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Artigo de periodico
Synchrotron X-ray powder diffraction and extended X-ray absorption fine structure spectroscopy studies on nanocrystalline 'ZrO IND.2´- CaO solid solutions (2008)
Fábregas, Ismael Oscar; Lamas, Diego German; Reca, Noemi Elizabeth Walsoee de; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Craievich, Aldo Felix; Prado, Rogerio Junqueira
Source: Journal of Applied Crystallography. Unidade: IF
Subjects: DIFRAÇÃO POR RAIOS X, RADIAÇÃO SINCROTRON
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ABNT
FÁBREGAS, Ismael Oscar et al. Synchrotron X-ray powder diffraction and extended X-ray absorption fine structure spectroscopy studies on nanocrystalline 'ZrO IND.2´- CaO solid solutions. Journal of Applied Crystallography, v. 41, n. 4, p. 680-689, 2008Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1107/s0021889808013046. Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Fábregas, I. O., Lamas, D. G., Reca, N. E. W. de, Fantini, M. C. de A., Craievich, A. F., & Prado, R. J. (2008). Synchrotron X-ray powder diffraction and extended X-ray absorption fine structure spectroscopy studies on nanocrystalline 'ZrO IND.2´- CaO solid solutions. Journal of Applied Crystallography, 41( 4), 680-689. doi:10.1107/s0021889808013046
NLM
Fábregas IO, Lamas DG, Reca NEW de, Fantini MC de A, Craievich AF, Prado RJ. Synchrotron X-ray powder diffraction and extended X-ray absorption fine structure spectroscopy studies on nanocrystalline 'ZrO IND.2´- CaO solid solutions [Internet]. Journal of Applied Crystallography. 2008 ; 41( 4): 680-689.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1107/s0021889808013046
Vancouver
Fábregas IO, Lamas DG, Reca NEW de, Fantini MC de A, Craievich AF, Prado RJ. Synchrotron X-ray powder diffraction and extended X-ray absorption fine structure spectroscopy studies on nanocrystalline 'ZrO IND.2´- CaO solid solutions [Internet]. Journal of Applied Crystallography. 2008 ; 41( 4): 680-689.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1107/s0021889808013046
Trabalho de evento-anais periodico
Al thermal diffusion in `alfa´-`Si IND.1-X´`C IND.X´:H Thin Film Studied by XAFS (2007)
Prado, Rogerio Junqueira; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Páez Carreño, Marcelo Nelson ; Pereyra, Inés ; Flank, A M
Source: AIP Conference Proceedings. Conference titles: X-Ray Absorption Fine Structure - XAFS 13th International Conference. Unidades: IF, EP
Subjects: FILMES FINOS, DIFRAÇÃO POR RAIOS X
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ABNT
PRADO, Rogerio Junqueira et al. Al thermal diffusion in `alfa´-`Si IND.1-X´`C IND.X´:H Thin Film Studied by XAFS. AIP Conference Proceedings. New York: The Institute. Disponível em: http://proceedings.aip.org/getpdf/servlet/GetPDFServlet?filetype=pdf&id=APCPCS000882000001000529000001&idtype=cvips. Acesso em: 05 nov. 2024. , 2007
APA
Prado, R. J., Fantini, M. C. de A., Páez Carreño, M. N., Pereyra, I., & Flank, A. M. (2007). Al thermal diffusion in `alfa´-`Si IND.1-X´`C IND.X´:H Thin Film Studied by XAFS. AIP Conference Proceedings. New York: The Institute. Recuperado de http://proceedings.aip.org/getpdf/servlet/GetPDFServlet?filetype=pdf&id=APCPCS000882000001000529000001&idtype=cvips
NLM
Prado RJ, Fantini MC de A, Páez Carreño MN, Pereyra I, Flank AM. Al thermal diffusion in `alfa´-`Si IND.1-X´`C IND.X´:H Thin Film Studied by XAFS [Internet]. AIP Conference Proceedings. 2007 ; 882 529-531.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: http://proceedings.aip.org/getpdf/servlet/GetPDFServlet?filetype=pdf&id=APCPCS000882000001000529000001&idtype=cvips
Vancouver
Prado RJ, Fantini MC de A, Páez Carreño MN, Pereyra I, Flank AM. Al thermal diffusion in `alfa´-`Si IND.1-X´`C IND.X´:H Thin Film Studied by XAFS [Internet]. AIP Conference Proceedings. 2007 ; 882 529-531.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: http://proceedings.aip.org/getpdf/servlet/GetPDFServlet?filetype=pdf&id=APCPCS000882000001000529000001&idtype=cvips
Trabalho de evento-resumo
Experimental and theoretical local structure of oxygen-rich amorphous silicon oxynitride (2003)
Scopel, Wanderla Luis ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Prado, Rogerio Junqueira; Orellana, Walter M; Silva, Antonio Jose Roque da ; Fazzio, Adalberto ; Pereyra, Inés
Source: Book of Abstracts. Conference titles: Brazilian Workshop on Semiconductor Physics. Unidades: IF, EP
Subjects: SEMICONDUTORES, ESTRUTURA ELETRÔNICA
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ABNT
SCOPEL, Wanderla Luis et al. Experimental and theoretical local structure of oxygen-rich amorphous silicon oxynitride. 2003, Anais.. Fortaleza: DF/UFC, 2003. . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Scopel, W. L., Fantini, M. C. de A., Prado, R. J., Orellana, W. M., Silva, A. J. R. da, Fazzio, A., & Pereyra, I. (2003). Experimental and theoretical local structure of oxygen-rich amorphous silicon oxynitride. In Book of Abstracts. Fortaleza: DF/UFC.
