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Monografia/livro-ed/org
Ciência, tecnologia e inovação para um Brasil competitivo (2011)
Faria, Roberto Mendonça (coord); Swart, Jacobus Willibrordus (Organizador); Andrade, Jailson Bittencourt de (Organizador); Calixto, João Batista (Organizador); Naves, Rubens (colab); Pannunzio, Eduardo (colab); De Miranda, Paulo Cesar Goulart (colab); Bevilacqua, Andrea Francomano (colab); Almeida, Virgilio Augusto Fernandes (colab); Maldonado, José Carlos (colab)
Unidade: IFSC
Subjects: CIÊNCIA, TECNOLOGIA, INOVAÇÕES TECNOLÓGICAS
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ABNT
Ciência, tecnologia e inovação para um Brasil competitivo. . São Paulo: Sociedade Brasileira para o Progresso da Ciência - SBPC. Disponível em: http://www.sbpcnet.org.br/site/publicacoes/outras-publicacoes/cti.pdf. Acesso em: 16 jun. 2024. , 2011
APA
Ciência, tecnologia e inovação para um Brasil competitivo. (2011). Ciência, tecnologia e inovação para um Brasil competitivo. São Paulo: Sociedade Brasileira para o Progresso da Ciência - SBPC. Recuperado de http://www.sbpcnet.org.br/site/publicacoes/outras-publicacoes/cti.pdf
NLM
Ciência, tecnologia e inovação para um Brasil competitivo [Internet]. 2011 ;[citado 2024 jun. 16 ] Available from: http://www.sbpcnet.org.br/site/publicacoes/outras-publicacoes/cti.pdf
Vancouver
Ciência, tecnologia e inovação para um Brasil competitivo [Internet]. 2011 ;[citado 2024 jun. 16 ] Available from: http://www.sbpcnet.org.br/site/publicacoes/outras-publicacoes/cti.pdf
Trabalho de evento-resumo
The research networks NAMITEC and NANOFAB: nanocharacterization and nanofabrication activities (2006)
Swart, Jacobus Willibrordus; Seabra, Antonio Carlos
Source: Abstracts. Conference titles: Brazilian MRS Meeting. Unidade: EP
Assunto: MATERIAIS
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ABNT
SWART, Jacobus Willibrordus e SEABRA, Antonio Carlos. The research networks NAMITEC and NANOFAB: nanocharacterization and nanofabrication activities. 2006, Anais.. Florianópolis: SBPMat - Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais, 2006. . Acesso em: 16 jun. 2024.
APA
Swart, J. W., & Seabra, A. C. (2006). The research networks NAMITEC and NANOFAB: nanocharacterization and nanofabrication activities. In Abstracts. Florianópolis: SBPMat - Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais.
NLM
Swart JW, Seabra AC. The research networks NAMITEC and NANOFAB: nanocharacterization and nanofabrication activities. Abstracts. 2006 ;[citado 2024 jun. 16 ]
Vancouver
Swart JW, Seabra AC. The research networks NAMITEC and NANOFAB: nanocharacterization and nanofabrication activities. Abstracts. 2006 ;[citado 2024 jun. 16 ]
Artigo de jornal
A política industrial e tecnológica de semicondutores (2006)
Swart, Jacobus Willibrordus; Van Noije, Wilhelmus Adrianus Maria
Source: Jornal da USP. Unidade: EP
Subjects: POLÍTICA INDUSTRIAL, SEMICONDUTORES
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ABNT
SWART, Jacobus Willibrordus e VAN NOIJE, Wilhelmus Adrianus Maria. A política industrial e tecnológica de semicondutores. Tradução . Jornal da USP, São Paulo, 2006. . Acesso em: 16 jun. 2024.
APA
Swart, J. W., & Van Noije, W. A. M. (2006). A política industrial e tecnológica de semicondutores. Jornal da USP. São Paulo: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo.
