Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films (2002)
- Authors:
- USP affiliated authors: FANTINI, MARCIA CARVALHO DE ABREU - IF ; ALVAREZ, INES PEREYRA DE - EP ; CHÁVEZ, MARCO ISAÍAS ALAYO - EP
- Unidades: IF; EP
- DOI: 10.1016/s0040-6090(02)00346-2
- Subjects: ESPECTROSCOPIA DE RAIO X; ESPECTROMETRIA; FILMES FINOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Thin Solid Films
- ISSN: 0040-6090
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 413, n. 1-2, p. 59-64, 2002
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
SCOPEL, Wanderla Luis et al. Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films. Thin Solid Films, v. 413, n. 1-2, p. 59-64, 2002Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(02)00346-2. Acesso em: 24 abr. 2024. -
APA
Scopel, W. L., Fantini, M. C. de A., Alayo Chávez, M. I., & Pereyra, I. (2002). Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films. Thin Solid Films, 413( 1-2), 59-64. doi:10.1016/s0040-6090(02)00346-2 -
NLM
Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films [Internet]. Thin Solid Films. 2002 ; 413( 1-2): 59-64.[citado 2024 abr. 24 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(02)00346-2 -
Vancouver
Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films [Internet]. Thin Solid Films. 2002 ; 413( 1-2): 59-64.[citado 2024 abr. 24 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(02)00346-2 - Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films
- Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress
- Optical waveguides of PECVD silicon oxynitride films
- Estrutura de ordem local em filmes de oxi-nitreto de silício ricos em nitrogênio submetidos a tratamento térmico
- Local bonding in PECVD-"SiO IND.X" "N IND.Y" films
- Study of the mechanical and structural properties of silicon oxynitride films for optical applications
- Local order structure of a-Si'O IND.X' 'N IND.Y':H grown by PECVD
- Structural analysis of silicon oxynitride films deposited by PECVD
- Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados
- Influência dos parâmetros de corrosão em filmes de oxinitreto de silício depositados por PECVD para utilização em óptica integrada
Informações sobre o DOI: 10.1016/s0040-6090(02)00346-2 (Fonte: oaDOI API)
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