O uso de resistes amplificados quimicamente e de sililação em litografia por feixe de elétrons (1997)
- Autores:
- Autores USP: SEABRA, ANTONIO CARLOS - EP ; VERDONCK, PATRICK BERNARD - EP
- Unidade: EP
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Idioma: Português
- Imprenta:
-
ABNT
SEABRA, Antonio Carlos e VERDONCK, Patrick Bernard. O uso de resistes amplificados quimicamente e de sililação em litografia por feixe de elétrons. . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 20 abr. 2024. , 1997 -
APA
Seabra, A. C., & Verdonck, P. B. (1997). O uso de resistes amplificados quimicamente e de sililação em litografia por feixe de elétrons. São Paulo: EPUSP. -
NLM
Seabra AC, Verdonck PB. O uso de resistes amplificados quimicamente e de sililação em litografia por feixe de elétrons. 1997 ;[citado 2024 abr. 20 ] -
Vancouver
Seabra AC, Verdonck PB. O uso de resistes amplificados quimicamente e de sililação em litografia por feixe de elétrons. 1997 ;[citado 2024 abr. 20 ] - Design of continuous full complex modulation proximity printing masks using a quadratic phase distribution
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