NLM
Swart JW, Van Noije WAM. A política industrial e tecnológica de semicondutores. Jornal da USP. 2006 ;[citado 2024 jun. 16 ]
Vancouver
Swart JW, Van Noije WAM. A política industrial e tecnológica de semicondutores. Jornal da USP. 2006 ;[citado 2024 jun. 16 ]
Monografia/livro-ed/org
Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2005 (2005)
Claeys, Cor (Editor) ; Swart, Jacobus Willibrordus (Editor); Morimoto, Nilton Itiro (Editor) ; Verdonck, Patrick Bernard (Editor)
Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices, SBMICRO. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
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ABNT
Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2005. . Pennington: The Electrochemical Society. . Acesso em: 16 jun. 2024. , 2005
APA
Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2005. (2005). Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2005. Pennington: The Electrochemical Society.
NLM
Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2005. 2005 ;[citado 2024 jun. 16 ]
Vancouver
Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2005. 2005 ;[citado 2024 jun. 16 ]
Trabalho de evento
Electrical characterization of thin gate oxynitride obtained by N+ implantation into polysilicon thermal oxide/silicon structure (2004)
Toquetti, Leandro Zeidan; Santos Filho, Sebastião Gomes dos ; Diniz, José A.; Swart, Jacobus Willibrordus
Source: Microelectronics technology and devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO. Unidade: EP
Subjects: MICROELETRÔNICA, POLÍMEROS (MATERIAIS)
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ABNT
TOQUETTI, Leandro Zeidan et al. Electrical characterization of thin gate oxynitride obtained by N+ implantation into polysilicon thermal oxide/silicon structure. 2004, Anais.. Pennington: The Electrochemical Society, 2004. . Acesso em: 16 jun. 2024.
APA
Toquetti, L. Z., Santos Filho, S. G. dos, Diniz, J. A., & Swart, J. W. (2004). Electrical characterization of thin gate oxynitride obtained by N+ implantation into polysilicon thermal oxide/silicon structure. In Microelectronics technology and devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. Pennington: The Electrochemical Society.
NLM
Toquetti LZ, Santos Filho SG dos, Diniz JA, Swart JW. Electrical characterization of thin gate oxynitride obtained by N+ implantation into polysilicon thermal oxide/silicon structure. Microelectronics technology and devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. 2004 ;[citado 2024 jun. 16 ]
Vancouver
Toquetti LZ, Santos Filho SG dos, Diniz JA, Swart JW. Electrical characterization of thin gate oxynitride obtained by N+ implantation into polysilicon thermal oxide/silicon structure. Microelectronics technology and devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. 2004 ;[citado 2024 jun. 16 ]
Trabalho de evento
Formation and stability of Ni(Pt)Si/Poly-Si layered structure (2004)
Santos, Regis E.; Doi, Ioshiaki; Teixeira, Ricardo C.; Diniz, José A.; Swart, Jacobus Willibrordus; Santos Filho, Sebastião Gomes dos
Source: Microelectronics technology and devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO. Unidade: EP
Subjects: MICROELETRÔNICA, FILMES FINOS, ELETROQUÍMICA
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ABNT
SANTOS, Regis E. et al. Formation and stability of Ni(Pt)Si/Poly-Si layered structure. 2004, Anais.. Pennington: The Electrochemical Society, 2004. . Acesso em: 16 jun. 2024.
APA
Santos, R. E., Doi, I., Teixeira, R. C., Diniz, J. A., Swart, J. W., & Santos Filho, S. G. dos. (2004). Formation and stability of Ni(Pt)Si/Poly-Si layered structure. In Microelectronics technology and devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. Pennington: The Electrochemical Society.
