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Tese (Doutorado)
Produção e caracterização de filmes de nitreto de alumínio e sua aplicação em guias de onda tipo pedestal (2017)
Armas Alvarado, Maria Elisia; Alayo Chávez, Marco Isaías (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: DISPOSITIVOS ÓPTICOS, MICROELETRÔNICA, FABRICAÇÃO (MICROELETRÔNICA), PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
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ABNT
ARMAS ALVARADO, Maria Elisia. Produção e caracterização de filmes de nitreto de alumínio e sua aplicação em guias de onda tipo pedestal. 2017. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2017. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12072017-085316/. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Armas Alvarado, M. E. (2017). Produção e caracterização de filmes de nitreto de alumínio e sua aplicação em guias de onda tipo pedestal (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12072017-085316/
NLM
Armas Alvarado ME. Produção e caracterização de filmes de nitreto de alumínio e sua aplicação em guias de onda tipo pedestal [Internet]. 2017 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12072017-085316/
Vancouver
Armas Alvarado ME. Produção e caracterização de filmes de nitreto de alumínio e sua aplicação em guias de onda tipo pedestal [Internet]. 2017 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12072017-085316/
Artigo de periodico
TiOxNy anti-resonant layer ARROW waveguides (2010)
Carvalho, Daniel Orquiza de ; Albertin, Katia Franklin ; Alayo Chávez, Marco Isaías
Source: Physica Status Solidi (c). Unidade: EP
Assunto: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
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ABNT
CARVALHO, Daniel Orquiza de e ALBERTIN, Katia Franklin e ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías. TiOxNy anti-resonant layer ARROW waveguides. Physica Status Solidi (c), v. 7, n. 3-4, p. 960-963, 2010Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1002/pssc.200982878. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Carvalho, D. O. de, Albertin, K. F., & Alayo Chávez, M. I. (2010). TiOxNy anti-resonant layer ARROW waveguides. Physica Status Solidi (c), 7( 3-4), 960-963. doi:10.1002/pssc.200982878
NLM
Carvalho DO de, Albertin KF, Alayo Chávez MI. TiOxNy anti-resonant layer ARROW waveguides [Internet]. Physica Status Solidi (c). 2010 ; 7( 3-4): 960-963.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982878
Vancouver
Carvalho DO de, Albertin KF, Alayo Chávez MI. TiOxNy anti-resonant layer ARROW waveguides [Internet]. Physica Status Solidi (c). 2010 ; 7( 3-4): 960-963.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982878
Artigo de periodico
Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures (2010)
Gollub, Alexandre Henrique; Carvalho, Daniel Orquiza de ; Paiva, Thiago Costa de ; Alayo Chávez, Marco Isaías
Source: Physica Status Solidi C. Unidade: EP
Subjects: FILMES FINOS, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
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ABNT
GOLLUB, Alexandre Henrique et al. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures. Physica Status Solidi C, v. 7, n. 3/4, p. 964-967, 2010Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1002/pssc.200982889. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Gollub, A. H., Carvalho, D. O. de, Paiva, T. C. de, & Alayo Chávez, M. I. (2010). Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures. Physica Status Solidi C, 7( 3/4), 964-967. doi:10.1002/pssc.200982889
NLM
Gollub AH, Carvalho DO de, Paiva TC de, Alayo Chávez MI. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures [Internet]. Physica Status Solidi C. 2010 ; 7( 3/4): 964-967.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982889
Vancouver
Gollub AH, Carvalho DO de, Paiva TC de, Alayo Chávez MI. Hollow core ARROW waveguides fabricated with SiOxNy films deposited at low temperatures [Internet]. Physica Status Solidi C. 2010 ; 7( 3/4): 964-967.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982889
Artigo de periodico
A study of metal contact properties on thermal annealed PECVD SiC thin films for MEMS applications (2010)
Oliveira, Alessandro Ricardo; Pereyra, Inés ; Páez Carreño, Marcelo Nelson
Source: Physica Status Solidi C. Unidade: EP
Subjects: FILMES FINOS, SEMICONDUTORES, METAIS, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, SISTEMAS MICROELETROMECÂNICOS
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ABNT
OLIVEIRA, Alessandro Ricardo e PEREYRA, Inés e PÁEZ CARREÑO, Marcelo Nelson. A study of metal contact properties on thermal annealed PECVD SiC thin films for MEMS applications. Physica Status Solidi C, v. 7, n. 3/4, p. 793-796, 2010Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1002/pssc.200982839. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Oliveira, A. R., Pereyra, I., & Páez Carreño, M. N. (2010). A study of metal contact properties on thermal annealed PECVD SiC thin films for MEMS applications. Physica Status Solidi C, 7( 3/4), 793-796. doi:10.1002/pssc.200982839
