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Relatorio tecnico
Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasmas acoplado indutivamente (ICP-CVD) (2003)
Torres, Ani Sobral; Mansano, Ronaldo Domingues
Unidade: EP
Subjects: PLASMA (MICROELETRÔNICA), SILÍCIO
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ABNT
TORRES, Ani Sobral e MANSANO, Ronaldo Domingues. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasmas acoplado indutivamente (ICP-CVD). . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 23 jul. 2024. , 2003
APA
Torres, A. S., & Mansano, R. D. (2003). Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasmas acoplado indutivamente (ICP-CVD). São Paulo: EPUSP.
NLM
Torres AS, Mansano RD. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasmas acoplado indutivamente (ICP-CVD). 2003 ;[citado 2024 jul. 23 ]
Vancouver
Torres AS, Mansano RD. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasmas acoplado indutivamente (ICP-CVD). 2003 ;[citado 2024 jul. 23 ]
Relatorio tecnico
Generation and characterization of polymeric tridimentional microstructure for micromachine application (2003)
Mousinho, Ana Paula; Mansano, Ronaldo Domingues ; Arruda, Antonio Carlos Santos de
Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
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ABNT
MOUSINHO, Ana Paula e MANSANO, Ronaldo Domingues e ARRUDA, Antonio Carlos Santos de. Generation and characterization of polymeric tridimentional microstructure for micromachine application. . Dearborn: Society of Manufacturing Engineers. . Acesso em: 23 jul. 2024. , 2003
APA
Mousinho, A. P., Mansano, R. D., & Arruda, A. C. S. de. (2003). Generation and characterization of polymeric tridimentional microstructure for micromachine application. Dearborn: Society of Manufacturing Engineers.
NLM
Mousinho AP, Mansano RD, Arruda ACS de. Generation and characterization of polymeric tridimentional microstructure for micromachine application. 2003 ;[citado 2024 jul. 23 ]
Vancouver
Mousinho AP, Mansano RD, Arruda ACS de. Generation and characterization of polymeric tridimentional microstructure for micromachine application. 2003 ;[citado 2024 jul. 23 ]
Relatorio tecnico
Elementos em microóptica fabricados com filmes de carbono tipo diamante (DLC) (2003)
Genovesi, Daniela; Mousinho, Ana Paula; Mansano, Ronaldo Domingues
Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
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ABNT
GENOVESI, Daniela e MOUSINHO, Ana Paula e MANSANO, Ronaldo Domingues. Elementos em microóptica fabricados com filmes de carbono tipo diamante (DLC). . São Paulo: FATEC. . Acesso em: 23 jul. 2024. , 2003
APA
Genovesi, D., Mousinho, A. P., & Mansano, R. D. (2003). Elementos em microóptica fabricados com filmes de carbono tipo diamante (DLC). São Paulo: FATEC.
NLM
Genovesi D, Mousinho AP, Mansano RD. Elementos em microóptica fabricados com filmes de carbono tipo diamante (DLC). 2003 ;[citado 2024 jul. 23 ]
Vancouver
Genovesi D, Mousinho AP, Mansano RD. Elementos em microóptica fabricados com filmes de carbono tipo diamante (DLC). 2003 ;[citado 2024 jul. 23 ]
Relatorio tecnico
Obtenção de filmes de nitreto de silício por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente (2000)
Zambom, Luís da Silva ; Furlan, Rogério ; Mansano, Ronaldo Domingues
Unidade: EP
Assunto: LASER
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ABNT
ZAMBOM, Luís da Silva e FURLAN, Rogério e MANSANO, Ronaldo Domingues. Obtenção de filmes de nitreto de silício por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente. . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 23 jul. 2024. , 2000
APA
Zambom, L. da S., Furlan, R., & Mansano, R. D. (2000). Obtenção de filmes de nitreto de silício por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente. São Paulo: EPUSP.
NLM
Zambom L da S, Furlan R, Mansano RD. Obtenção de filmes de nitreto de silício por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente. 2000 ;[citado 2024 jul. 23 ]
Vancouver
Zambom L da S, Furlan R, Mansano RD. Obtenção de filmes de nitreto de silício por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente. 2000 ;[citado 2024 jul. 23 ]
Relatorio tecnico
Hidrogenated carbon films used as mask in wafer processing with integrated circuits: post-processing (2000)
Jaramillo Ocampo, Juan Manuel; Mansano, Ronaldo Domingues ; Charry Rodriguez, Edgar
Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
JARAMILLO OCAMPO, Juan Manuel e MANSANO, Ronaldo Domingues e CHARRY RODRIGUEZ, Edgar. Hidrogenated carbon films used as mask in wafer processing with integrated circuits: post-processing. . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 23 jul. 2024. , 2000
APA
Jaramillo Ocampo, J. M., Mansano, R. D., & Charry Rodriguez, E. (2000). Hidrogenated carbon films used as mask in wafer processing with integrated circuits: post-processing. São Paulo: EPUSP.
