Experimental study of lateral growth of titanium silicide (1990)
- Authors:
- USP affiliated authors: SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP ; OKA, MAURICIO MASSAZUMI - EP
- Unidade: EP
- Assunto: SEMICONDUTORES
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher: Sbmicro/Spie
- Publisher place: Campinas
- Date published: 1990
- Source:
- Título do periódico: Anais
- Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica
-
ABNT
OKA, Mauricio Massazumi e SWART, Jacobus Willibrordus. Experimental study of lateral growth of titanium silicide. 1990, Anais.. Campinas: Sbmicro/Spie, 1990. . Acesso em: 20 abr. 2024. -
APA
Oka, M. M., & Swart, J. W. (1990). Experimental study of lateral growth of titanium silicide. In Anais. Campinas: Sbmicro/Spie. -
NLM
Oka MM, Swart JW. Experimental study of lateral growth of titanium silicide. Anais. 1990 ;[citado 2024 abr. 20 ] -
Vancouver
Oka MM, Swart JW. Experimental study of lateral growth of titanium silicide. Anais. 1990 ;[citado 2024 abr. 20 ] - Estudo do crescimento lateral do siliceto de 'CO' formado por rtr (recozimento termico rapido)
- Six sigma method applied for reflow soldering process in SMT (surface Mount Technology)
- Estudo do crescimento lateral de silicetos e formacao do siliceto de cobalto sobre silicio altamente dopado
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