Estudo da influência dos parâmetros de recozimento térmico rápido na morfologia dos filmes de TiSi2 formados e sua correlação com a tensão (1997)
- Authors:
- USP affiliated authors: SANTOS FILHO, SEBASTIAO GOMES DOS - EP ; ARMANDO ANTONIO MARIA LAGANA - EP
- Unidade: EP
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Language: Português
- Imprenta:
-
ABNT
SOUZA, S G e LAGANÁ, Armando Antonio Maria e SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos. Estudo da influência dos parâmetros de recozimento térmico rápido na morfologia dos filmes de TiSi2 formados e sua correlação com a tensão. . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 13 fev. 2026. , 1997 -
APA
Souza, S. G., Laganá, A. A. M., & Santos Filho, S. G. dos. (1997). Estudo da influência dos parâmetros de recozimento térmico rápido na morfologia dos filmes de TiSi2 formados e sua correlação com a tensão. São Paulo: EPUSP. -
NLM
Souza SG, Laganá AAM, Santos Filho SG dos. Estudo da influência dos parâmetros de recozimento térmico rápido na morfologia dos filmes de TiSi2 formados e sua correlação com a tensão. 1997 ;[citado 2026 fev. 13 ] -
Vancouver
Souza SG, Laganá AAM, Santos Filho SG dos. Estudo da influência dos parâmetros de recozimento térmico rápido na morfologia dos filmes de TiSi2 formados e sua correlação com a tensão. 1997 ;[citado 2026 fev. 13 ] - Formation of nickel monosilicide onto (100) silicon wafer surfaces
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