Electrochromic nickel oxide thin films deposited under different sputtering conditions (1996)
- Authors:
- USP affiliated authors: TABACNIKS, MANFREDO HARRI - IF ; FANTINI, MARCIA CARVALHO DE ABREU - IF
- Unidade: IF
- DOI: 10.1016/0167-2738(96)00236-6
- Subjects: FÍSICA NUCLEAR; FILMES FINOS; NÍQUEL; ELETROQUÍMICA; DIFRAÇÃO POR RAIOS X
- Keywords: Electrochromic films; Sputtering; Nickel oxide
- Agências de fomento:
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Solid State Ionics
- ISSN: 0167-2738
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 86-88, parte 2, p. 971-976, julho 1996, Article; Proceedings Paper
- Conference titles: International Conference on Solid State Ionics
- Este artigo NÃO possui versão em acesso aberto
-
Status: Nenhuma versão em acesso aberto identificada -
ABNT
FERREIRA, F. F. et al. Electrochromic nickel oxide thin films deposited under different sputtering conditions. Solid State Ionics. Amsterdam: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Disponível em: https://doi.org/10.1016/0167-2738(96)00236-6. Acesso em: 11 mar. 2026. , 1996 -
APA
Ferreira, F. F., Tabacniks, M. H., Fantini, M. C. de A., Faria, I. C., & Gorenstein, A. (1996). Electrochromic nickel oxide thin films deposited under different sputtering conditions. Solid State Ionics. Amsterdam: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. doi:10.1016/0167-2738(96)00236-6 -
NLM
Ferreira FF, Tabacniks MH, Fantini MC de A, Faria IC, Gorenstein A. Electrochromic nickel oxide thin films deposited under different sputtering conditions [Internet]. Solid State Ionics. 1996 ; 86-88 971-976.[citado 2026 mar. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0167-2738(96)00236-6 -
Vancouver
Ferreira FF, Tabacniks MH, Fantini MC de A, Faria IC, Gorenstein A. Electrochromic nickel oxide thin films deposited under different sputtering conditions [Internet]. Solid State Ionics. 1996 ; 86-88 971-976.[citado 2026 mar. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0167-2738(96)00236-6 - Propriedades químicas, morfológicas e estruturais de filmes finos amorfos hidrogenados de oxinitreto de silício
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