Analysis of the mean crystallite size and microstress in titanium silicide thin films (1989)
- Authors:
- USP affiliated authors: SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP ; MORIMOTO, NILTON ITIRO - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1016/0169-4332(89)90517-5
- Assunto: FILMES FINOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Applied Surface Science
- Volume/Número/Paginação/Ano: v.38, n.1-4, p.48, sep. 1989
- Este periódico é de acesso aberto
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
-
ABNT
MORIMOTO, Nilton Itiro e SWART, Jacobus Willibrordus e RIELLA, Humberto Gracher. Analysis of the mean crystallite size and microstress in titanium silicide thin films. Applied Surface Science, v. 38, n. 1-4, p. se 1989, 1989Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/0169-4332(89)90517-5. Acesso em: 13 fev. 2026. -
APA
Morimoto, N. I., Swart, J. W., & Riella, H. G. (1989). Analysis of the mean crystallite size and microstress in titanium silicide thin films. Applied Surface Science, 38( 1-4), se 1989. doi:10.1016/0169-4332(89)90517-5 -
NLM
Morimoto NI, Swart JW, Riella HG. Analysis of the mean crystallite size and microstress in titanium silicide thin films [Internet]. Applied Surface Science. 1989 ;38( 1-4): se 1989.[citado 2026 fev. 13 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0169-4332(89)90517-5 -
Vancouver
Morimoto NI, Swart JW, Riella HG. Analysis of the mean crystallite size and microstress in titanium silicide thin films [Internet]. Applied Surface Science. 1989 ;38( 1-4): se 1989.[citado 2026 fev. 13 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0169-4332(89)90517-5 - Caracterização experimental e análise da formação de filme de siliceto de titânio por técnicas de difração de raios-x
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Informações sobre o DOI: 10.1016/0169-4332(89)90517-5 (Fonte: oaDOI API)
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