et al. Structural analysis of silicon oxynitride films deposited by PECVD. Materials Science and Engineering B, 2004Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.mseb.2004.05.017. Acesso em: 30 set. 2024. -
APA
Criado, D., Alayo Chávez, M. I., Pereyra, I., & Fantini, M. C. de A. (2004). Structural analysis of silicon oxynitride films deposited by PECVD. Materials Science and Engineering B. doi:10.1016/j.mseb.2004.05.017 -
NLM
Criado D, Alayo Chávez MI, Pereyra I, Fantini MC de A. Structural analysis of silicon oxynitride films deposited by PECVD [Internet]. Materials Science and Engineering B. 2004 ;[citado 2024 set. 30 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.mseb.2004.05.017 -
Vancouver
Criado D, Alayo Chávez MI, Pereyra I, Fantini MC de A. Structural analysis of silicon oxynitride films deposited by PECVD [Internet]. Materials Science and Engineering B. 2004 ;[citado 2024 set. 30 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.mseb.2004.05.017 - Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films
- Estrutura de ordem local em filmes de oxi-nitreto de silício ricos em nitrogênio submetidos a tratamento térmico
- Local bonding in PECVD-"SiO IND.X" "N IND.Y" films
- Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films
- Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress
- Optical waveguides of PECVD silicon oxynitride films
- Study of the mechanical and structural properties of silicon oxynitride films for optical applications
- Local order structure of a-Si'O IND.X' 'N IND.Y':H grown by PECVD
- Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados
- Influência dos parâmetros de corrosão em filmes de oxinitreto de silício depositados por PECVD para utilização em óptica integrada
Informações sobre o DOI: 10.1016/j.mseb.2004.05.017 (Fonte: oaDOI API)
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