Interconexoes e contatos em circuitos integrados (1990)
- Autor:
- Autor USP: SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP
- Unidade: EP
- Assunto: ENGENHARIA ELÉTRICA
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: Sociedade Brasileira de Vacuo/Sbmicro
- Publisher place: Campinas
- Date published: 1990
- Source:
- Título do periódico: Processos de Microeletronica
-
ABNT
SWART, Jacobus Willibrordus. Interconexoes e contatos em circuitos integrados. In: Processos de Microeletronica[S.l: s.n.], 1990. -
APA
Swart, J. W. (1990). Interconexoes e contatos em circuitos integrados. In Processos de Microeletronica. Campinas: Sociedade Brasileira de Vacuo/Sbmicro. -
NLM
Swart JW. Interconexoes e contatos em circuitos integrados. In: Processos de Microeletronica. Campinas: Sociedade Brasileira de Vacuo/Sbmicro; 1990. -
Vancouver
Swart JW. Interconexoes e contatos em circuitos integrados. In: Processos de Microeletronica. Campinas: Sociedade Brasileira de Vacuo/Sbmicro; 1990. - Dopagem de 'SI' com boro por tratamento térmico rápido
- Analise da influencia de impurezas em filmes de 'CO' na formacao do siliceto
- Presilha eletrostatica para camadas em sistemas de deposicao cvd
- Dopagem de 'SI' com fósforo por tratamento térmico rápido
- Processo CMOS de cavidade dupla para comprimento de porta de 2um: resultados finais
- Desenvolvimento de um sistema rp / rtcvd
- Projeto de transistores mesfet / 'GA''AS' com estrutura auto-alinhada obtida por implantacao ionica
- Doping of silicon with boron by rapid thermal processing
- Influence of impurities on cobalt silicide formation
- Caracterização de filmes finos empregando a técnica de difração de raio-x
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