ReP USP - Resultado da busca

Trabalho de evento
Novel Si field emission devices fabrication method based on HI-PS technique for gas sensors development (2008)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Kopelvski, Maycon Max ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: Proceedings. Nome do evento: International Meeting on Chemical Sensors. Unidade: EP
Assunto: SENSORES QUÍMICOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Novel Si field emission devices fabrication method based on HI-PS technique for gas sensors development. 2008, Anais.. Columbus: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo, 2008. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., Kopelvski, M. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2008). Novel Si field emission devices fabrication method based on HI-PS technique for gas sensors development. In Proceedings. Columbus: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo.
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Kopelvski MM, Ramírez Fernandez FJ. Novel Si field emission devices fabrication method based on HI-PS technique for gas sensors development. Proceedings. 2008 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Kopelvski MM, Ramírez Fernandez FJ. Novel Si field emission devices fabrication method based on HI-PS technique for gas sensors development. Proceedings. 2008 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Trabalho de evento
Silicon microtips sharpening method for field emission applications (2008)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: IBERSENSOR 2008: Anais. Nome do evento: Ibero-American Congress on Sensors. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Silicon microtips sharpening method for field emission applications. 2008, Anais.. São Paulo: IPT, 2008. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2008). Silicon microtips sharpening method for field emission applications. In IBERSENSOR 2008: Anais. São Paulo: IPT.
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon microtips sharpening method for field emission applications. IBERSENSOR 2008: Anais. 2008 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon microtips sharpening method for field emission applications. IBERSENSOR 2008: Anais. 2008 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Tese (Doutorado)
Desenvolvimento de dispositivos de emissão por efeito de campo elétrico fabricados pela técnica HI-PS (2008)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete (Orientador)
Unidade: EP
Assuntos: SILÍCIO, FABRICAÇÃO (MICROELETRÔNICA)
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva. Desenvolvimento de dispositivos de emissão por efeito de campo elétrico fabricados pela técnica HI-PS. 2008. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01102008-103027/. Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S. (2008). Desenvolvimento de dispositivos de emissão por efeito de campo elétrico fabricados pela técnica HI-PS (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01102008-103027/
NLM
Dantas MO da S. Desenvolvimento de dispositivos de emissão por efeito de campo elétrico fabricados pela técnica HI-PS [Internet]. 2008 ;[citado 2024 nov. 01 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01102008-103027/
Vancouver
Dantas MO da S. Desenvolvimento de dispositivos de emissão por efeito de campo elétrico fabricados pela técnica HI-PS [Internet]. 2008 ;[citado 2024 nov. 01 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01102008-103027/
Artigo de periodico
Silicon field-emission devices fabricated using the hydrogen implantation-porous silicon (HI-PS) micromachining technique (2008)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Kopelvski, Maycon Max ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: Journal of Microelectrochemical Systems. Unidade: EP
Assuntos: SEMICONDUTORES, SILÍCIO
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Silicon field-emission devices fabricated using the hydrogen implantation-porous silicon (HI-PS) micromachining technique. Journal of Microelectrochemical Systems, v. 17, n. 5, p. 1263-1269, 2008Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1109/JMEMS.2008.927743. Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., Kopelvski, M. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2008). Silicon field-emission devices fabricated using the hydrogen implantation-porous silicon (HI-PS) micromachining technique. Journal of Microelectrochemical Systems, 17( 5), 1263-1269. doi:10.1109/JMEMS.2008.927743
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Kopelvski MM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon field-emission devices fabricated using the hydrogen implantation-porous silicon (HI-PS) micromachining technique [Internet]. Journal of Microelectrochemical Systems. 2008 ; 17( 5): 1263-1269.[citado 2024 nov. 01 ] Available from: https://doi.org/10.1109/JMEMS.2008.927743
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Kopelvski MM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon field-emission devices fabricated using the hydrogen implantation-porous silicon (HI-PS) micromachining technique [Internet]. Journal of Microelectrochemical Systems. 2008 ; 17( 5): 1263-1269.[citado 2024 nov. 01 ] Available from: https://doi.org/10.1109/JMEMS.2008.927743
Trabalho de evento
Silicon microtips arrays fabricated by HI-PS technique for application in field emission devices (2007)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Kopelvski, Maycon Max ; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: SBMicro 2007. Nome do evento: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Silicon microtips arrays fabricated by HI-PS technique for application in field emission devices. 2007, Anais.. Pennington: The Electrochemical Society, 2007. Disponível em: https://doi.org/10.1149/1.2766920. Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Kopelvski, M. M., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2007). Silicon microtips arrays fabricated by HI-PS technique for application in field emission devices. In SBMicro 2007. Pennington: The Electrochemical Society. doi:10.1149/1.2766920
NLM
Dantas MO da S, Kopelvski MM, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon microtips arrays fabricated by HI-PS technique for application in field emission devices [Internet]. SBMicro 2007. 2007 ;[citado 2024 nov. 01 ] Available from: https://doi.org/10.1149/1.2766920
Vancouver
Dantas MO da S, Kopelvski MM, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon microtips arrays fabricated by HI-PS technique for application in field emission devices [Internet]. SBMicro 2007. 2007 ;[citado 2024 nov. 01 ] Available from: https://doi.org/10.1149/1.2766920
Dissertação (Mestrado)
Obtenção de microestruturas de silício utilizando a tecnologia do silício poroso como camada sacrificial (2003)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete (Orientador)
Unidade: EP
Assuntos: SILÍCIO, CIRCUITOS INTEGRADOS, ANODIZAÇÃO
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva. Obtenção de microestruturas de silício utilizando a tecnologia do silício poroso como camada sacrificial. 2003. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2003. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-02102024-103553/pt-br.php. Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S. (2003). Obtenção de microestruturas de silício utilizando a tecnologia do silício poroso como camada sacrificial (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-02102024-103553/pt-br.php
NLM
Dantas MO da S. Obtenção de microestruturas de silício utilizando a tecnologia do silício poroso como camada sacrificial [Internet]. 2003 ;[citado 2024 nov. 01 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-02102024-103553/pt-br.php
