Contamination due to memory effects in filtered vacuum arc plasma deposition systems (2002)
- Authors:
- USP affiliated authors: SALVADORI, MARIA CECILIA BARBOSA DA S - IF ; VERDONCK, PATRICK BERNARD - EP
- Unidades: IF; EP
- DOI: 10.1063/1.1506019
- Subjects: VÁCUO; FÍSICA DE PLASMAS; FILMES FINOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Applied Physics Letters
- ISSN: 0003-6951
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 81, n. 11, p. 1969-1971, 2002
- Status:
- Artigo possui versão em acesso aberto em repositório (Green Open Access)
- Versão do Documento:
- Versão submetida (Pré-print)
- Acessar versão aberta:
-
ABNT
MARTINS, Deilton Reis et al. Contamination due to memory effects in filtered vacuum arc plasma deposition systems. Applied Physics Letters, v. 81, n. 11, p. 1969-1971, 2002Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1063/1.1506019. Acesso em: 11 abr. 2026. -
APA
Martins, D. R., Salvadori, M. C. B. da S., Verdonck, P. B., & Brown, I. G. (2002). Contamination due to memory effects in filtered vacuum arc plasma deposition systems. Applied Physics Letters, 81( 11), 1969-1971. doi:10.1063/1.1506019 -
NLM
Martins DR, Salvadori MCB da S, Verdonck PB, Brown IG. Contamination due to memory effects in filtered vacuum arc plasma deposition systems [Internet]. Applied Physics Letters. 2002 ; 81( 11): 1969-1971.[citado 2026 abr. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.1506019 -
Vancouver
Martins DR, Salvadori MCB da S, Verdonck PB, Brown IG. Contamination due to memory effects in filtered vacuum arc plasma deposition systems [Internet]. Applied Physics Letters. 2002 ; 81( 11): 1969-1971.[citado 2026 abr. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1063/1.1506019 - Diamond microstructures fabricated using silicon molds
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