Limitações da estruturaCMOS cavidade dupla (1989)
- Authors:
- Autor USP: SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP
- Unidade: EP
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS MOS
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: Sbmicro/Ufrgs
- Publisher place: Porto Alegre
- Date published: 1989
- Source:
- Título do periódico: Anais
- Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica
-
ABNT
MARTINO, João Antonio; SWART, Jacobus Willibrordus. Limitações da estruturaCMOS cavidade dupla. Anais.. Porto Alegre: Sbmicro/Ufrgs, 1989. -
APA
Martino, J. A., & Swart, J. W. (1989). Limitações da estruturaCMOS cavidade dupla. In Anais. Porto Alegre: Sbmicro/Ufrgs. -
NLM
Martino JA, Swart JW. Limitações da estruturaCMOS cavidade dupla. Anais. 1989 ; -
Vancouver
Martino JA, Swart JW. Limitações da estruturaCMOS cavidade dupla. Anais. 1989 ; - Influence of impurities on cobalt silicide formation
- Dopagem de 'SI' com boro por tratamento térmico rápido
- Interconexoes e contatos em circuitos integrados
- Analise da influencia de impurezas em filmes de 'CO' na formacao do siliceto
- Presilha eletrostatica para camadas em sistemas de deposicao cvd
- Fabricacao de hbt de 'AL''GA''AS' / 'GA''AS'
- Design and processing of hbts
- Difusao de estanho em 'GA''AS' por processamento termico rapido
- Caracterização de filmes finos empregando a técnica de difração de raio-x
- Redução de oxido durante a formação de siliceto de titanio
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