NLM
Santos RE, Doi I, Teixeira RC, Diniz JA, Swart JW, Santos Filho SG dos. Formation and stability of Ni(Pt)Si/Poly-Si layered structure. Microelectronics technology and devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. 2004 ;[citado 2024 jun. 16 ]
Vancouver
Santos RE, Doi I, Teixeira RC, Diniz JA, Swart JW, Santos Filho SG dos. Formation and stability of Ni(Pt)Si/Poly-Si layered structure. Microelectronics technology and devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. 2004 ;[citado 2024 jun. 16 ]
Trabalho de evento
Characteristics of polymcrystalline SI1-xGEx alloy deposited in a vertical LPCVD system (2004)
Teixeira, Ricardo C.; Doi, Ioshiaki; Swart, Jacobus Willibrordus; Zakia, M. B. P.; Santos Filho, Sebastião Gomes dos
Source: Microelectronics Technology and Devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO. Unidade: EP
Subjects: MICROELETRÔNICA, POLÍMEROS (MATERIAIS)
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ABNT
TEIXEIRA, Ricardo C. et al. Characteristics of polymcrystalline SI1-xGEx alloy deposited in a vertical LPCVD system. 2004, Anais.. Pennington: The Electrochemical Society, 2004. . Acesso em: 16 jun. 2024.
APA
Teixeira, R. C., Doi, I., Swart, J. W., Zakia, M. B. P., & Santos Filho, S. G. dos. (2004). Characteristics of polymcrystalline SI1-xGEx alloy deposited in a vertical LPCVD system. In Microelectronics Technology and Devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. Pennington: The Electrochemical Society.
NLM
Teixeira RC, Doi I, Swart JW, Zakia MBP, Santos Filho SG dos. Characteristics of polymcrystalline SI1-xGEx alloy deposited in a vertical LPCVD system. Microelectronics Technology and Devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. 2004 ;[citado 2024 jun. 16 ]
Vancouver
Teixeira RC, Doi I, Swart JW, Zakia MBP, Santos Filho SG dos. Characteristics of polymcrystalline SI1-xGEx alloy deposited in a vertical LPCVD system. Microelectronics Technology and Devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. 2004 ;[citado 2024 jun. 16 ]
Trabalho de evento
Formation of nickel silicides onto AS-doped silicon using a thin Pt/Pd interlayer (2004)
Reis, Ronaldo Willian; Santos Filho, Sebastião Gomes dos ; Doi, Ioshiaki; Swart, Jacobus Willibrordus
Source: Microelectronics technology and devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO. Unidade: EP
Subjects: MICROELETRÔNICA, FILMES FINOS
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ABNT
REIS, Ronaldo Willian et al. Formation of nickel silicides onto AS-doped silicon using a thin Pt/Pd interlayer. 2004, Anais.. Pennington: The Electrochemical Society, 2004. . Acesso em: 16 jun. 2024.
APA
Reis, R. W., Santos Filho, S. G. dos, Doi, I., & Swart, J. W. (2004). Formation of nickel silicides onto AS-doped silicon using a thin Pt/Pd interlayer. In Microelectronics technology and devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. Pennington: The Electrochemical Society.
NLM
Reis RW, Santos Filho SG dos, Doi I, Swart JW. Formation of nickel silicides onto AS-doped silicon using a thin Pt/Pd interlayer. Microelectronics technology and devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. 2004 ;[citado 2024 jun. 16 ]
Vancouver
Reis RW, Santos Filho SG dos, Doi I, Swart JW. Formation of nickel silicides onto AS-doped silicon using a thin Pt/Pd interlayer. Microelectronics technology and devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. 2004 ;[citado 2024 jun. 16 ]
Trabalho de evento
The influence of the AC component of the plasma potential on the measurement of the ion flux (2004)
Swart, Jacobus Willibrordus; Verdonck, Patrick Bernard
Source: Microelectronics Technology and Devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO. Unidade: EP
Subjects: MICROELETRÔNICA, CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
SWART, Jacobus Willibrordus e VERDONCK, Patrick Bernard. The influence of the AC component of the plasma potential on the measurement of the ion flux. 2004, Anais.. Pennington: The Electrochemical Society, 2004. . Acesso em: 16 jun. 2024.
APA
Swart, J. W., & Verdonck, P. B. (2004). The influence of the AC component of the plasma potential on the measurement of the ion flux. In Microelectronics Technology and Devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. Pennington: The Electrochemical Society.