NLM
Scopel WL, Fantini MC de A, Prado RJ, Orellana WM, Silva AJR da, Fazzio A, Pereyra I. Experimental and theoretical local structure of oxygen-rich amorphous silicon oxynitride. Book of Abstracts. 2003 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Scopel WL, Fantini MC de A, Prado RJ, Orellana WM, Silva AJR da, Fazzio A, Pereyra I. Experimental and theoretical local structure of oxygen-rich amorphous silicon oxynitride. Book of Abstracts. 2003 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Artigo de periodico
Theoretical and experimental studies of the atomic structure of oxygen-rich amorphous silicon oxynitride films (2003)
Scopel, Wanderla Luis ; Silva, Antonio Jose Roque da ; Orellana, Walter M; Prado, Rogerio Junqueira; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Fazzio, Adalberto ; Pereyra, Inés
Source: Physical Review B. Unidades: IF, EP
Subjects: ESTRUTURA ATÔMICA (FÍSICA MODERNA), MÉTODO DE MONTE CARLO
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ABNT
SCOPEL, Wanderla Luis et al. Theoretical and experimental studies of the atomic structure of oxygen-rich amorphous silicon oxynitride films. Physical Review B, v. 68, n. 15, p. 155332/1-155332/6, 2003Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1103/physrevb.68.155332. Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Scopel, W. L., Silva, A. J. R. da, Orellana, W. M., Prado, R. J., Fantini, M. C. de A., Fazzio, A., & Pereyra, I. (2003). Theoretical and experimental studies of the atomic structure of oxygen-rich amorphous silicon oxynitride films. Physical Review B, 68( 15), 155332/1-155332/6. doi:10.1103/physrevb.68.155332
NLM
Scopel WL, Silva AJR da, Orellana WM, Prado RJ, Fantini MC de A, Fazzio A, Pereyra I. Theoretical and experimental studies of the atomic structure of oxygen-rich amorphous silicon oxynitride films [Internet]. Physical Review B. 2003 ; 68( 15): 155332/1-155332/6.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1103/physrevb.68.155332
Vancouver
Scopel WL, Silva AJR da, Orellana WM, Prado RJ, Fantini MC de A, Fazzio A, Pereyra I. Theoretical and experimental studies of the atomic structure of oxygen-rich amorphous silicon oxynitride films [Internet]. Physical Review B. 2003 ; 68( 15): 155332/1-155332/6.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1103/physrevb.68.155332
Artigo de periodico
Improvements on the local order of amorphous hydrogenated silicon carbide films (2001)
Prado, Rogerio Junqueira; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Tabacniks, Manfredo Harri ; Villacorta Cardoso, Carlos Alberto ; Pereyra, Inés ; Flank, A M
Source: Journal of Non-Crystalline Solids. Unidades: IF, EP
Assunto: QUÍMICA
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ABNT
PRADO, Rogerio Junqueira et al. Improvements on the local order of amorphous hydrogenated silicon carbide films. Journal of Non-Crystalline Solids, v. 283, n. 1-3, p. 1-10, 2001Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0022-3093(01)00489-6. Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Prado, R. J., Fantini, M. C. de A., Tabacniks, M. H., Villacorta Cardoso, C. A., Pereyra, I., & Flank, A. M. (2001). Improvements on the local order of amorphous hydrogenated silicon carbide films. Journal of Non-Crystalline Solids, 283( 1-3), 1-10. doi:10.1016/s0022-3093(01)00489-6
NLM
Prado RJ, Fantini MC de A, Tabacniks MH, Villacorta Cardoso CA, Pereyra I, Flank AM. Improvements on the local order of amorphous hydrogenated silicon carbide films [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2001 ; 283( 1-3): 1-10.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0022-3093(01)00489-6
Vancouver
Prado RJ, Fantini MC de A, Tabacniks MH, Villacorta Cardoso CA, Pereyra I, Flank AM. Improvements on the local order of amorphous hydrogenated silicon carbide films [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2001 ; 283( 1-3): 1-10.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0022-3093(01)00489-6
