Development and characterization of 'SI IND.3''N IND.4' plasma etching processes (1995)
- Authors:
- Autor USP: VERDONCK, PATRICK BERNARD - EP
- Unidade: EP
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher: Instituto de Informatica da Ufrgs
- Publisher place: Porto Alegre
- Date published: 1995
- Source:
- Título do periódico: Proceedings
- Conference titles: Congress of the Brazilian Microelectronics Society
-
ABNT
DIETRICH, A B; MANSANO, Ronaldo Domingues; VERDONCK, Patrick Bernard. Development and characterization of 'SI IND.3''N IND.4' plasma etching processes. Anais.. Porto Alegre: Instituto de Informatica da Ufrgs, 1995. -
APA
Dietrich, A. B., Mansano, R. D., & Verdonck, P. B. (1995). Development and characterization of 'SI IND.3''N IND.4' plasma etching processes. In Proceedings. Porto Alegre: Instituto de Informatica da Ufrgs. -
NLM
Dietrich AB, Mansano RD, Verdonck PB. Development and characterization of 'SI IND.3''N IND.4' plasma etching processes. Proceedings. 1995 ; -
Vancouver
Dietrich AB, Mansano RD, Verdonck PB. Development and characterization of 'SI IND.3''N IND.4' plasma etching processes. Proceedings. 1995 ; - Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures
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