NLM
Swart JW, Verdonck PB. The influence of the AC component of the plasma potential on the measurement of the ion flux. Microelectronics Technology and Devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. 2004 ;[citado 2024 jun. 16 ]
Vancouver
Swart JW, Verdonck PB. The influence of the AC component of the plasma potential on the measurement of the ion flux. Microelectronics Technology and Devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. 2004 ;[citado 2024 jun. 16 ]
Parte de monografia/livro
Formation of nickel silicides onto (100) silicon wafer surfaces using a thin platinum interlayer (2003)
Reis, Ronaldo Willian; Santos Filho, Sebastião Gomes dos ; Doi, Ioshiaki; Swart, Jacobus Willibrordus
Source: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
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ABNT
REIS, Ronaldo Willian et al. Formation of nickel silicides onto (100) silicon wafer surfaces using a thin platinum interlayer. Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Tradução . Pennington: Electrochemical Society, 2003. . . Acesso em: 16 jun. 2024.
APA
Reis, R. W., Santos Filho, S. G. dos, Doi, I., & Swart, J. W. (2003). Formation of nickel silicides onto (100) silicon wafer surfaces using a thin platinum interlayer. In Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society.
NLM
Reis RW, Santos Filho SG dos, Doi I, Swart JW. Formation of nickel silicides onto (100) silicon wafer surfaces using a thin platinum interlayer. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society; 2003. [citado 2024 jun. 16 ]
Vancouver
Reis RW, Santos Filho SG dos, Doi I, Swart JW. Formation of nickel silicides onto (100) silicon wafer surfaces using a thin platinum interlayer. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society; 2003. [citado 2024 jun. 16 ]
Parte de monografia/livro
Fabrication of submicron structures in polycristalline silicon by reactive ion etching using fluorine- and chlorine- containing plasmas (2003)
Reyes Betanzo, C; Moshkalyov, Stanislav A; Seabra, Antonio Carlos ; Swart, Jacobus Willibrordus
Source: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
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ABNT
REYES BETANZO, C et al. Fabrication of submicron structures in polycristalline silicon by reactive ion etching using fluorine- and chlorine- containing plasmas. Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Tradução . Pennington: Electrochemical Society, 2003. . . Acesso em: 16 jun. 2024.
APA
Reyes Betanzo, C., Moshkalyov, S. A., Seabra, A. C., & Swart, J. W. (2003). Fabrication of submicron structures in polycristalline silicon by reactive ion etching using fluorine- and chlorine- containing plasmas. In Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society.
NLM
Reyes Betanzo C, Moshkalyov SA, Seabra AC, Swart JW. Fabrication of submicron structures in polycristalline silicon by reactive ion etching using fluorine- and chlorine- containing plasmas. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society; 2003. [citado 2024 jun. 16 ]
Vancouver
Reyes Betanzo C, Moshkalyov SA, Seabra AC, Swart JW. Fabrication of submicron structures in polycristalline silicon by reactive ion etching using fluorine- and chlorine- containing plasmas. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society; 2003. [citado 2024 jun. 16 ]
Parte de monografia/livro
Formation and characterization of the Ni(Pt)Si and NiSi for MOS devices applications (2002)
Santos, R.E.; Doi, Ioshiaki; Diniz, J. A.; Swart, Jacobus Willibrordus; Santos Filho, Sebastião Gomes dos
Source: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
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ABNT
SANTOS, R.E. et al. Formation and characterization of the Ni(Pt)Si and NiSi for MOS devices applications. Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Tradução . Pennington: The Electrochemical Society, 2002. . . Acesso em: 16 jun. 2024.
APA
Santos, R. E., Doi, I., Diniz, J. A., Swart, J. W., & Santos Filho, S. G. dos. (2002). Formation and characterization of the Ni(Pt)Si and NiSi for MOS devices applications. In Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society.