Artigo de periodico
Structural and morphological investigation of amorphous hydrogenated silicon carbide (2001)
Prado, Rogerio Junqueira; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Pereyra, Inés ; Odo, G Y; Lepienski, C M
Source: Journal of Applied Crystallography. Unidades: IF, EP
Subjects: CRISTALOGRAFIA FÍSICA, FILMES FINOS, SEMICONDUTORES (FÍSICO-QUÍMICA)
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ABNT
PRADO, Rogerio Junqueira et al. Structural and morphological investigation of amorphous hydrogenated silicon carbide. Journal of Applied Crystallography, v. 34, p. 465-472, 2001Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1107/s0021889801007889. Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Prado, R. J., Fantini, M. C. de A., Pereyra, I., Odo, G. Y., & Lepienski, C. M. (2001). Structural and morphological investigation of amorphous hydrogenated silicon carbide. Journal of Applied Crystallography, 34, 465-472. doi:10.1107/s0021889801007889
NLM
Prado RJ, Fantini MC de A, Pereyra I, Odo GY, Lepienski CM. Structural and morphological investigation of amorphous hydrogenated silicon carbide [Internet]. Journal of Applied Crystallography. 2001 ; 34 465-472.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1107/s0021889801007889
Vancouver
Prado RJ, Fantini MC de A, Pereyra I, Odo GY, Lepienski CM. Structural and morphological investigation of amorphous hydrogenated silicon carbide [Internet]. Journal of Applied Crystallography. 2001 ; 34 465-472.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1107/s0021889801007889
Artigo de periodico
Highly ordered amosphous silicon-carbon alloys obtained by RF PECVD (2000)
Pereyra, Inés ; Villacorta Cardoso, Carlos Alberto ; Paez Carreño, Marcelo Nelson ; Prado, Rogerio Junqueira; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu
Source: Brazilian Journal of Physics. Unidades: EP, IF
Assunto: FÍSICA
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ABNT
PEREYRA, Inés et al. Highly ordered amosphous silicon-carbon alloys obtained by RF PECVD. Brazilian Journal of Physics, v. 30, n. 3, p. 533-540, 2000Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1590/s0103-97332000000300009. Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Pereyra, I., Villacorta Cardoso, C. A., Paez Carreño, M. N., Prado, R. J., & Fantini, M. C. de A. (2000). Highly ordered amosphous silicon-carbon alloys obtained by RF PECVD. Brazilian Journal of Physics, 30( 3), 533-540. doi:10.1590/s0103-97332000000300009
NLM
Pereyra I, Villacorta Cardoso CA, Paez Carreño MN, Prado RJ, Fantini MC de A. Highly ordered amosphous silicon-carbon alloys obtained by RF PECVD [Internet]. Brazilian Journal of Physics. 2000 ; 30( 3): 533-540.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1590/s0103-97332000000300009
Vancouver
Pereyra I, Villacorta Cardoso CA, Paez Carreño MN, Prado RJ, Fantini MC de A. Highly ordered amosphous silicon-carbon alloys obtained by RF PECVD [Internet]. Brazilian Journal of Physics. 2000 ; 30( 3): 533-540.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1590/s0103-97332000000300009
Artigo de periodico
Thin films of a-'Si IND.1-X''C IND.X':H deposited by PECVD: the r.f. power and 'H IND.2' dilution role (2000)
Prado, Rogerio Junqueira; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Tabacniks, Manfredo Harri ; Pereyra, Inés ; Flank, A M
Source: Materials Science Forum. Unidades: IF, EP
Assunto: SEMICONDUTORES
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ABNT
PRADO, Rogerio Junqueira et al. Thin films of a-'Si IND.1-X''C IND.X':H deposited by PECVD: the r.f. power and 'H IND.2' dilution role. Materials Science Forum, v. 338-342, n. 1, p. 329-332, 2000Tradução . . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Prado, R. J., Fantini, M. C. de A., Tabacniks, M. H., Pereyra, I., & Flank, A. M. (2000). Thin films of a-'Si IND.1-X''C IND.X':H deposited by PECVD: the r.f. power and 'H IND.2' dilution role. Materials Science Forum, 338-342( 1), 329-332.
