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Artigo de periodico
Effects of the methane content on the characteristics of diamond-like carbon films produced by sputtering (2000)
Mansano, Ronaldo Domingues ; Massi, Marcos; Zambom, Luís da Silva ; Verdonck, Patrick Bernard; Nogueira, P. M.; Maciel, H. S.; Otani, Choyu
Source: Thin Solid Films. Unidade: EP
Assunto: FILMES
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ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues et al. Effects of the methane content on the characteristics of diamond-like carbon films produced by sputtering. Thin Solid Films, n. 373, p. 243-246, 2000Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(00)01088-9. Acesso em: 26 ago. 2024.
APA
Mansano, R. D., Massi, M., Zambom, L. da S., Verdonck, P. B., Nogueira, P. M., Maciel, H. S., & Otani, C. (2000). Effects of the methane content on the characteristics of diamond-like carbon films produced by sputtering. Thin Solid Films, ( 373), 243-246. doi:10.1016/s0040-6090(00)01088-9
NLM
Mansano RD, Massi M, Zambom L da S, Verdonck PB, Nogueira PM, Maciel HS, Otani C. Effects of the methane content on the characteristics of diamond-like carbon films produced by sputtering [Internet]. Thin Solid Films. 2000 ;( 373): 243-246.[citado 2024 ago. 26 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(00)01088-9
Vancouver
Mansano RD, Massi M, Zambom L da S, Verdonck PB, Nogueira PM, Maciel HS, Otani C. Effects of the methane content on the characteristics of diamond-like carbon films produced by sputtering [Internet]. Thin Solid Films. 2000 ;( 373): 243-246.[citado 2024 ago. 26 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(00)01088-9
Trabalho de evento
Isotropic etching of deep trenches in silicon (1996)
Mansano, Ronaldo Domingues ; Verdonck, Patrick Bernard; Maciel, H. S.
Source: Proceedings. Conference titles: Conference on the Brazilian Microelectronics Society. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
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ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues e VERDONCK, Patrick Bernard e MACIEL, H. S. Isotropic etching of deep trenches in silicon. 1996, Anais.. São Paulo: Sbmicro, 1996. . Acesso em: 26 ago. 2024.
APA
Mansano, R. D., Verdonck, P. B., & Maciel, H. S. (1996). Isotropic etching of deep trenches in silicon. In Proceedings. São Paulo: Sbmicro.
NLM
Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS. Isotropic etching of deep trenches in silicon. Proceedings. 1996 ;[citado 2024 ago. 26 ]
Vancouver
Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS. Isotropic etching of deep trenches in silicon. Proceedings. 1996 ;[citado 2024 ago. 26 ]
Artigo de periodico
Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas (1996)
Mansano, Ronaldo Domingues ; Verdonck, Patrick Bernard; Maciel, H. S.
Source: Applied Surface Science. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues e VERDONCK, Patrick Bernard e MACIEL, H. S. Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas. Applied Surface Science, v. 100-1, p. 583-6, 1996Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/0169-4332(96)00343-1. Acesso em: 26 ago. 2024.
APA
Mansano, R. D., Verdonck, P. B., & Maciel, H. S. (1996). Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas. Applied Surface Science, 100-1, 583-6. doi:10.1016/0169-4332(96)00343-1
NLM
Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS. Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas [Internet]. Applied Surface Science. 1996 ;100-1 583-6.[citado 2024 ago. 26 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0169-4332(96)00343-1
Vancouver
Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS. Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas [Internet]. Applied Surface Science. 1996 ;100-1 583-6.[citado 2024 ago. 26 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0169-4332(96)00343-1
Trabalho de evento-resumo
Mechanisms of surface roughness induced in silicon by fluorine containing plasmas (1996)
Mansano, Ronaldo Domingues ; Verdonck, Patrick Bernard; Maciel, H. S.
