Influence of impurities on cobalt silicide formation (1991)
- Authors:
- Autor USP: SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP
- Unidade: EP
- Assunto: SEMICONDUTORES
- Language: Inglês
- Source:
- Título do periódico: Journal of the Electrochemical Society
- Volume/Número/Paginação/Ano: v.138, n.10, p.3067-70, oct. 1991
-
ABNT
FREITAS, W e SWART, Jacobus Willibrordus. Influence of impurities on cobalt silicide formation. Journal of the Electrochemical Society, v. 138, n. 10, p. 3067-70, 1991Tradução . . Acesso em: 19 set. 2024. -
APA
Freitas, W., & Swart, J. W. (1991). Influence of impurities on cobalt silicide formation. Journal of the Electrochemical Society, 138( 10), 3067-70. -
NLM
Freitas W, Swart JW. Influence of impurities on cobalt silicide formation. Journal of the Electrochemical Society. 1991 ;138( 10): 3067-70.[citado 2024 set. 19 ] -
Vancouver
Freitas W, Swart JW. Influence of impurities on cobalt silicide formation. Journal of the Electrochemical Society. 1991 ;138( 10): 3067-70.[citado 2024 set. 19 ] - Analise da influencia de impurezas em filmes de 'CO' na formacao do siliceto
- Interconexoes e contatos em circuitos integrados
- Presilha eletrostatica para camadas em sistemas de deposicao cvd
- Dopagem de 'SI' com boro por tratamento térmico rápido
- Redução de oxido durante a formação de siliceto de titanio
- Caracterização de filmes finos empregando a técnica de difração de raio-x
- Limitações da estruturaCMOS cavidade dupla
- Difusao de estanho em 'GA''AS' por processamento termico rapido
- Fabricacao de hbt de 'AL''GA''AS' / 'GA''AS'
- Design and processing of hbts
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas