Combination of x-ray absorption spectroscopy and Rutherford backscattering for the analysis of amorphous Si-based thin films (2000)
- Authors:
- USP affiliated authors: FANTINI, MARCIA CARVALHO DE ABREU - IF ; TABACNIKS, MANFREDO HARRI - IF
- Unidade: IF
- Assunto: FÍSICA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Conference titles: Seminário Latino-Americano de Análises por Técnicas de Raios X
-
ABNT
FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu; PRADO, Rogerio Junqueira; SCOPEL, Wanderla Luis; TABACNIKS, Manfredo Harri. Combination of x-ray absorption spectroscopy and Rutherford backscattering for the analysis of amorphous Si-based thin films. Anais.. São Pedro: [s.n.], 2000. -
APA
Fantini, M. C. de A., Prado, R. J., Scopel, W. L., & Tabacniks, M. H. (2000). Combination of x-ray absorption spectroscopy and Rutherford backscattering for the analysis of amorphous Si-based thin films. In . São Pedro. -
NLM
Fantini MC de A, Prado RJ, Scopel WL, Tabacniks MH. Combination of x-ray absorption spectroscopy and Rutherford backscattering for the analysis of amorphous Si-based thin films. 2000 ; -
Vancouver
Fantini MC de A, Prado RJ, Scopel WL, Tabacniks MH. Combination of x-ray absorption spectroscopy and Rutherford backscattering for the analysis of amorphous Si-based thin films. 2000 ; - Electronic structure of 'Li IND.X'Ni'O IND.Y' thin films
- Electronic structure of 'Li IND.X''NiO IND.Y' thin films
- Estrutura e propriedades eletrocrômicas de filmes finos de óxido de vanádio depositados por rf-sputtering
- Filmes eletrocromicos de 'NIO IND.X' depositados pou 'rf- sputtering
- Analise do espectro vibracional de ligas de silicio-carbono de composicao variavel
- Intercalação de lítio em filmes finos de óxido de milibdênio
- Intercalacao em filmes finos amorfos de 'V IND.2''O IND.5'
- Estrutura eletrônica de filmes finos de Mo'O IND.X' e 'Li IND.X' Ni'O IND.Y'
- Radio-frequency reactively sputtered 'VO IND.X' thin films deposited at different oxygen flows
- Toward efficient electrochromic 'NiO IND.X' Films: a study of microstructure, morphology, and stoichiometry of radio frequency sputtered films
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas