Analysis of the mean crystallite size and microstress in titanium silicide thin films (1992)
- Authors:
- USP affiliated authors: SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP ; MORIMOTO, NILTON ITIRO - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1016/0169-4332(89)90517-5
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Journal of Vacuum Science and Technology. B. Microelectronics Processing and Phenomena
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 10, n. 2 , p. 586-590, mar./abr. 1992
- Status:
- Nenhuma versão em acesso aberto identificada
-
ABNT
MORIMOTO, Nilton Itiro e SWART, Jacobus Willibrordus e RIELLA, Humberto Gracher. Analysis of the mean crystallite size and microstress in titanium silicide thin films. Journal of Vacuum Science and Technology. B. Microelectronics Processing and Phenomena, v. 10, n. 2 , p. 586-590, 1992Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/0169-4332(89)90517-5. Acesso em: 10 abr. 2026. -
APA
Morimoto, N. I., Swart, J. W., & Riella, H. G. (1992). Analysis of the mean crystallite size and microstress in titanium silicide thin films. Journal of Vacuum Science and Technology. B. Microelectronics Processing and Phenomena, 10( 2 ), 586-590. doi:10.1016/0169-4332(89)90517-5 -
NLM
Morimoto NI, Swart JW, Riella HG. Analysis of the mean crystallite size and microstress in titanium silicide thin films [Internet]. Journal of Vacuum Science and Technology. B. Microelectronics Processing and Phenomena. 1992 ; 10( 2 ): 586-590.[citado 2026 abr. 10 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0169-4332(89)90517-5 -
Vancouver
Morimoto NI, Swart JW, Riella HG. Analysis of the mean crystallite size and microstress in titanium silicide thin films [Internet]. Journal of Vacuum Science and Technology. B. Microelectronics Processing and Phenomena. 1992 ; 10( 2 ): 586-590.[citado 2026 abr. 10 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0169-4332(89)90517-5 - Caracterização experimental e análise da formação de filme de siliceto de titânio por técnicas de difração de raios-x
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