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Relatorio tecnico
Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasmas acoplado indutivamente (ICP-CVD) (2003)
Torres, Ani Sobral; Mansano, Ronaldo Domingues
Unidade: EP
Subjects: PLASMA (MICROELETRÔNICA), SILÍCIO
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ABNT
TORRES, Ani Sobral e MANSANO, Ronaldo Domingues. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasmas acoplado indutivamente (ICP-CVD). . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 02 nov. 2024. , 2003
APA
Torres, A. S., & Mansano, R. D. (2003). Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasmas acoplado indutivamente (ICP-CVD). São Paulo: EPUSP.
NLM
Torres AS, Mansano RD. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasmas acoplado indutivamente (ICP-CVD). 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Torres AS, Mansano RD. Deposição química a vapor de óxido de silício assistida por plasmas acoplado indutivamente (ICP-CVD). 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Dissertação (Mestrado)
Estudo e fabricação de capacitores MOS com camada isolante de SiOxNy depositada por PECVD (2003)
Albertin, Katia Franklin ; Pereyra, Inés (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: CAPACITORES, SILÍCIO, DIELÉTRICOS
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ABNT
ALBERTIN, Katia Franklin. Estudo e fabricação de capacitores MOS com camada isolante de SiOxNy depositada por PECVD. 2003. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2003. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-07052003-144030. Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Albertin, K. F. (2003). Estudo e fabricação de capacitores MOS com camada isolante de SiOxNy depositada por PECVD (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-07052003-144030
NLM
Albertin KF. Estudo e fabricação de capacitores MOS com camada isolante de SiOxNy depositada por PECVD [Internet]. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-07052003-144030
Vancouver
Albertin KF. Estudo e fabricação de capacitores MOS com camada isolante de SiOxNy depositada por PECVD [Internet]. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-07052003-144030
Dissertação (Mestrado)
Obtenção de microestruturas de silício utilizando a tecnologia do silício poroso como camada sacrificial (2003)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: SILÍCIO, CIRCUITOS INTEGRADOS, ANODIZAÇÃO
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ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva. Obtenção de microestruturas de silício utilizando a tecnologia do silício poroso como camada sacrificial. 2003. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2003. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-02102024-103553/pt-br.php. Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Dantas, M. O. da S. (2003). Obtenção de microestruturas de silício utilizando a tecnologia do silício poroso como camada sacrificial (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-02102024-103553/pt-br.php
NLM
Dantas MO da S. Obtenção de microestruturas de silício utilizando a tecnologia do silício poroso como camada sacrificial [Internet]. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-02102024-103553/pt-br.php
Vancouver
Dantas MO da S. Obtenção de microestruturas de silício utilizando a tecnologia do silício poroso como camada sacrificial [Internet]. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-02102024-103553/pt-br.php
Tese (Doutorado)
Desenvolvimento de membranas para sensores de pressão utilizando freamento eletroquímico (2003)
Furlan, Humber; Charry Rodriguez, Edgar (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, SILÍCIO, FILMES FINOS
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ABNT
FURLAN, Humber. Desenvolvimento de membranas para sensores de pressão utilizando freamento eletroquímico. 2003. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2003. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Furlan, H. (2003). Desenvolvimento de membranas para sensores de pressão utilizando freamento eletroquímico (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM
Furlan H. Desenvolvimento de membranas para sensores de pressão utilizando freamento eletroquímico. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Furlan H. Desenvolvimento de membranas para sensores de pressão utilizando freamento eletroquímico. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Tese (Doutorado)
Estudo da viabilidade técnica da utilização de microcanais para concentração de produtos químicos (2003)
