Deposition and characterization of AlN thin films obtained by radio frequency reactive magnetron sputtering (2014)
- Authors:
- USP affiliated authors: CHÁVEZ, MARCO ISAÍAS ALAYO - EP ; PEREYRA, INÊS - EP ; PELEGRINI, MARCUS VINICIUS - EP ; ALVARADO, MARIA ELISIA ARMAS - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1139/cjp-2013-0556
- Assunto: RADIOGRAFIA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Canadian Journal of Physics
- Volume/Número/Paginação/Ano: v.92, p.940-942, 2014
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
PELEGRINI, Marcus Vinícius et al. Deposition and characterization of AlN thin films obtained by radio frequency reactive magnetron sputtering. Canadian Journal of Physics, v. 92, p. 940-942, 2014Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1139/cjp-2013-0556. Acesso em: 31 dez. 2025. -
APA
Pelegrini, M. V., Alayo Chávez, M. I., Armas Alvarado, M. E., & Pereyra, I. (2014). Deposition and characterization of AlN thin films obtained by radio frequency reactive magnetron sputtering. Canadian Journal of Physics, 92, 940-942. doi:10.1139/cjp-2013-0556 -
NLM
Pelegrini MV, Alayo Chávez MI, Armas Alvarado ME, Pereyra I. Deposition and characterization of AlN thin films obtained by radio frequency reactive magnetron sputtering [Internet]. Canadian Journal of Physics. 2014 ;92 940-942.[citado 2025 dez. 31 ] Available from: https://doi.org/10.1139/cjp-2013-0556 -
Vancouver
Pelegrini MV, Alayo Chávez MI, Armas Alvarado ME, Pereyra I. Deposition and characterization of AlN thin films obtained by radio frequency reactive magnetron sputtering [Internet]. Canadian Journal of Physics. 2014 ;92 940-942.[citado 2025 dez. 31 ] Available from: https://doi.org/10.1139/cjp-2013-0556 - Fabrication and characterization of aluminum nitride pedestal-type optical waveguide
- Deposition and characterization of AlN thin films obtained by radio frequency reactive magnetron sputtering1
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Informações sobre o DOI: 10.1139/cjp-2013-0556 (Fonte: oaDOI API)
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