Reactively-sputtered tin formation using fr magnetron system (1995)
- Authors:
- Autor USP: ZASNICOFF, LUIZ SERGIO - EP
- Unidade: EP
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher: Instituto de Informatica da Ufrgs
- Publisher place: Porto Alegre
- Date published: 1995
- Source:
- Título: Proceedings
- Conference titles: Congress of the Brazilian Microelectronics Society
-
ABNT
OSORIO, S P A e ZASNICOFF, Luiz Sergio. Reactively-sputtered tin formation using fr magnetron system. 1995, Anais.. Porto Alegre: Instituto de Informatica da Ufrgs, 1995. . Acesso em: 10 mar. 2026. -
APA
Osorio, S. P. A., & Zasnicoff, L. S. (1995). Reactively-sputtered tin formation using fr magnetron system. In Proceedings. Porto Alegre: Instituto de Informatica da Ufrgs. -
NLM
Osorio SPA, Zasnicoff LS. Reactively-sputtered tin formation using fr magnetron system. Proceedings. 1995 ;[citado 2026 mar. 10 ] -
Vancouver
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