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Relatorio tecnico
Lattice heating and energy balance consideration on the I-V characteristics of submicrometer thin-film fully depleted SOI NMOS devices (1997)
Brunetti, Cláudia; Braga, Nelson Liebentritt de Almeida; Zasnicoff, Luiz Sergio
Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
BRUNETTI, Cláudia e BRAGA, Nelson Liebentritt de Almeida e ZASNICOFF, Luiz Sergio. Lattice heating and energy balance consideration on the I-V characteristics of submicrometer thin-film fully depleted SOI NMOS devices. . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 09 out. 2024. , 1997
APA
Brunetti, C., Braga, N. L. de A., & Zasnicoff, L. S. (1997). Lattice heating and energy balance consideration on the I-V characteristics of submicrometer thin-film fully depleted SOI NMOS devices. São Paulo: EPUSP.
NLM
Brunetti C, Braga NL de A, Zasnicoff LS. Lattice heating and energy balance consideration on the I-V characteristics of submicrometer thin-film fully depleted SOI NMOS devices. 1997 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Brunetti C, Braga NL de A, Zasnicoff LS. Lattice heating and energy balance consideration on the I-V characteristics of submicrometer thin-film fully depleted SOI NMOS devices. 1997 ;[citado 2024 out. 09 ]
Trabalho de evento
Simulated and measured I-V characteristic of FD SOI-NMOS transistors modified by the self-heating effect. (em CD-Rom) (1997)
Brunetti, Cláudia; Braga, Nelson Liebentritt de Almeida; Zasnicoff, Luiz Sergio
Source: Proceedings. Conference titles: Conference of the Brazilian Microelectronics Society. Unidade: EP
Subjects: CIRCUITOS INTEGRADOS, SEMICONDUTORES
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ABNT
BRUNETTI, Cláudia e BRAGA, Nelson Liebentritt de Almeida e ZASNICOFF, Luiz Sergio. Simulated and measured I-V characteristic of FD SOI-NMOS transistors modified by the self-heating effect. (em CD-Rom). 1997, Anais.. Itajubá: SBMICRO/EFEI, 1997. . Acesso em: 09 out. 2024.
APA
Brunetti, C., Braga, N. L. de A., & Zasnicoff, L. S. (1997). Simulated and measured I-V characteristic of FD SOI-NMOS transistors modified by the self-heating effect. (em CD-Rom). In Proceedings. Itajubá: SBMICRO/EFEI.
NLM
Brunetti C, Braga NL de A, Zasnicoff LS. Simulated and measured I-V characteristic of FD SOI-NMOS transistors modified by the self-heating effect. (em CD-Rom). Proceedings. 1997 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Brunetti C, Braga NL de A, Zasnicoff LS. Simulated and measured I-V characteristic of FD SOI-NMOS transistors modified by the self-heating effect. (em CD-Rom). Proceedings. 1997 ;[citado 2024 out. 09 ]
Artigo de periodico
Quantitative analysis of an enhanced diffusion along interfacial misfit dislocations in 'SI' / 'SI' ('GE') heterostructures (1996)
Braga, Nelson Liebentritt de Almeida; Zasnicoff, Luiz Sergio
Source: Journal of Solid-State Devices and Circuits. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
BRAGA, Nelson Liebentritt de Almeida e ZASNICOFF, Luiz Sergio. Quantitative analysis of an enhanced diffusion along interfacial misfit dislocations in 'SI' / 'SI' ('GE') heterostructures. Journal of Solid-State Devices and Circuits, v. 4 , n. ja 1996, p. 1-6, 1996Tradução . . Acesso em: 09 out. 2024.
APA
Braga, N. L. de A., & Zasnicoff, L. S. (1996). Quantitative analysis of an enhanced diffusion along interfacial misfit dislocations in 'SI' / 'SI' ('GE') heterostructures. Journal of Solid-State Devices and Circuits, 4 ( ja 1996), 1-6.
NLM
Braga NL de A, Zasnicoff LS. Quantitative analysis of an enhanced diffusion along interfacial misfit dislocations in 'SI' / 'SI' ('GE') heterostructures. Journal of Solid-State Devices and Circuits. 1996 ;4 ( ja 1996): 1-6.[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Braga NL de A, Zasnicoff LS. Quantitative analysis of an enhanced diffusion along interfacial misfit dislocations in 'SI' / 'SI' ('GE') heterostructures. Journal of Solid-State Devices and Circuits. 1996 ;4 ( ja 1996): 1-6.[citado 2024 out. 09 ]
Relatorio tecnico
Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system (1996)
Osorio, Sergio Paulo Amaral; Zasnicoff, Luiz Sergio
Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
OSORIO, Sergio Paulo Amaral e ZASNICOFF, Luiz Sergio. Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system. . Sao Paulo: Epusp. . Acesso em: 09 out. 2024. , 1996
APA
Osorio, S. P. A., & Zasnicoff, L. S. (1996). Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system. Sao Paulo: Epusp.
NLM
Osorio SPA, Zasnicoff LS. Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system. 1996 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Osorio SPA, Zasnicoff LS. Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system. 1996 ;[citado 2024 out. 09 ]
Trabalho de evento
Lattice heating and energy balance consideration on the i-v characteristics of submicrometer thin-film fully depleted soi nmos devices (1996)
Brunetti, Cláudia; Braga, Nelson Liebentritt de Almeida; Zasnicoff, Luiz Sergio
Source: Proceedings. Conference titles: Conference of the Brazilian Microelectronics Society. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
BRUNETTI, Cláudia e BRAGA, Nelson Liebentritt de Almeida e ZASNICOFF, Luiz Sergio. Lattice heating and energy balance consideration on the i-v characteristics of submicrometer thin-film fully depleted soi nmos devices. 1996, Anais.. São Paulo: Sbmicro, 1996. . Acesso em: 09 out. 2024.
APA
Brunetti, C., Braga, N. L. de A., & Zasnicoff, L. S. (1996). Lattice heating and energy balance consideration on the i-v characteristics of submicrometer thin-film fully depleted soi nmos devices. In Proceedings. São Paulo: Sbmicro.
NLM
Brunetti C, Braga NL de A, Zasnicoff LS. Lattice heating and energy balance consideration on the i-v characteristics of submicrometer thin-film fully depleted soi nmos devices. Proceedings. 1996 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Brunetti C, Braga NL de A, Zasnicoff LS. Lattice heating and energy balance consideration on the i-v characteristics of submicrometer thin-film fully depleted soi nmos devices. Proceedings. 1996 ;[citado 2024 out. 09 ]
Trabalho de evento
Quantitative analysis of 'AS' and 'SB' pipe diffusion along misfit dislocation in epitaxial 'SI' / 'SI' (ge) (1995)
Braga, Nelson Liebentritt de Almeida; Zasnicoff, Luiz Sergio
Source: Proceedings. Conference titles: Congress of the Brazilian Microelectronics Society. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
BRAGA, Nelson Liebentritt de Almeida e ZASNICOFF, Luiz Sergio. Quantitative analysis of 'AS' and 'SB' pipe diffusion along misfit dislocation in epitaxial 'SI' / 'SI' (ge). 1995, Anais.. Porto Alegre: Instituto de Informatica da Ufrgs, 1995. . Acesso em: 09 out. 2024.
APA
Braga, N. L. de A., & Zasnicoff, L. S. (1995). Quantitative analysis of 'AS' and 'SB' pipe diffusion along misfit dislocation in epitaxial 'SI' / 'SI' (ge). In Proceedings. Porto Alegre: Instituto de Informatica da Ufrgs.
NLM
Braga NL de A, Zasnicoff LS. Quantitative analysis of 'AS' and 'SB' pipe diffusion along misfit dislocation in epitaxial 'SI' / 'SI' (ge). Proceedings. 1995 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Braga NL de A, Zasnicoff LS. Quantitative analysis of 'AS' and 'SB' pipe diffusion along misfit dislocation in epitaxial 'SI' / 'SI' (ge). Proceedings. 1995 ;[citado 2024 out. 09 ]
Trabalho de evento
Reactively-sputtered tin formation using fr magnetron system (1995)
Osorio, S P A; Zasnicoff, Luiz Sergio
Source: Proceedings. Conference titles: Congress of the Brazilian Microelectronics Society. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
OSORIO, S P A e ZASNICOFF, Luiz Sergio. Reactively-sputtered tin formation using fr magnetron system. 1995, Anais.. Porto Alegre: Instituto de Informatica da Ufrgs, 1995. . Acesso em: 09 out. 2024.
