Chemical etching of tungsten with nf3 - 02 plasmas (1992)
- Authors:
- USP affiliated authors: SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP ; VERDONCK, PATRICK BERNARD - EP
- Unidade: EP
- Subjects: TUNGSTÊNIO; SEMICONDUTORES
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Resumos
- Conference titles: Congresso Brasileiro de Aplicações de Vácuo na Indústria e na Ciência
-
ABNT
VERDONCK, Patrick Bernard e BRASSEUR, G e SWART, Jacobus Willibrordus. Chemical etching of tungsten with nf3 - 02 plasmas. 1992, Anais.. Campinas: Unicamp, 1992. . Acesso em: 13 fev. 2026. -
APA
Verdonck, P. B., Brasseur, G., & Swart, J. W. (1992). Chemical etching of tungsten with nf3 - 02 plasmas. In Resumos. Campinas: Unicamp. -
NLM
Verdonck PB, Brasseur G, Swart JW. Chemical etching of tungsten with nf3 - 02 plasmas. Resumos. 1992 ;[citado 2026 fev. 13 ] -
Vancouver
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