NLM
Santos RE, Doi I, Diniz JA, Swart JW, Santos Filho SG dos. Formation and characterization of the Ni(Pt)Si and NiSi for MOS devices applications. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002. [citado 2024 jun. 16 ]
Vancouver
Santos RE, Doi I, Diniz JA, Swart JW, Santos Filho SG dos. Formation and characterization of the Ni(Pt)Si and NiSi for MOS devices applications. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002. [citado 2024 jun. 16 ]
Parte de monografia/livro
Formation of nickel monosilicide onto (100) silicon wafer surfaces (2002)
Reis, Ronaldo Willian; Santos Filho, Sebastião Gomes dos ; Laganá, Armando Antonio Maria ; Doi, Ioshiaki; Swart, Jacobus Willibrordus
Source: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
REIS, Ronaldo Willian et al. Formation of nickel monosilicide onto (100) silicon wafer surfaces. Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Tradução . Pennington: The Electrochemical Society, 2002. . . Acesso em: 16 jun. 2024.
APA
Reis, R. W., Santos Filho, S. G. dos, Laganá, A. A. M., Doi, I., & Swart, J. W. (2002). Formation of nickel monosilicide onto (100) silicon wafer surfaces. In Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society.
NLM
Reis RW, Santos Filho SG dos, Laganá AAM, Doi I, Swart JW. Formation of nickel monosilicide onto (100) silicon wafer surfaces. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002. [citado 2024 jun. 16 ]
Vancouver
Reis RW, Santos Filho SG dos, Laganá AAM, Doi I, Swart JW. Formation of nickel monosilicide onto (100) silicon wafer surfaces. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002. [citado 2024 jun. 16 ]
Artigo de periodico
Sample preparation method for scanning force microscopy (2001)
Jankov, Ivan; Szente, R N; Lejbman, Iuda Dawid Goldman Vel; Paez Carreño, Marcelo Nelson ; Swart, Jacobus Willibrordus; Landers, R
Source: Brazilian Journal of Physics. Unidade: IF
Subjects: MICROSCOPIA ELETRÔNICA, MICROSCOPIA ELETRÔNICA DE VARREDURA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
JANKOV, Ivan et al. Sample preparation method for scanning force microscopy. Brazilian Journal of Physics, v. 31, n. 4, p. 552-561, 2001Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1590/s0103-97332001000400005. Acesso em: 16 jun. 2024.
APA
Jankov, I., Szente, R. N., Lejbman, I. D. G. V., Paez Carreño, M. N., Swart, J. W., & Landers, R. (2001). Sample preparation method for scanning force microscopy. Brazilian Journal of Physics, 31( 4), 552-561. doi:10.1590/s0103-97332001000400005
NLM
Jankov I, Szente RN, Lejbman IDGV, Paez Carreño MN, Swart JW, Landers R. Sample preparation method for scanning force microscopy [Internet]. Brazilian Journal of Physics. 2001 ; 31( 4): 552-561.[citado 2024 jun. 16 ] Available from: https://doi.org/10.1590/s0103-97332001000400005
Vancouver
Jankov I, Szente RN, Lejbman IDGV, Paez Carreño MN, Swart JW, Landers R. Sample preparation method for scanning force microscopy [Internet]. Brazilian Journal of Physics. 2001 ; 31( 4): 552-561.[citado 2024 jun. 16 ] Available from: https://doi.org/10.1590/s0103-97332001000400005
Trabalho de evento
Initiatives for promotion of microelectronics and microfabrication at Sao Paulo State University - Brazil (2001)
Van Noije, Wilhelmus Adrianus Maria ; Swart, Jacobus Willibrordus; Seabra, Antonio Carlos ; Verdonck, Patrick Bernard; Zambom, Luís da Silva ; Diniz, J. A.; Doi, Ioshiaki; Zakia, Maria José Brito; Mansano, Ronaldo Domingues ; Moreira, L.
Source: Proceedings. Conference titles: Biennial IEEE University/Government/Industry Microelectronics Symposium. Unidade: EP
Subjects: CIRCUITOS ANALÓGICOS, MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
VAN NOIJE, Wilhelmus Adrianus Maria et al. Initiatives for promotion of microelectronics and microfabrication at Sao Paulo State University - Brazil. 2001, Anais.. Piscataway: IEEE, 2001. . Acesso em: 16 jun. 2024.
