Projeto e caracterização de um gerador de baixas frequências aplicado à corrosão por plasma (1995)
- Authors:
- USP affiliated authors: VERDONCK, PATRICK BERNARD - EP ; PISANI, MARCELO BENTO - IF ; MANSANO, RONALDO DOMINGUES - EP
- Unidades: EP; IF
- Assunto: VÁCUO
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: Sbv/Unicamp/Unb
- Publisher place: Brasília
- Date published: 1995
- Source:
- Título: Resumos
- Conference titles: Congresso de Aplicacoes de Vacuo Na Industria e Na Ciencia
-
ABNT
PISANI, Marcelo Bento e MANSANO, Ronaldo Domingues e VERDONCK, Patrick Bernard. Projeto e caracterização de um gerador de baixas frequências aplicado à corrosão por plasma. 1995, Anais.. Brasília: Sbv/Unicamp/Unb, 1995. . Acesso em: 10 fev. 2026. -
APA
Pisani, M. B., Mansano, R. D., & Verdonck, P. B. (1995). Projeto e caracterização de um gerador de baixas frequências aplicado à corrosão por plasma. In Resumos. Brasília: Sbv/Unicamp/Unb. -
NLM
Pisani MB, Mansano RD, Verdonck PB. Projeto e caracterização de um gerador de baixas frequências aplicado à corrosão por plasma. Resumos. 1995 ;[citado 2026 fev. 10 ] -
Vancouver
Pisani MB, Mansano RD, Verdonck PB. Projeto e caracterização de um gerador de baixas frequências aplicado à corrosão por plasma. Resumos. 1995 ;[citado 2026 fev. 10 ] - Complex-amplitude modulation diffractive optical element performed by aperture variations on a reflective aluminum layer deposited over a variable thickness SiO2 substrate
- High-density plasma chemical vapor deposition of amorphous carbon films
- The influence of additives on electrical characteristics of DLC films deposited by reactive sputtering
- Diamond like-carbon microoptics elements
- Corrosão por plasma para aplicações em micromecânica
- Desenvolvimento de um processo de corrosao de aluminio por plasma de cc14+n2
- Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures
- Medidas elétricas de RF em reatores de processamento a plasma
- Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas
- Silicon surface roughness induced by SF6-based reactive ion etching processes for micromachining applications
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