Souza, Silvana Gasparotto de; Furlan, Rogério (Orientador) ; Silva, Maria Lucia Pereira da (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: SILÍCIO, MICROELETRÔNICA, PRODUTOS QUÍMICOS (CONCENTRAÇÃO)
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ABNT
SOUZA, Silvana Gasparotto de. Estudo da viabilidade técnica da utilização de microcanais para concentração de produtos químicos. 2003. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2003. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Souza, S. G. de. (2003). Estudo da viabilidade técnica da utilização de microcanais para concentração de produtos químicos (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM
Souza SG de. Estudo da viabilidade técnica da utilização de microcanais para concentração de produtos químicos. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Souza SG de. Estudo da viabilidade técnica da utilização de microcanais para concentração de produtos químicos. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Dissertação (Mestrado)
Estimativas de desempenho de estruturas de comunicação para projetos de sistemas-sobre-silicio (2003)
Eslava Garzon, Johan Sebastian; Strum, Marius (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: CIRCUITOS INTEGRADOS, SILÍCIO, AVALIAÇÃO DE DESEMPENHO
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ABNT
ESLAVA GARZON, Johan Sebastian. Estimativas de desempenho de estruturas de comunicação para projetos de sistemas-sobre-silicio. 2003. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2003. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Eslava Garzon, J. S. (2003). Estimativas de desempenho de estruturas de comunicação para projetos de sistemas-sobre-silicio (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM
Eslava Garzon JS. Estimativas de desempenho de estruturas de comunicação para projetos de sistemas-sobre-silicio. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Eslava Garzon JS. Estimativas de desempenho de estruturas de comunicação para projetos de sistemas-sobre-silicio. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Dissertação (Mestrado)
Estudo da fotoluminescência em filmes de oxinitreto de silício ricos em silício depositados pela técnica de PECVD (2003)
Ribeiro, Márcia; Pereyra, Inés (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: SILÍCIO, FOTOLUMINESCÊNCIA
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ABNT
RIBEIRO, Márcia. Estudo da fotoluminescência em filmes de oxinitreto de silício ricos em silício depositados pela técnica de PECVD. 2003. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2003. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Ribeiro, M. (2003). Estudo da fotoluminescência em filmes de oxinitreto de silício ricos em silício depositados pela técnica de PECVD (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM
Ribeiro M. Estudo da fotoluminescência em filmes de oxinitreto de silício ricos em silício depositados pela técnica de PECVD. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Ribeiro M. Estudo da fotoluminescência em filmes de oxinitreto de silício ricos em silício depositados pela técnica de PECVD. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Dissertação (Mestrado)
Aplicações de silício poroso em sensores de gás (2003)
Santos, Gerson dos; Ramírez Fernandez, Francisco Javier (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: SILÍCIO, ADSORÇÃO, ESPECTROSCOPIA POR ABSORÇÃO ELETRÔNICA
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ABNT
SANTOS, Gerson dos. Aplicações de silício poroso em sensores de gás. 2003. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2003. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Santos, G. dos. (2003). Aplicações de silício poroso em sensores de gás (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM
Santos G dos. Aplicações de silício poroso em sensores de gás. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Santos G dos. Aplicações de silício poroso em sensores de gás. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Artigo de periodico
Use of HMDS/hexane double layers for obtaining low cost selective membrane (2003)
Silva, Maria Lucia Pereira da; Demarquette, Nicole Raymonde ; Tan, Ing Hwie
Source: Cellulose. Unidade: EP
Subjects: SILÍCIO, PLASMA
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ABNT
SILVA, Maria Lucia Pereira da e DEMARQUETTE, Nicole Raymonde e TAN, Ing Hwie. Use of HMDS/hexane double layers for obtaining low cost selective membrane. Cellulose, v. 10, p. 171-178, 2003Tradução . . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Silva, M. L. P. da, Demarquette, N. R., & Tan, I. H. (2003). Use of HMDS/hexane double layers for obtaining low cost selective membrane. Cellulose, 10, 171-178.