APA
Van Noije, W. A. M., Swart, J. W., Seabra, A. C., Verdonck, P. B., Zambom, L. da S., Diniz, J. A., et al. (2001). Initiatives for promotion of microelectronics and microfabrication at Sao Paulo State University - Brazil. In Proceedings. Piscataway: IEEE.
NLM
Van Noije WAM, Swart JW, Seabra AC, Verdonck PB, Zambom L da S, Diniz JA, Doi I, Zakia MJB, Mansano RD, Moreira L. Initiatives for promotion of microelectronics and microfabrication at Sao Paulo State University - Brazil. Proceedings. 2001 ;[citado 2024 jun. 16 ]
Vancouver
Van Noije WAM, Swart JW, Seabra AC, Verdonck PB, Zambom L da S, Diniz JA, Doi I, Zakia MJB, Mansano RD, Moreira L. Initiatives for promotion of microelectronics and microfabrication at Sao Paulo State University - Brazil. Proceedings. 2001 ;[citado 2024 jun. 16 ]
Artigo de periodico
MSM photodetector with an integrated microlens array for improved optical coupling (2000)
Ozelo, Helka Fabbri Broggian; Barros Junior, Luiz E. M. de; Nabet, B.; Gonçalves Neto, Luiz; Romero, Murilo Araujo; Ramos, A. C. S.; Swart, Jacobus Willibrordus
Source: Microwave and Optical Technology Letters. Unidade: EESC
Subjects: DISPOSITIVOS ÓPTICOS, LENTES, FOTODETECTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
OZELO, Helka Fabbri Broggian et al. MSM photodetector with an integrated microlens array for improved optical coupling. Microwave and Optical Technology Letters, v. 26, n. 6, p. 357-360, 2000Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1002/1098-2760(20000920)26:6%3C357::AID-MOP3%3E3.0.CO;2-W. Acesso em: 16 jun. 2024.
APA
Ozelo, H. F. B., Barros Junior, L. E. M. de, Nabet, B., Gonçalves Neto, L., Romero, M. A., Ramos, A. C. S., & Swart, J. W. (2000). MSM photodetector with an integrated microlens array for improved optical coupling. Microwave and Optical Technology Letters, 26( 6), 357-360. doi:10.1002/1098-2760(20000920)26:6%3C357::AID-MOP3%3E3.0.CO;2-W
NLM
Ozelo HFB, Barros Junior LEM de, Nabet B, Gonçalves Neto L, Romero MA, Ramos ACS, Swart JW. MSM photodetector with an integrated microlens array for improved optical coupling [Internet]. Microwave and Optical Technology Letters. 2000 ; 26( 6): 357-360.[citado 2024 jun. 16 ] Available from: https://doi.org/10.1002/1098-2760(20000920)26:6%3C357::AID-MOP3%3E3.0.CO;2-W
Vancouver
Ozelo HFB, Barros Junior LEM de, Nabet B, Gonçalves Neto L, Romero MA, Ramos ACS, Swart JW. MSM photodetector with an integrated microlens array for improved optical coupling [Internet]. Microwave and Optical Technology Letters. 2000 ; 26( 6): 357-360.[citado 2024 jun. 16 ] Available from: https://doi.org/10.1002/1098-2760(20000920)26:6%3C357::AID-MOP3%3E3.0.CO;2-W
Trabalho de evento
MSM photodetector with an integrated microlens array for improved optical coupling (1999)
Ozelo, H F B; Barros Jr., L E M de; Nabel, B; Gonçalves Neto, L G; Romero, Murilo Araújo; Swart, Jacobus Willibrordus
Conference titles: International Microwave Optoelectronics Conference. Unidade: EESC
Assunto: ÓPTICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
OZELO, H F B et al. MSM photodetector with an integrated microlens array for improved optical coupling. 1999, Anais.. New York: SBMO/IEEE, 1999. . Acesso em: 16 jun. 2024.