NLM
Oliveira AR, Pereyra I, Páez Carreño MN. A study of metal contact properties on thermal annealed PECVD SiC thin films for MEMS applications [Internet]. Physica Status Solidi C. 2010 ; 7( 3/4): 793-796.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982839
Vancouver
Oliveira AR, Pereyra I, Páez Carreño MN. A study of metal contact properties on thermal annealed PECVD SiC thin films for MEMS applications [Internet]. Physica Status Solidi C. 2010 ; 7( 3/4): 793-796.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982839
Artigo de periodico
Optimized-geometry ARROW waveguides using TiO2 as anti-resonant layer (2010)
Carvalho, Daniel Orquiza de ; Albertin, Katia Franklin ; Alayo Chávez, Marco Isaías
Source: Physica Status Solidi (c). Unidade: EP
Assunto: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
CARVALHO, Daniel Orquiza de e ALBERTIN, Katia Franklin e ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías. Optimized-geometry ARROW waveguides using TiO2 as anti-resonant layer. Physica Status Solidi (c), v. 7, n. 3-4, p. 719-719, 2010Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1002/pssc.200982795. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Carvalho, D. O. de, Albertin, K. F., & Alayo Chávez, M. I. (2010). Optimized-geometry ARROW waveguides using TiO2 as anti-resonant layer. Physica Status Solidi (c), 7( 3-4), 719-719. doi:10.1002/pssc.200982795
NLM
Carvalho DO de, Albertin KF, Alayo Chávez MI. Optimized-geometry ARROW waveguides using TiO2 as anti-resonant layer [Internet]. Physica Status Solidi (c). 2010 ; 7( 3-4): 719-719.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982795
Vancouver
Carvalho DO de, Albertin KF, Alayo Chávez MI. Optimized-geometry ARROW waveguides using TiO2 as anti-resonant layer [Internet]. Physica Status Solidi (c). 2010 ; 7( 3-4): 719-719.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1002/pssc.200982795
Tese (Doutorado)
Propriedades termo-mecânicas de filmes finos de a-SiC:H e SiOxNy e desenvolvimento de MEMS (2008)
Rehder, Gustavo Pamplona ; Paez Carreño, Marcelo Nelson (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA, FABRICAÇÃO (MICROELETRÔNICA), PLASMA (MICROELETRÔNICA), DISPOSITIVOS ÓPTICOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
REHDER, Gustavo Pamplona. Propriedades termo-mecânicas de filmes finos de a-SiC:H e SiOxNy e desenvolvimento de MEMS. 2008. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2008. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09022009-162824/. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Rehder, G. P. (2008). Propriedades termo-mecânicas de filmes finos de a-SiC:H e SiOxNy e desenvolvimento de MEMS (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09022009-162824/
NLM
Rehder GP. Propriedades termo-mecânicas de filmes finos de a-SiC:H e SiOxNy e desenvolvimento de MEMS [Internet]. 2008 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09022009-162824/
Vancouver
Rehder GP. Propriedades termo-mecânicas de filmes finos de a-SiC:H e SiOxNy e desenvolvimento de MEMS [Internet]. 2008 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-09022009-162824/
Trabalho de evento-resumo
Simulação e visualização dos processos de corrosão anisotrópica do silício para MEMS (2005)
Oliveira Junior, Jose Pinto de; Paez Carreño, Marcelo Nelson
Source: SIICUSP 2005 : resumos. Conference titles: Simpósio Internacional de Iniciação Científica da Universidade de São Paulo. Unidade: EP
Subjects: SILÍCIO, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
OLIVEIRA JUNIOR, Jose Pinto de e PAEZ CARREÑO, Marcelo Nelson. Simulação e visualização dos processos de corrosão anisotrópica do silício para MEMS. 2005, Anais.. São Paulo: Universidade de São Paulo, 2005. Disponível em: http://www.usp.br/siicusp/13osiicusp/aprovados/index01.htm. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Oliveira Junior, J. P. de, & Paez Carreño, M. N. (2005). Simulação e visualização dos processos de corrosão anisotrópica do silício para MEMS. In SIICUSP 2005 : resumos. São Paulo: Universidade de São Paulo. Recuperado de http://www.usp.br/siicusp/13osiicusp/aprovados/index01.htm
NLM
Oliveira Junior JP de, Paez Carreño MN. Simulação e visualização dos processos de corrosão anisotrópica do silício para MEMS [Internet]. SIICUSP 2005 : resumos. 2005 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.usp.br/siicusp/13osiicusp/aprovados/index01.htm
Vancouver
Oliveira Junior JP de, Paez Carreño MN. Simulação e visualização dos processos de corrosão anisotrópica do silício para MEMS [Internet]. SIICUSP 2005 : resumos. 2005 ;[citado 2025 out. 08 ] Available from: http://www.usp.br/siicusp/13osiicusp/aprovados/index01.htm

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