NLM
Prado RJ, Fantini MC de A, Tabacniks MH, Pereyra I, Flank AM. Thin films of a-'Si IND.1-X''C IND.X':H deposited by PECVD: the r.f. power and 'H IND.2' dilution role. Materials Science Forum. 2000 ; 338-342( 1): 329-332.[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Prado RJ, Fantini MC de A, Tabacniks MH, Pereyra I, Flank AM. Thin films of a-'Si IND.1-X''C IND.X':H deposited by PECVD: the r.f. power and 'H IND.2' dilution role. Materials Science Forum. 2000 ; 338-342( 1): 329-332.[citado 2024 nov. 05 ]
Trabalho de evento
Combination of x-ray absorption spectroscopy and Rutherford backscattering for the analysis of amorphous Si-based thin films (2000)
Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Prado, Rogerio Junqueira; Scopel, Wanderla Luis; Tabacniks, Manfredo Harri
Conference titles: Seminário Latino-Americano de Análises por Técnicas de Raios X. Unidade: IF
Assunto: FÍSICA
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ABNT
FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu et al. Combination of x-ray absorption spectroscopy and Rutherford backscattering for the analysis of amorphous Si-based thin films. 2000, Anais.. São Pedro: Instituto de Física, Universidade de São Paulo, 2000. . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Fantini, M. C. de A., Prado, R. J., Scopel, W. L., & Tabacniks, M. H. (2000). Combination of x-ray absorption spectroscopy and Rutherford backscattering for the analysis of amorphous Si-based thin films. In . São Pedro: Instituto de Física, Universidade de São Paulo.
NLM
Fantini MC de A, Prado RJ, Scopel WL, Tabacniks MH. Combination of x-ray absorption spectroscopy and Rutherford backscattering for the analysis of amorphous Si-based thin films. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Fantini MC de A, Prado RJ, Scopel WL, Tabacniks MH. Combination of x-ray absorption spectroscopy and Rutherford backscattering for the analysis of amorphous Si-based thin films. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Trabalho de evento-resumo
SAXS de filmes finos homogêneos de a-SiC:H (2000)
Prado, Rogerio Junqueira; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Pereyra, Inés
Source: Resumos de Trabalhos. Conference titles: Reunião Anual de Usuários do Laboratório Nacional de Luz Síncrotron-LNLS. Unidades: IF, EP
Assunto: ÓPTICA
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ABNT
PRADO, Rogerio Junqueira e FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu e PEREYRA, Inés. SAXS de filmes finos homogêneos de a-SiC:H. 2000, Anais.. Campinas: LNLS, 2000. . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Prado, R. J., Fantini, M. C. de A., & Pereyra, I. (2000). SAXS de filmes finos homogêneos de a-SiC:H. In Resumos de Trabalhos. Campinas: LNLS.
NLM
Prado RJ, Fantini MC de A, Pereyra I. SAXS de filmes finos homogêneos de a-SiC:H. Resumos de Trabalhos. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Prado RJ, Fantini MC de A, Pereyra I. SAXS de filmes finos homogêneos de a-SiC:H. Resumos de Trabalhos. 2000 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Artigo de periodico
Influence of starving plasma regime on carbon content and bonds in 'a-Si ind. 1-x''C ind. x': H thin films (1998)
Pereyra, Inés ; Páez Carreño, Marcelo Nelson ; Tabacniks, Manfredo Harri ; Prado, Rogerio Junqueira; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu
Source: Journal of Applied Physics. Unidades: EP, IF
Assunto: FÍSICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
PEREYRA, Inés et al. Influence of starving plasma regime on carbon content and bonds in 'a-Si ind. 1-x''C ind. x': H thin films. Journal of Applied Physics, v. 84, n. 5, p. 2371-2379, 1998Tradução . . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Pereyra, I., Páez Carreño, M. N., Tabacniks, M. H., Prado, R. J., & Fantini, M. C. de A. (1998). Influence of starving plasma regime on carbon content and bonds in 'a-Si ind. 1-x''C ind. x': H thin films. Journal of Applied Physics, 84( 5), 2371-2379.
