Comparison of low-dropout voltage regulators designed with line and nanowire tunnel-FET experimental data including a simple process variability analysis (2023)
- Authors:
- USP affiliated authors: MARTINO, JOÃO ANTONIO - EP ; SILVA, WENITA DE LIMA - EP ; TOLÊDO, RODRIGO DO NASCIMENTO - EP ; GONÇALEZ FILHO, WALTER - EP ; NOGUEIRA, ALEXANDRO DE MORAES - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1016/j.sse.2023.108611
- Subjects: TRANSISTORES; CIRCUITOS ANALÓGICOS; NANOTECNOLOGIA
- Agências de fomento:
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Solid State Electronics
- ISSN: 0038-1101
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 202, p. 1-8, Apr. 2023. Article nº 108611
- Status:
- Artigo possui versão em acesso aberto em repositório (Green Open Access)
- Versão do Documento:
- Versão submetida (Pré-print)
- Acessar versão aberta:
-
ABNT
SILVA, Wenita de Lima et al. Comparison of low-dropout voltage regulators designed with line and nanowire tunnel-FET experimental data including a simple process variability analysis. Solid State Electronics, v. 202, p. 1-8, 2023Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.sse.2023.108611. Acesso em: 06 maio 2026. -
APA
Silva, W. de L., Toledo, R. do N., Gonçalez Filho, W., Nogueira, A. de M., Agopian, P. G. D., & Martino, J. A. (2023). Comparison of low-dropout voltage regulators designed with line and nanowire tunnel-FET experimental data including a simple process variability analysis. Solid State Electronics, 202, 1-8. doi:10.1016/j.sse.2023.108611 -
NLM
Silva W de L, Toledo R do N, Gonçalez Filho W, Nogueira A de M, Agopian PGD, Martino JA. Comparison of low-dropout voltage regulators designed with line and nanowire tunnel-FET experimental data including a simple process variability analysis [Internet]. Solid State Electronics. 2023 ; 202 1-8.[citado 2026 maio 06 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.sse.2023.108611 -
Vancouver
Silva W de L, Toledo R do N, Gonçalez Filho W, Nogueira A de M, Agopian PGD, Martino JA. Comparison of low-dropout voltage regulators designed with line and nanowire tunnel-FET experimental data including a simple process variability analysis [Internet]. Solid State Electronics. 2023 ; 202 1-8.[citado 2026 maio 06 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.sse.2023.108611 - Comparison between low-dropout voltage regulators designed with line and nanowire tunnel field effect transistors using experimental data
- Experimental behavior of line-TFET applied to low-dropout voltage regulator
- Nanowire TFET with different source compositions applied to low-dropout voltage regulator
- Low-dropout voltage regulator designed with nanowire TFET with different source composition experimental data
- Hybrid low-dropout voltage regulator designed with TFET-MOSFET nanowire technologies
- Estudo de amplificadores operacionais de transcondutância projetados com túnel-FETs e MOSFETs fabricados em estruturas de nanofios.
- Projeto de aplicação de amplificadores operacionais de transcondutância baseados no comportamento experimental de line-TFETs.
- Regulador linear de tensão de baixa queda projetado com Line-TFETs
- Regulador linear de baixa queda de tensão projetado com TFETs fabricados em nanofios de silício
- Impact of TiN metal gate thickness and the HsSiO nitridation on MuGFETs electrical performance
Informações sobre a disponibilidade de versões do artigo em acesso aberto coletadas automaticamente via oaDOI API (Unpaywall).
Por se tratar de integração com serviço externo, podem existir diferentes versões do trabalho (como preprints ou postprints), que podem diferir da versão publicada.
Download do texto completo
| Tipo | Nome | Link | |
|---|---|---|---|
| Comparison of low-dropout... |
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
