Development and characterization of 'SI IND.3''N IND.4' plasma etching processes (1995)
- Authors:
- Autor USP: VERDONCK, PATRICK BERNARD - EP
- Unidade: EP
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher: Instituto de Informatica da Ufrgs
- Publisher place: Porto Alegre
- Date published: 1995
- Source:
- Título do periódico: Proceedings
- Conference titles: Congress of the Brazilian Microelectronics Society
-
ABNT
DIETRICH, Alvaro Batista e VERDONCK, Patrick Bernard e MANSANO, Ronaldo Domingues. Development and characterization of 'SI IND.3''N IND.4' plasma etching processes. 1995, Anais.. Porto Alegre: Instituto de Informatica da Ufrgs, 1995. . Acesso em: 24 abr. 2024. -
APA
Dietrich, A. B., Verdonck, P. B., & Mansano, R. D. (1995). Development and characterization of 'SI IND.3''N IND.4' plasma etching processes. In Proceedings. Porto Alegre: Instituto de Informatica da Ufrgs. -
NLM
Dietrich AB, Verdonck PB, Mansano RD. Development and characterization of 'SI IND.3''N IND.4' plasma etching processes. Proceedings. 1995 ;[citado 2024 abr. 24 ] -
Vancouver
Dietrich AB, Verdonck PB, Mansano RD. Development and characterization of 'SI IND.3''N IND.4' plasma etching processes. Proceedings. 1995 ;[citado 2024 abr. 24 ] - Desenvolvimento de um processo de corrosao de aluminio por plasma de cc14+n2
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