Source: Abstracts Book. Conference titles: International Conference on Thin Films. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues e VERDONCK, Patrick Bernard e MACIEL, H. S. Mechanisms of surface roughness induced in silicon by fluorine containing plasmas. 1996, Anais.. Madrid: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo, 1996. . Acesso em: 26 ago. 2024.
APA
Mansano, R. D., Verdonck, P. B., & Maciel, H. S. (1996). Mechanisms of surface roughness induced in silicon by fluorine containing plasmas. In Abstracts Book. Madrid: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo.
NLM
Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS. Mechanisms of surface roughness induced in silicon by fluorine containing plasmas. Abstracts Book. 1996 ;[citado 2024 ago. 26 ]
Vancouver
Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS. Mechanisms of surface roughness induced in silicon by fluorine containing plasmas. Abstracts Book. 1996 ;[citado 2024 ago. 26 ]
Trabalho de evento
Dry etching of resist for three level resist process using statistical design of experiments (1995)
Mansano, Ronaldo Domingues ; Verdonck, Patrick Bernard; Maciel, H. S.
Source: Proceedings. Conference titles: Congress of the Brazilian Microelectronics Society. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues e VERDONCK, Patrick Bernard e MACIEL, H. S. Dry etching of resist for three level resist process using statistical design of experiments. 1995, Anais.. Porto Alegre: Instituto de Informatica da Ufrgs, 1995. . Acesso em: 26 ago. 2024.
APA
Mansano, R. D., Verdonck, P. B., & Maciel, H. S. (1995). Dry etching of resist for three level resist process using statistical design of experiments. In Proceedings. Porto Alegre: Instituto de Informatica da Ufrgs.
NLM
Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS. Dry etching of resist for three level resist process using statistical design of experiments. Proceedings. 1995 ;[citado 2024 ago. 26 ]
Vancouver
Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS. Dry etching of resist for three level resist process using statistical design of experiments. Proceedings. 1995 ;[citado 2024 ago. 26 ]
Relatorio tecnico
Modelamento da corrosao de resiste por plasma usando o metodo de superficie de resposta (1995)
Mansano, Ronaldo Domingues ; Maciel, H. S.
Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues e MACIEL, H. S. Modelamento da corrosao de resiste por plasma usando o metodo de superficie de resposta. . São Paulo: Epusp. . Acesso em: 26 ago. 2024. , 1995
APA
Mansano, R. D., & Maciel, H. S. (1995). Modelamento da corrosao de resiste por plasma usando o metodo de superficie de resposta. São Paulo: Epusp.
NLM
Mansano RD, Maciel HS. Modelamento da corrosao de resiste por plasma usando o metodo de superficie de resposta. 1995 ;[citado 2024 ago. 26 ]
Vancouver
Mansano RD, Maciel HS. Modelamento da corrosao de resiste por plasma usando o metodo de superficie de resposta. 1995 ;[citado 2024 ago. 26 ]
Trabalho de evento-resumo
Obtencao de um processo de litografia de multicamadas (1993)
Mansano, Ronaldo Domingues ; Yunaka, N T; Verdonck, Patrick Bernard; Maciel, H. S.
Source: Resumos. Conference titles: Congresso Brasileiro de Aplicacoes de Vacuo Na Industria e Na Ciencia. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues et al. Obtencao de um processo de litografia de multicamadas. 1993, Anais.. Recife: Ufpe, 1993. . Acesso em: 26 ago. 2024.
APA
Mansano, R. D., Yunaka, N. T., Verdonck, P. B., & Maciel, H. S. (1993). Obtencao de um processo de litografia de multicamadas. In Resumos. Recife: Ufpe.
NLM
Mansano RD, Yunaka NT, Verdonck PB, Maciel HS. Obtencao de um processo de litografia de multicamadas. Resumos. 1993 ;[citado 2024 ago. 26 ]
Vancouver
Mansano RD, Yunaka NT, Verdonck PB, Maciel HS. Obtencao de um processo de litografia de multicamadas. Resumos. 1993 ;[citado 2024 ago. 26 ]

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