APA
Osorio, S. P. A., & Zasnicoff, L. S. (1995). Reactively-sputtered tin formation using fr magnetron system. In Proceedings. Porto Alegre: Instituto de Informatica da Ufrgs.
NLM
Osorio SPA, Zasnicoff LS. Reactively-sputtered tin formation using fr magnetron system. Proceedings. 1995 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Osorio SPA, Zasnicoff LS. Reactively-sputtered tin formation using fr magnetron system. Proceedings. 1995 ;[citado 2024 out. 09 ]
Trabalho de evento
Estudo da deposicao de filmes de sog (spin-on-glass) (1993)
Zaia, G V; Zasnicoff, Luiz Sergio
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ZAIA, G V e ZASNICOFF, Luiz Sergio. Estudo da deposicao de filmes de sog (spin-on-glass). 1993, Anais.. Campinas: Sbmicro, 1993. . Acesso em: 09 out. 2024.
APA
Zaia, G. V., & Zasnicoff, L. S. (1993). Estudo da deposicao de filmes de sog (spin-on-glass). In Anais. Campinas: Sbmicro.
NLM
Zaia GV, Zasnicoff LS. Estudo da deposicao de filmes de sog (spin-on-glass). Anais. 1993 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Zaia GV, Zasnicoff LS. Estudo da deposicao de filmes de sog (spin-on-glass). Anais. 1993 ;[citado 2024 out. 09 ]
Trabalho de evento
Experimental study of preoxidation cleaning effects on the oxide growth rate (1992)
Chen, H; Zasnicoff, Luiz Sergio
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
CHEN, H e ZASNICOFF, Luiz Sergio. Experimental study of preoxidation cleaning effects on the oxide growth rate. 1992, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 09 out. 2024.
APA
Chen, H., & Zasnicoff, L. S. (1992). Experimental study of preoxidation cleaning effects on the oxide growth rate. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Chen H, Zasnicoff LS. Experimental study of preoxidation cleaning effects on the oxide growth rate. Anais. 1992 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Chen H, Zasnicoff LS. Experimental study of preoxidation cleaning effects on the oxide growth rate. Anais. 1992 ;[citado 2024 out. 09 ]
Parte de monografia/livro
Processos mos (1990)
Zasnicoff, Luiz Sergio
Source: Processos de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: ENGENHARIA ELÉTRICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ZASNICOFF, Luiz Sergio. Processos mos. Processos de Microeletronica. Tradução . Campinas: Sociedade Brasileira de Microeletronica/Sbmicro, 1990. . . Acesso em: 09 out. 2024.
APA
Zasnicoff, L. S. (1990). Processos mos. In Processos de Microeletronica. Campinas: Sociedade Brasileira de Microeletronica/Sbmicro.
NLM
Zasnicoff LS. Processos mos. In: Processos de Microeletronica. Campinas: Sociedade Brasileira de Microeletronica/Sbmicro; 1990. [citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Zasnicoff LS. Processos mos. In: Processos de Microeletronica. Campinas: Sociedade Brasileira de Microeletronica/Sbmicro; 1990. [citado 2024 out. 09 ]
Relatorio tecnico
Tecnologia CMOS /NMOS de 3 micra: definição da sequência do processo de fabricação (1987)
Zasnicoff, Luiz Sergio; Molina Torres, L C
Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ZASNICOFF, Luiz Sergio e MOLINA TORRES, L C. Tecnologia CMOS /NMOS de 3 micra: definição da sequência do processo de fabricação. . São Paulo: Lme-Usp. . Acesso em: 09 out. 2024. , 1987
APA
Zasnicoff, L. S., & Molina Torres, L. C. (1987). Tecnologia CMOS /NMOS de 3 micra: definição da sequência do processo de fabricação. São Paulo: Lme-Usp.