NLM
Pereyra I, Páez Carreño MN, Tabacniks MH, Prado RJ, Fantini MC de A. Influence of starving plasma regime on carbon content and bonds in 'a-Si ind. 1-x''C ind. x': H thin films. Journal of Applied Physics. 1998 ; 84( 5): 2371-2379.[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Pereyra I, Páez Carreño MN, Tabacniks MH, Prado RJ, Fantini MC de A. Influence of starving plasma regime on carbon content and bonds in 'a-Si ind. 1-x''C ind. x': H thin films. Journal of Applied Physics. 1998 ; 84( 5): 2371-2379.[citado 2024 nov. 05 ]
Artigo de periodico
Carbon incorporation in 'PECVD''A-SI IND. 1-X''C ind. X': 'H' in the low power density regime (1997)
Pereyra, Inés ; Paez Carreño, Marcelo Nelson ; Prado, Rogerio Junqueira; Tabacniks, Manfredo Harri ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu
Source: Brazilian Journal of Physics. Unidades: EP, IF
Assunto: FISICA APLICADA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
PEREYRA, Inés et al. Carbon incorporation in 'PECVD''A-SI IND. 1-X''C ind. X': 'H' in the low power density regime. Brazilian Journal of Physics, v. 27/A, n. 4, p. 150-153, 1997Tradução . . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Pereyra, I., Paez Carreño, M. N., Prado, R. J., Tabacniks, M. H., & Fantini, M. C. de A. (1997). Carbon incorporation in 'PECVD''A-SI IND. 1-X''C ind. X': 'H' in the low power density regime. Brazilian Journal of Physics, 27/A( 4), 150-153.
NLM
Pereyra I, Paez Carreño MN, Prado RJ, Tabacniks MH, Fantini MC de A. Carbon incorporation in 'PECVD''A-SI IND. 1-X''C ind. X': 'H' in the low power density regime. Brazilian Journal of Physics. 1997 ; 27/A( 4): 150-153.[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Pereyra I, Paez Carreño MN, Prado RJ, Tabacniks MH, Fantini MC de A. Carbon incorporation in 'PECVD''A-SI IND. 1-X''C ind. X': 'H' in the low power density regime. Brazilian Journal of Physics. 1997 ; 27/A( 4): 150-153.[citado 2024 nov. 05 ]
Dissertação (Mestrado)
Propriedades químicas e morfologicas de filmes hidrogenados de carbeto de silício amorfo (1997)
Prado, Rogerio Junqueira; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu (Orientador)
Unidade: IF
Subjects: FÍSICA DA MATÉRIA CONDENSADA, RAIOS X, FILMES FINOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
PRADO, Rogerio Junqueira. Propriedades químicas e morfologicas de filmes hidrogenados de carbeto de silício amorfo. 1997. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1997. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43133/tde-07032002-142147/. Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Prado, R. J. (1997). Propriedades químicas e morfologicas de filmes hidrogenados de carbeto de silício amorfo (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43133/tde-07032002-142147/
NLM
Prado RJ. Propriedades químicas e morfologicas de filmes hidrogenados de carbeto de silício amorfo [Internet]. 1997 ;[citado 2024 nov. 05 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43133/tde-07032002-142147/
Vancouver
Prado RJ. Propriedades químicas e morfologicas de filmes hidrogenados de carbeto de silício amorfo [Internet]. 1997 ;[citado 2024 nov. 05 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43133/tde-07032002-142147/
Artigo de periodico
Distribution of pores in a-Si1-xCx:H thin films (1997)
Prado, Rogerio Junqueira; Bittencourt, Diomar da Rocha Santos; Tabacniks, Manfredo Harri ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Paez Carreño, Marcelo Nelson ; Pereyra, Inés
Source: Journal of Applied Crystallography. Unidades: IF, EP
Assunto: FISICA APLICADA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
