Highly integrated autonomous lab-on-a-chip device for on-line and in situ determination of environmental chemical parameters (2018)
- Authors:
- Autor USP: SEABRA, ANTONIO CARLOS - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1039/C8LC00309B
- Assunto: FOTOMETRIA
- Language: Inglês
- Source:
- Título: Lab on a Chip
- Volume/Número/Paginação/Ano: v.18, p.1884-1890, 2018
- Status:
- Artigo possui versão em acesso aberto em repositório (Green Open Access)
- Versão do Documento:
- Versão submetida (Pré-print)
- Acessar versão aberta:
-
ABNT
CISNEROS, Cynthia Martinez et al. Highly integrated autonomous lab-on-a-chip device for on-line and in situ determination of environmental chemical parameters. Lab on a Chip, v. 18, p. 1884-1890, 2018Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1039/C8LC00309B. Acesso em: 07 maio 2026. -
APA
Cisneros, C. M., Rocha, Z. M. da, Seabra, A. C., Chamarro, J. A., & Valdes Perezgasga, F. (2018). Highly integrated autonomous lab-on-a-chip device for on-line and in situ determination of environmental chemical parameters. Lab on a Chip, 18, 1884-1890. doi:10.1039/C8LC00309B -
NLM
Cisneros CM, Rocha ZM da, Seabra AC, Chamarro JA, Valdes Perezgasga F. Highly integrated autonomous lab-on-a-chip device for on-line and in situ determination of environmental chemical parameters [Internet]. Lab on a Chip. 2018 ;18 1884-1890.[citado 2026 maio 07 ] Available from: https://doi.org/10.1039/C8LC00309B -
Vancouver
Cisneros CM, Rocha ZM da, Seabra AC, Chamarro JA, Valdes Perezgasga F. Highly integrated autonomous lab-on-a-chip device for on-line and in situ determination of environmental chemical parameters [Internet]. Lab on a Chip. 2018 ;18 1884-1890.[citado 2026 maio 07 ] Available from: https://doi.org/10.1039/C8LC00309B - Sal601-er7 as a negative tone resist for mask - making
- Circuit for pH measurement in a LTCC substrate
- Litografia para microelêtronica
- Adaptação de controladores de instrumentos para o labview versão estudantil
- Optimization of Micromechanical Cleavage Technique of Natural Graphite by Chemical Treatment
- Apresentação
- Probing individual quantum dots - noise in self-assembled systems
- Fabrication of submicron structures in polycristalline silicon by reactive ion etching using fluorine- and chlorine- containing plasmas
- E-beam direct-write using a chemically amplified negative tone resist
- Modernização do Laboratório Didático de Eletrônica
Informações sobre a disponibilidade de versões do artigo em acesso aberto coletadas automaticamente via oaDOI API (Unpaywall).
Por se tratar de integração com serviço externo, podem existir diferentes versões do trabalho (como preprints ou postprints), que podem diferir da versão publicada.
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