NLM
Silva MLP da, Demarquette NR, Tan IH. Use of HMDS/hexane double layers for obtaining low cost selective membrane. Cellulose. 2003 ;10 171-178.[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Silva MLP da, Demarquette NR, Tan IH. Use of HMDS/hexane double layers for obtaining low cost selective membrane. Cellulose. 2003 ;10 171-178.[citado 2024 nov. 02 ]
Dissertação (Mestrado)
Estudo e produção de ligas amorfas hidrogenadas de silício, oxigênio e nitrogênio, (a-SiOxNy:H), com aglomerados de silício, obtidas pela técnica de PECVD (2003)
Oliveira, Ricardo Aparecido Rodrigues de ; Pereyra, Inés (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: FILMES FINOS, SILÍCIO
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
OLIVEIRA, Ricardo Aparecido Rodrigues de. Estudo e produção de ligas amorfas hidrogenadas de silício, oxigênio e nitrogênio, (a-SiOxNy:H), com aglomerados de silício, obtidas pela técnica de PECVD. 2003. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2003. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-02102024-110135/pt-br.php. Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Oliveira, R. A. R. de. (2003). Estudo e produção de ligas amorfas hidrogenadas de silício, oxigênio e nitrogênio, (a-SiOxNy:H), com aglomerados de silício, obtidas pela técnica de PECVD (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-02102024-110135/pt-br.php
NLM
Oliveira RAR de. Estudo e produção de ligas amorfas hidrogenadas de silício, oxigênio e nitrogênio, (a-SiOxNy:H), com aglomerados de silício, obtidas pela técnica de PECVD [Internet]. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-02102024-110135/pt-br.php
Vancouver
Oliveira RAR de. Estudo e produção de ligas amorfas hidrogenadas de silício, oxigênio e nitrogênio, (a-SiOxNy:H), com aglomerados de silício, obtidas pela técnica de PECVD [Internet]. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-02102024-110135/pt-br.php
Relatorio tecnico
Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication (2003)
Dantas, Michel Oliveira da Silva; Galeazzo, Elisabete ; Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Unidade: EP
Subjects: MICROELETRÔNICA, SILÍCIO
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
DANTAS, Michel Oliveira da Silva et al. Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 02 nov. 2024. , 2003
APA
Dantas, M. O. da S., Galeazzo, E., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (2003). Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. São Paulo: EPUSP.
NLM
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Dantas MO da S, Galeazzo E, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Porous silicon processing for enhancing thin silicon membranes fabrication. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Artigo de periodico
Comportamento de diferentes fontes de silicio no solo e na cultura do tomateiro (2003)
Pereira, H. S.; Vitti, Godofredo Cesar; Korndorfer, G. H.
Source: Revista Brasileira de Ciência do Solo. Unidade: ESALQ
Subjects: TOMATE, QUÍMICA DO SOLO, SILÍCIO
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
PEREIRA, H. S. e VITTI, Godofredo Cesar e KORNDORFER, G. H. Comportamento de diferentes fontes de silicio no solo e na cultura do tomateiro. Revista Brasileira de Ciência do Solo, v. jan./fe, n. 1, p. 101-108, 2003Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1590/s0100-06832003000100011. Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Pereira, H. S., Vitti, G. C., & Korndorfer, G. H. (2003). Comportamento de diferentes fontes de silicio no solo e na cultura do tomateiro. Revista Brasileira de Ciência do Solo, jan./fe( 1), 101-108. doi:10.1590/s0100-06832003000100011
NLM
Pereira HS, Vitti GC, Korndorfer GH. Comportamento de diferentes fontes de silicio no solo e na cultura do tomateiro [Internet]. Revista Brasileira de Ciência do Solo. 2003 ; jan./fe( 1): 101-108.[citado 2024 nov. 02 ] Available from: https://doi.org/10.1590/s0100-06832003000100011
Vancouver
Pereira HS, Vitti GC, Korndorfer GH. Comportamento de diferentes fontes de silicio no solo e na cultura do tomateiro [Internet]. Revista Brasileira de Ciência do Solo. 2003 ; jan./fe( 1): 101-108.[citado 2024 nov. 02 ] Available from: https://doi.org/10.1590/s0100-06832003000100011
Relatorio tecnico
Estudo da viabilidade técnica da utilização de microcanais para concentração de produtos químicos (2003)
Souza, Silvana Gasparotto de; Silva, Maria Lucia Pereira da; Furlan, Rogério
Unidade: EP
Subjects: SILÍCIO, MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SOUZA, Silvana Gasparotto de e SILVA, Maria Lucia Pereira da e FURLAN, Rogério. Estudo da viabilidade técnica da utilização de microcanais para concentração de produtos químicos. . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 02 nov. 2024. , 2003
APA
Souza, S. G. de, Silva, M. L. P. da, & Furlan, R. (2003). Estudo da viabilidade técnica da utilização de microcanais para concentração de produtos químicos. São Paulo: EPUSP.