NLM
Zasnicoff LS, Molina Torres LC. Tecnologia CMOS /NMOS de 3 micra: definição da sequência do processo de fabricação. 1987 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Zasnicoff LS, Molina Torres LC. Tecnologia CMOS /NMOS de 3 micra: definição da sequência do processo de fabricação. 1987 ;[citado 2024 out. 09 ]
Tese (Doutorado)
Desenvolvimento de um processo NMOS de alto desempenho: análise, caracterização e extração de parâmetros elétricos e tecnológicos (1987)
Zasnicoff, Luiz Sergio; Andrade, Carlos Américo Morato de (Orientador)
Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS MOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ZASNICOFF, Luiz Sergio. Desenvolvimento de um processo NMOS de alto desempenho: análise, caracterização e extração de parâmetros elétricos e tecnológicos. 1987. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1987. . Acesso em: 09 out. 2024.
APA
Zasnicoff, L. S. (1987). Desenvolvimento de um processo NMOS de alto desempenho: análise, caracterização e extração de parâmetros elétricos e tecnológicos (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM
Zasnicoff LS. Desenvolvimento de um processo NMOS de alto desempenho: análise, caracterização e extração de parâmetros elétricos e tecnológicos. 1987 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Zasnicoff LS. Desenvolvimento de um processo NMOS de alto desempenho: análise, caracterização e extração de parâmetros elétricos e tecnológicos. 1987 ;[citado 2024 out. 09 ]
Relatorio tecnico
Tecnologia CMOS /NMOS de 3 micra: estudo da ilha n (1987)
Ely, Hélio José Fonseca; Zasnicoff, Luiz Sergio; Molina Torres, L C
Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ELY, Hélio José Fonseca e ZASNICOFF, Luiz Sergio e MOLINA TORRES, L C. Tecnologia CMOS /NMOS de 3 micra: estudo da ilha n. . São Paulo: Lme-Usp. . Acesso em: 09 out. 2024. , 1987
APA
Ely, H. J. F., Zasnicoff, L. S., & Molina Torres, L. C. (1987). Tecnologia CMOS /NMOS de 3 micra: estudo da ilha n. São Paulo: Lme-Usp.
NLM
Ely HJF, Zasnicoff LS, Molina Torres LC. Tecnologia CMOS /NMOS de 3 micra: estudo da ilha n. 1987 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Ely HJF, Zasnicoff LS, Molina Torres LC. Tecnologia CMOS /NMOS de 3 micra: estudo da ilha n. 1987 ;[citado 2024 out. 09 ]
Relatorio tecnico
Tecnologia CMOS/NMOS de 3 micra: concepção do processo de fabricação (1987)
Zasnicoff, Luiz Sergio; Molina Torres, L C
Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ZASNICOFF, Luiz Sergio e MOLINA TORRES, L C. Tecnologia CMOS/NMOS de 3 micra: concepção do processo de fabricação. . São Paulo: Lme-Usp. . Acesso em: 09 out. 2024. , 1987
APA
Zasnicoff, L. S., & Molina Torres, L. C. (1987). Tecnologia CMOS/NMOS de 3 micra: concepção do processo de fabricação. São Paulo: Lme-Usp.
NLM
Zasnicoff LS, Molina Torres LC. Tecnologia CMOS/NMOS de 3 micra: concepção do processo de fabricação. 1987 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Zasnicoff LS, Molina Torres LC. Tecnologia CMOS/NMOS de 3 micra: concepção do processo de fabricação. 1987 ;[citado 2024 out. 09 ]
Dissertação (Mestrado)
Projeto e construção de retificadores controlados de silício utilizando a técnica de tripla difusão (1974)
Zasnicoff, Luiz Sergio; Zuffo, João Antonio (Orientador)
Unidade: EP
Assunto: SILÍCIO
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ZASNICOFF, Luiz Sergio. Projeto e construção de retificadores controlados de silício utilizando a técnica de tripla difusão. 1974. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1974. . Acesso em: 09 out. 2024.
APA
Zasnicoff, L. S. (1974). Projeto e construção de retificadores controlados de silício utilizando a técnica de tripla difusão (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM
Zasnicoff LS. Projeto e construção de retificadores controlados de silício utilizando a técnica de tripla difusão. 1974 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Zasnicoff LS. Projeto e construção de retificadores controlados de silício utilizando a técnica de tripla difusão. 1974 ;[citado 2024 out. 09 ]

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