NLM
Jaramillo Ocampo JM, Mansano RD, Charry Rodriguez E. Hidrogenated carbon films used as mask in wafer processing with integrated circuits: post-processing. 2000 ;[citado 2024 jul. 23 ]
Vancouver
Jaramillo Ocampo JM, Mansano RD, Charry Rodriguez E. Hidrogenated carbon films used as mask in wafer processing with integrated circuits: post-processing. 2000 ;[citado 2024 jul. 23 ]
Relatorio tecnico
Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering (1999)
Massi, Marcos; Mansano, Ronaldo Domingues ; Maciel, Homero Santiago; Otani, C.; Verdonck, Patrick Bernard; Nishioka, L. N. B. M.
Unidade: EP
Assunto: ENGENHARIA ELÉTRICA
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ABNT
MASSI, Marcos et al. Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering. . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 23 jul. 2024. , 1999
APA
Massi, M., Mansano, R. D., Maciel, H. S., Otani, C., Verdonck, P. B., & Nishioka, L. N. B. M. (1999). Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering. São Paulo: EPUSP.
NLM
Massi M, Mansano RD, Maciel HS, Otani C, Verdonck PB, Nishioka LNBM. Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering. 1999 ;[citado 2024 jul. 23 ]
Vancouver
Massi M, Mansano RD, Maciel HS, Otani C, Verdonck PB, Nishioka LNBM. Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering. 1999 ;[citado 2024 jul. 23 ]
Relatorio tecnico
Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas (1998)
Mansano, Ronaldo Domingues ; Verdonck, Patrick Bernard; Maciel, Homero Santiago
Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues e VERDONCK, Patrick Bernard e MACIEL, Homero Santiago. Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas. . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 23 jul. 2024. , 1998
APA
Mansano, R. D., Verdonck, P. B., & Maciel, H. S. (1998). Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas. São Paulo: EPUSP.
NLM
Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS. Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas. 1998 ;[citado 2024 jul. 23 ]
Vancouver
Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS. Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas. 1998 ;[citado 2024 jul. 23 ]
Relatorio tecnico
Comparison between single and double Langmuir probe tecniques for analysis of inductively coupled plasmas (1998)
Cirino, Giuseppe Antonio; Verdonck, Patrick Bernard; Maciel, Homero Santiago; Castro, R M; Massi, Marcos; Pisani, M B; Mansano, Ronaldo Domingues
Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
CIRINO, Giuseppe Antonio et al. Comparison between single and double Langmuir probe tecniques for analysis of inductively coupled plasmas. . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 23 jul. 2024. , 1998
APA
Cirino, G. A., Verdonck, P. B., Maciel, H. S., Castro, R. M., Massi, M., Pisani, M. B., & Mansano, R. D. (1998). Comparison between single and double Langmuir probe tecniques for analysis of inductively coupled plasmas. São Paulo: EPUSP.
NLM
Cirino GA, Verdonck PB, Maciel HS, Castro RM, Massi M, Pisani MB, Mansano RD. Comparison between single and double Langmuir probe tecniques for analysis of inductively coupled plasmas. 1998 ;[citado 2024 jul. 23 ]
Vancouver
Cirino GA, Verdonck PB, Maciel HS, Castro RM, Massi M, Pisani MB, Mansano RD. Comparison between single and double Langmuir probe tecniques for analysis of inductively coupled plasmas. 1998 ;[citado 2024 jul. 23 ]
Relatorio tecnico
Modelamento da corrosao de resiste por plasma usando o metodo de superficie de resposta (1995)
Mansano, Ronaldo Domingues ; Maciel, H. S.
Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues e MACIEL, H. S. Modelamento da corrosao de resiste por plasma usando o metodo de superficie de resposta. . São Paulo: Epusp. . Acesso em: 23 jul. 2024. , 1995
APA
Mansano, R. D., & Maciel, H. S. (1995). Modelamento da corrosao de resiste por plasma usando o metodo de superficie de resposta. São Paulo: Epusp.
NLM
Mansano RD, Maciel HS. Modelamento da corrosao de resiste por plasma usando o metodo de superficie de resposta. 1995 ;[citado 2024 jul. 23 ]
Vancouver
Mansano RD, Maciel HS. Modelamento da corrosao de resiste por plasma usando o metodo de superficie de resposta. 1995 ;[citado 2024 jul. 23 ]

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