O uso de resistes amplificados quimicamente e de sililação em litografia por feixe de elétrons (1997)
- Authors:
- USP affiliated authors: SEABRA, ANTONIO CARLOS - EP ; VERDONCK, PATRICK BERNARD - EP
- Unidade: EP
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Language: Português
- Imprenta:
-
ABNT
SEABRA, Antonio Carlos e VERDONCK, Patrick Bernard. O uso de resistes amplificados quimicamente e de sililação em litografia por feixe de elétrons. . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 08 abr. 2026. , 1997 -
APA
Seabra, A. C., & Verdonck, P. B. (1997). O uso de resistes amplificados quimicamente e de sililação em litografia por feixe de elétrons. São Paulo: EPUSP. -
NLM
Seabra AC, Verdonck PB. O uso de resistes amplificados quimicamente e de sililação em litografia por feixe de elétrons. 1997 ;[citado 2026 abr. 08 ] -
Vancouver
Seabra AC, Verdonck PB. O uso de resistes amplificados quimicamente e de sililação em litografia por feixe de elétrons. 1997 ;[citado 2026 abr. 08 ] - Design of continuous full complex modulation proximity printing masks using a quadratic phase distribution
- Sal601-er7 as a negative tone resist for mask - making
- Highly integrated autonomous lab-on-a-chip device for on-line and in situ determination of environmental chemical parameters
- Circuit for pH measurement in a LTCC substrate
- Litografia para microelêtronica
- Adaptação de controladores de instrumentos para o labview versão estudantil
- Optimization of Micromechanical Cleavage Technique of Natural Graphite by Chemical Treatment
- Apresentação
- Probing individual quantum dots - noise in self-assembled systems
- Fabrication of submicron structures in polycristalline silicon by reactive ion etching using fluorine- and chlorine- containing plasmas
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