PRADO, Rogerio Junqueira et al. Distribution of pores in a-Si1-xCx:H thin films. Journal of Applied Crystallography, v. 30, n. 5, p. 659-663, 1997Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1107/S0021889897001349. Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Prado, R. J., Bittencourt, D. da R. S., Tabacniks, M. H., Fantini, M. C. de A., Paez Carreño, M. N., & Pereyra, I. (1997). Distribution of pores in a-Si1-xCx:H thin films. Journal of Applied Crystallography, 30( 5), 659-663. doi:10.1107/S0021889897001349
NLM
Prado RJ, Bittencourt D da RS, Tabacniks MH, Fantini MC de A, Paez Carreño MN, Pereyra I. Distribution of pores in a-Si1-xCx:H thin films [Internet]. Journal of Applied Crystallography. 1997 ; 30( 5): 659-663.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1107/S0021889897001349
Vancouver
Prado RJ, Bittencourt D da RS, Tabacniks MH, Fantini MC de A, Paez Carreño MN, Pereyra I. Distribution of pores in a-Si1-xCx:H thin films [Internet]. Journal of Applied Crystallography. 1997 ; 30( 5): 659-663.[citado 2024 nov. 05 ] Available from: https://doi.org/10.1107/S0021889897001349
Trabalho de evento-resumo
Distribuicao de poros em 'A-SI IND.1-X''c ind.X: h' obtido por pecvd (1996)
Prado, Rogerio Junqueira; Bittencourt, Diomar da Rocha Santos; Tabacniks, Manfredo Harri ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Paez Carreño, Marcelo Nelson ; Pereyra, Inés
Source: Resumos. Conference titles: Encontro Nacional de Fisica da Materia Condensada. Unidades: IF, EP
Assunto: MATÉRIA CONDENSADA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
PRADO, Rogerio Junqueira et al. Distribuicao de poros em 'A-SI IND.1-X''c ind.X: h' obtido por pecvd. 1996, Anais.. São Paulo: Sociedade Brasileira de Fisica, 1996. . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Prado, R. J., Bittencourt, D. da R. S., Tabacniks, M. H., Fantini, M. C. de A., Paez Carreño, M. N., & Pereyra, I. (1996). Distribuicao de poros em 'A-SI IND.1-X''c ind.X: h' obtido por pecvd. In Resumos. São Paulo: Sociedade Brasileira de Fisica.
NLM
Prado RJ, Bittencourt D da RS, Tabacniks MH, Fantini MC de A, Paez Carreño MN, Pereyra I. Distribuicao de poros em 'A-SI IND.1-X''c ind.X: h' obtido por pecvd. Resumos. 1996 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Prado RJ, Bittencourt D da RS, Tabacniks MH, Fantini MC de A, Paez Carreño MN, Pereyra I. Distribuicao de poros em 'A-SI IND.1-X''c ind.X: h' obtido por pecvd. Resumos. 1996 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Trabalho de evento-resumo
Analise do espectro vibracional de ligas de silicio-carbono de composicao variavel (1996)
Prado, Rogerio Junqueira; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Tabacniks, Manfredo Harri ; Pereyra, Inés ; Paez Carreño, Marcelo Nelson
Source: Resumos. Conference titles: Encontro Nacional de Fisica da Materia Condensada. Unidades: IF, EP
Assunto: MATÉRIA CONDENSADA
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ABNT
PRADO, Rogerio Junqueira et al. Analise do espectro vibracional de ligas de silicio-carbono de composicao variavel. 1996, Anais.. São Paulo: Sociedade Brasileira de Fisica, 1996. . Acesso em: 05 nov. 2024.
APA
Prado, R. J., Fantini, M. C. de A., Tabacniks, M. H., Pereyra, I., & Paez Carreño, M. N. (1996). Analise do espectro vibracional de ligas de silicio-carbono de composicao variavel. In Resumos. São Paulo: Sociedade Brasileira de Fisica.
NLM
Prado RJ, Fantini MC de A, Tabacniks MH, Pereyra I, Paez Carreño MN. Analise do espectro vibracional de ligas de silicio-carbono de composicao variavel. Resumos. 1996 ;[citado 2024 nov. 05 ]
Vancouver
Prado RJ, Fantini MC de A, Tabacniks MH, Pereyra I, Paez Carreño MN. Analise do espectro vibracional de ligas de silicio-carbono de composicao variavel. Resumos. 1996 ;[citado 2024 nov. 05 ]

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