Vancouver
Dantas MO da S. Obtenção de microestruturas de silício utilizando a tecnologia do silício poroso como camada sacrificial [Internet]. 2003 ;[citado 2024 nov. 01 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-02102024-103553/pt-br.php
Parte de monografia/livro
Electrochemical process for silicon tips fabrication (2003)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Nome do evento: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2003, São Paulo /. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Electrochemical process for silicon tips fabrication. Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Tradução . Pennington: Electrochemical Society, 2003. . . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2003). Electrochemical process for silicon tips fabrication. In Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society.
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Electrochemical process for silicon tips fabrication. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society; 2003. [citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Electrochemical process for silicon tips fabrication. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003. Pennington: Electrochemical Society; 2003. [citado 2024 nov. 01 ]
Parte de monografia/livro
Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication (2003)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003: proceedings. Nome do evento: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2003, São Paulo /. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003: proceedings. Tradução . Pennington: Electrochemical Society, 2003. . . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2003). Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. In Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003: proceedings. Pennington: Electrochemical Society.
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003: proceedings. Pennington: Electrochemical Society; 2003. [citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. In: Microelectronic Technology and Devices SBMicro 2003: proceedings. Pennington: Electrochemical Society; 2003. [citado 2024 nov. 01 ]
Relatorio tecnico
Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication (2003)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Unidade: EP
Assuntos: MICROELETRÔNICA, SILÍCIO
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 01 nov. 2024. , 2003
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2003). Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. São Paulo: EPUSP.
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. 2003 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. 2003 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Artigo de periodico
Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process (2003)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: IEEE Sensors Journal,. Unidade: EP
Assuntos: NANOTECNOLOGIA, MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process. IEEE Sensors Journal, v. 3, n. 6, 2003Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1109/icsens.2002.1037163. Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2003). Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process. IEEE Sensors Journal,, 3( 6). doi:10.1109/icsens.2002.1037163
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process [Internet]. IEEE Sensors Journal,. 2003 ; 3( 6):[citado 2024 nov. 01 ] Available from: https://doi.org/10.1109/icsens.2002.1037163
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Silicon micromechanical structures fabricated by electrochemical process [Internet]. IEEE Sensors Journal,. 2003 ; 3( 6):[citado 2024 nov. 01 ] Available from: https://doi.org/10.1109/icsens.2002.1037163
Parte de monografia/livro
Porous silicon sacrifical layers applied on micromechanical structures fabrication (2002)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Porous silicon sacrifical layers applied on micromechanical structures fabrication. Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Tradução . Pennington: The Electrochemical Society, 2002. . . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2002). Porous silicon sacrifical layers applied on micromechanical structures fabrication. In Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society.
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon sacrifical layers applied on micromechanical structures fabrication. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002. [citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon sacrifical layers applied on micromechanical structures fabrication. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002. [citado 2024 nov. 01 ]
Trabalho de evento
Electrochemical process for MEMS fabrication (2002)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: IBERSENSOR 2002. Nome do evento: Congreso Iberoamericano de Sensores y Biosensores. Unidade: EP
Assunto: SENSORES ELETROMECÂNICOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Electrochemical process for MEMS fabrication. 2002, Anais.. Lima: Pontifícia Universidad Católica del Perú, 2002. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2002). Electrochemical process for MEMS fabrication. In IBERSENSOR 2002. Lima: Pontifícia Universidad Católica del Perú.
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Electrochemical process for MEMS fabrication. IBERSENSOR 2002. 2002 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Electrochemical process for MEMS fabrication. IBERSENSOR 2002. 2002 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Trabalho de evento
Porous silicon masking by silicon oxide and hydrogen ion implantation (2001)
Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Galeazzo, Elisabete ; Dantas, Michel Oliveira da Silva; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: SBMicro 2001: proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
PERES, Henrique Estanislau Maldonado et al. Porous silicon masking by silicon oxide and hydrogen ion implantation. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Peres, H. E. M., Galeazzo, E., Dantas, M. O. da S., & Ramírez Fernandez, F. J. (2001). Porous silicon masking by silicon oxide and hydrogen ion implantation. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Peres HEM, Galeazzo E, Dantas MO da S, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon masking by silicon oxide and hydrogen ion implantation. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Peres HEM, Galeazzo E, Dantas MO da S, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon masking by silicon oxide and hydrogen ion implantation. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Trabalho de evento-resumo
Obtenção do silício poroso em áreas seletivas (2000)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete
Fonte: SICUSP : Resumos. Nome do evento: Simpósio Internacional de Iniciação Científica da USP. Unidade: EP
Assunto: MATERIAIS ELETRÔNICOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva e GALEAZZO, Elisabete. Obtenção do silício poroso em áreas seletivas. 2000, Anais.. São Paulo: USP, 2000. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S., & Galeazzo, E. (2000). Obtenção do silício poroso em áreas seletivas. In SICUSP : Resumos. São Paulo: USP.
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E. Obtenção do silício poroso em áreas seletivas. SICUSP : Resumos. 2000 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E. Obtenção do silício poroso em áreas seletivas. SICUSP : Resumos. 2000 ;[citado 2024 nov. 01 ]

Unidades USP

ReP

Filtros

Tipo de material

Ano de publicação

Assuntos

Título da fonte

Editora

Nome do evento