NLM
Souza SG de, Silva MLP da, Furlan R. Estudo da viabilidade técnica da utilização de microcanais para concentração de produtos químicos. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Souza SG de, Silva MLP da, Furlan R. Estudo da viabilidade técnica da utilização de microcanais para concentração de produtos químicos. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Dissertação (Mestrado)
Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD (2003)
Souza, Denise Criado Pereira de ; Pereyra, Inés (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: FILMES FINOS, SILÍCIO
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SOUZA, Denise Criado Pereira de. Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD. 2003. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2003. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09062003-113450/. Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Souza, D. C. P. de. (2003). Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09062003-113450/
NLM
Souza DCP de. Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD [Internet]. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09062003-113450/
Vancouver
Souza DCP de. Estudo e produção de filmes de oxinitreto de silício (SiOxNy) pela técnica de PECVD [Internet]. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09062003-113450/
Dissertação (Mestrado)
Estudo do comportamento elétrico de dispositivos de potência a partir da otimização dos parâmetros de processo de deposição do filme SIPOS obtido por LPCVD (2003)
Alves, Marcelo Faustino; Morimoto, Nilton Itiro (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: SEMICONDUTORES, FILMES FINOS, SILÍCIO
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ALVES, Marcelo Faustino. Estudo do comportamento elétrico de dispositivos de potência a partir da otimização dos parâmetros de processo de deposição do filme SIPOS obtido por LPCVD. 2003. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2003. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-23052003-084613/. Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Alves, M. F. (2003). Estudo do comportamento elétrico de dispositivos de potência a partir da otimização dos parâmetros de processo de deposição do filme SIPOS obtido por LPCVD (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-23052003-084613/
NLM
Alves MF. Estudo do comportamento elétrico de dispositivos de potência a partir da otimização dos parâmetros de processo de deposição do filme SIPOS obtido por LPCVD [Internet]. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-23052003-084613/
Vancouver
Alves MF. Estudo do comportamento elétrico de dispositivos de potência a partir da otimização dos parâmetros de processo de deposição do filme SIPOS obtido por LPCVD [Internet]. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-23052003-084613/
Tese (Doutorado)
Contribuições ao desenvolvimento de sensores e microssistemas (2003)
Peres, Henrique Estanislau Maldonado ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: MICROELETRÔNICA, SILÍCIO, SISTEMAS MICROELETROMECÂNICOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
PERES, Henrique Estanislau Maldonado. Contribuições ao desenvolvimento de sensores e microssistemas. 2003. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2003. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Peres, H. E. M. (2003). Contribuições ao desenvolvimento de sensores e microssistemas (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM
Peres HEM. Contribuições ao desenvolvimento de sensores e microssistemas. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Peres HEM. Contribuições ao desenvolvimento de sensores e microssistemas. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Trabalho de evento
Utilização de coque nacional comum no forno cubilô: influência da adição de carbeto de silício na carga (2003)
Vallina, José Jodel; Takano, Cyro
Source: Anais. CONAF 2003. Conference titles: Congresso de Fundição da Associação Brasileira de Fundição. Unidade: EP
Subjects: COQUE, FORNO CUBILÔ, SILÍCIO
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
VALLINA, José Jodel e TAKANO, Cyro. Utilização de coque nacional comum no forno cubilô: influência da adição de carbeto de silício na carga. 2003, Anais.. São Paulo: ABIFA, 2003. . Acesso em: 02 nov. 2024.
APA
Vallina, J. J., & Takano, C. (2003). Utilização de coque nacional comum no forno cubilô: influência da adição de carbeto de silício na carga. In Anais. CONAF 2003. São Paulo: ABIFA.
NLM
Vallina JJ, Takano C. Utilização de coque nacional comum no forno cubilô: influência da adição de carbeto de silício na carga. Anais. CONAF 2003. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ]
Vancouver
Vallina JJ, Takano C. Utilização de coque nacional comum no forno cubilô: influência da adição de carbeto de silício na carga. Anais. CONAF 2003. 2003 ;[citado 2024 nov. 02 ]

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