Highly integrated autonomous lab-on-a-chip device for on-line and in situ determination of environmental chemical parameters (2018)
- Authors:
- Autor USP: SEABRA, ANTONIO CARLOS - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1039/C8LC00309B
- Assunto: FOTOMETRIA
- Language: Inglês
- Source:
- Título: Lab on a Chip
- Volume/Número/Paginação/Ano: v.18, p.1884-1890, 2018
- Este artigo possui versão em acesso aberto
- URL de acesso aberto
- Versão do Documento: Versão submetida (Pré-print)
-
Status: Artigo possui versão em acesso aberto em repositório (Green Open Access) -
ABNT
CISNEROS, Cynthia Martinez et al. Highly integrated autonomous lab-on-a-chip device for on-line and in situ determination of environmental chemical parameters. Lab on a Chip, v. 18, p. 1884-1890, 2018Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1039/C8LC00309B. Acesso em: 16 mar. 2026. -
APA
Cisneros, C. M., Rocha, Z. M. da, Seabra, A. C., Chamarro, J. A., & Valdes Perezgasga, F. (2018). Highly integrated autonomous lab-on-a-chip device for on-line and in situ determination of environmental chemical parameters. Lab on a Chip, 18, 1884-1890. doi:10.1039/C8LC00309B -
NLM
Cisneros CM, Rocha ZM da, Seabra AC, Chamarro JA, Valdes Perezgasga F. Highly integrated autonomous lab-on-a-chip device for on-line and in situ determination of environmental chemical parameters [Internet]. Lab on a Chip. 2018 ;18 1884-1890.[citado 2026 mar. 16 ] Available from: https://doi.org/10.1039/C8LC00309B -
Vancouver
Cisneros CM, Rocha ZM da, Seabra AC, Chamarro JA, Valdes Perezgasga F. Highly integrated autonomous lab-on-a-chip device for on-line and in situ determination of environmental chemical parameters [Internet]. Lab on a Chip. 2018 ;18 1884-1890.[citado 2026 mar. 16 ] Available from: https://doi.org/10.1039/C8LC00309B - Sal601-er7 as a negative tone resist for mask - making
- Circuit for pH measurement in a LTCC substrate
- Litografia para microelêtronica
- Adaptação de controladores de instrumentos para o labview versão estudantil
- Optimization of Micromechanical Cleavage Technique of Natural Graphite by Chemical Treatment
- Apresentação
- Probing individual quantum dots - noise in self-assembled systems
- Fabrication of submicron structures in polycristalline silicon by reactive ion etching using fluorine- and chlorine- containing plasmas
- E-beam direct-write using a chemically amplified negative tone resist
- Modernização do Laboratório Didático de Eletrônica
Informações sobre a disponibilidade de versões do artigo em acesso aberto coletadas automaticamente via oaDOI API (Unpaywall).
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
