Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress (2004)
- Authors:
- USP affiliated authors: FANTINI, MARCIA CARVALHO DE ABREU - IF ; CHÁVEZ, MARCO ISAÍAS ALAYO - EP ; PEREYRA, INÊS - EP
- Unidades: IF; EP
- Subjects: MATERIAIS; FILMES FINOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher: SBPMat
- Publisher place: São Carlos
- Date published: 2004
- Source:
- Título do periódico: Program
- Conference titles: Encontro da SBPMat
-
ABNT
CRIADO, Denise et al. Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress. 2004, Anais.. São Carlos: SBPMat, 2004. Disponível em: http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf. Acesso em: 19 abr. 2024. -
APA
Criado, D., Alayo Chávez, M. I., Pereyra, I., & Fantini, M. C. de A. (2004). Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress. In Program. São Carlos: SBPMat. Recuperado de http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf -
NLM
Criado D, Alayo Chávez MI, Pereyra I, Fantini MC de A. Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress [Internet]. Program. 2004 ;[citado 2024 abr. 19 ] Available from: http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf -
Vancouver
Criado D, Alayo Chávez MI, Pereyra I, Fantini MC de A. Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress [Internet]. Program. 2004 ;[citado 2024 abr. 19 ] Available from: http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf - Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films
- Optical waveguides of PECVD silicon oxynitride films
- Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films
- Estrutura de ordem local em filmes de oxi-nitreto de silício ricos em nitrogênio submetidos a tratamento térmico
- Local bonding in PECVD-"SiO IND.X" "N IND.Y" films
- Study of the mechanical and structural properties of silicon oxynitride films for optical applications
- Local order structure of a-Si'O IND.X' 'N IND.Y':H grown by PECVD
- Structural analysis of silicon oxynitride films deposited by PECVD
- Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados
- Influência dos parâmetros de corrosão em filmes de oxinitreto de silício depositados por PECVD para utilização em óptica integrada
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