Optimization of Micromechanical Cleavage Technique of Natural Graphite by Chemical Treatment (2014)
- Authors:
- Autor USP: SEABRA, ANTONIO CARLOS - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.4236/graphene.2014.31001
- Subjects: ESPECTROSCOPIA RAMAN; TRATAMENTO QUÍMICO DE ÁGUA
- Language: Inglês
- Source:
- Título: Graphene
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 3, n. 1, p. 1-5, 2014
- Este artigo possui versão em acesso aberto
- URL de acesso aberto
- PDF de acesso aberto
- Versão do Documento: Versão publicada (Published version)
-
Status: Artigo publicado em periódico de acesso aberto (Gold Open Access) -
ABNT
TORRES, Luis e SEABRA, Antonio Carlos e GOMEZ ARMAS, Luis Enrique. Optimization of Micromechanical Cleavage Technique of Natural Graphite by Chemical Treatment. Graphene, v. 3, n. 1, p. 1-5, 2014Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.4236/graphene.2014.31001. Acesso em: 17 mar. 2026. -
APA
Torres, L., Seabra, A. C., & Gomez Armas, L. E. (2014). Optimization of Micromechanical Cleavage Technique of Natural Graphite by Chemical Treatment. Graphene, 3( 1), 1-5. doi:10.4236/graphene.2014.31001 -
NLM
Torres L, Seabra AC, Gomez Armas LE. Optimization of Micromechanical Cleavage Technique of Natural Graphite by Chemical Treatment [Internet]. Graphene. 2014 ; 3( 1): 1-5.[citado 2026 mar. 17 ] Available from: https://doi.org/10.4236/graphene.2014.31001 -
Vancouver
Torres L, Seabra AC, Gomez Armas LE. Optimization of Micromechanical Cleavage Technique of Natural Graphite by Chemical Treatment [Internet]. Graphene. 2014 ; 3( 1): 1-5.[citado 2026 mar. 17 ] Available from: https://doi.org/10.4236/graphene.2014.31001 - Sal601-er7 as a negative tone resist for mask - making
- Highly integrated autonomous lab-on-a-chip device for on-line and in situ determination of environmental chemical parameters
- Circuit for pH measurement in a LTCC substrate
- Litografia para microelêtronica
- Adaptação de controladores de instrumentos para o labview versão estudantil
- Apresentação
- Probing individual quantum dots - noise in self-assembled systems
- Fabrication of submicron structures in polycristalline silicon by reactive ion etching using fluorine- and chlorine- containing plasmas
- E-beam direct-write using a chemically amplified negative tone resist
- Modernização do Laboratório Didático de Eletrônica
Informações sobre a disponibilidade de versões do artigo em acesso aberto coletadas automaticamente via oaDOI API (Unpaywall).
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
