Deposição de filmes finos de oxinitreto de silício por PECVD (1996)
- Authors:
- USP affiliated authors: FONSECA, FERNANDO JOSEPETTI - EP ; DIRANI, ELY ANTONIO TADEU - EP ; ANDRADE, ADNEI MELGES DE - EP
- Unidade: EP
- Assunto: DISPOSITIVOS DIELÉTRICOS
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: Sociedade Brasileira de Física
- Publisher place: São Paulo
- Date published: 1996
- Source:
- Título: Resumos
- Conference titles: Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada
-
ABNT
SASSAKI, Carlos Alberto et al. Deposição de filmes finos de oxinitreto de silício por PECVD. 1996, Anais.. São Paulo: Sociedade Brasileira de Física, 1996. . Acesso em: 14 fev. 2026. -
APA
Sassaki, C. A., Fonseca, F. J., Dirani, E. A. T., & Andrade, A. M. de. (1996). Deposição de filmes finos de oxinitreto de silício por PECVD. In Resumos. São Paulo: Sociedade Brasileira de Física. -
NLM
Sassaki CA, Fonseca FJ, Dirani EAT, Andrade AM de. Deposição de filmes finos de oxinitreto de silício por PECVD. Resumos. 1996 ;[citado 2026 fev. 14 ] -
Vancouver
Sassaki CA, Fonseca FJ, Dirani EAT, Andrade AM de. Deposição de filmes finos de oxinitreto de silício por PECVD. Resumos. 1996 ;[citado 2026 fev. 14 ] - Low operating voltage of an ITO/MEH-PPV/AI light emmiting device
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