APA
Ozelo, H. F. B., Barros Jr., L. E. M. de, Nabel, B., Gonçalves Neto, L. G., Romero, M. A., & Swart, J. W. (1999). MSM photodetector with an integrated microlens array for improved optical coupling. In . New York: SBMO/IEEE.
NLM
Ozelo HFB, Barros Jr. LEM de, Nabel B, Gonçalves Neto LG, Romero MA, Swart JW. MSM photodetector with an integrated microlens array for improved optical coupling. 1999 ;[citado 2024 jun. 16 ]
Vancouver
Ozelo HFB, Barros Jr. LEM de, Nabel B, Gonçalves Neto LG, Romero MA, Swart JW. MSM photodetector with an integrated microlens array for improved optical coupling. 1999 ;[citado 2024 jun. 16 ]
Tese (Doutorado)
Contribuição ao modelamento de transistores bipolares (1997)
Bodinaud, Jean Albert; Swart, Jacobus Willibrordus (Orientador)
Unidade: EP
Assunto: ENGENHARIA ELÉTRICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
BODINAUD, Jean Albert. Contribuição ao modelamento de transistores bipolares. 1997. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1997. . Acesso em: 16 jun. 2024.
APA
Bodinaud, J. A. (1997). Contribuição ao modelamento de transistores bipolares (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM
Bodinaud JA. Contribuição ao modelamento de transistores bipolares. 1997 ;[citado 2024 jun. 16 ]
Vancouver
Bodinaud JA. Contribuição ao modelamento de transistores bipolares. 1997 ;[citado 2024 jun. 16 ]
Tese (Doutorado)
Estudo de resistes amplificados quimicamente e sililação em litografia por feixe de elétrons (1997)
Seabra, Antonio Carlos ; Swart, Jacobus Willibrordus (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: ENGENHARIA ELÉTRICA, ELÉTRONS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SEABRA, Antonio Carlos. Estudo de resistes amplificados quimicamente e sililação em litografia por feixe de elétrons. 1997. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1997. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-24052022-084309/. Acesso em: 16 jun. 2024.
APA
Seabra, A. C. (1997). Estudo de resistes amplificados quimicamente e sililação em litografia por feixe de elétrons (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-24052022-084309/
NLM
Seabra AC. Estudo de resistes amplificados quimicamente e sililação em litografia por feixe de elétrons [Internet]. 1997 ;[citado 2024 jun. 16 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-24052022-084309/
Vancouver
Seabra AC. Estudo de resistes amplificados quimicamente e sililação em litografia por feixe de elétrons [Internet]. 1997 ;[citado 2024 jun. 16 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-24052022-084309/
Trabalho de evento
Design and analysis of dcfl and scfl logic gates in 'GA''AS' mesfet technology (1996)
De Marco, W M S; Custodio, R M F; Swart, Jacobus Willibrordus; Van Noije, Wilhelmus Adrianus Maria
Source: Proceedings. Conference titles: Conference of the Brazilian Microelectronics Society. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
DE MARCO, W M S et al. Design and analysis of dcfl and scfl logic gates in 'GA''AS' mesfet technology. 1996, Anais.. São Paulo: Sbmicro, 1996. . Acesso em: 16 jun. 2024.
APA
De Marco, W. M. S., Custodio, R. M. F., Swart, J. W., & Van Noije, W. A. M. (1996). Design and analysis of dcfl and scfl logic gates in 'GA''AS' mesfet technology. In Proceedings. São Paulo: Sbmicro.
NLM
De Marco WMS, Custodio RMF, Swart JW, Van Noije WAM. Design and analysis of dcfl and scfl logic gates in 'GA''AS' mesfet technology. Proceedings. 1996 ;[citado 2024 jun. 16 ]
Vancouver
De Marco WMS, Custodio RMF, Swart JW, Van Noije WAM. Design and analysis of dcfl and scfl logic gates in 'GA''AS' mesfet technology. Proceedings. 1996 ;[citado 2024 jun. 16 ]

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