Programa SILICIO: agrupando e correlacionando dados sobre deposição e caracterização de filmes finos de silício hidrogenado (2002)
- Autores:
- Autores USP: DIRANI, ELY ANTONIO TADEU - EP ; FONSECA, FERNANDO JOSEPETTI - EP ; ANDRADE, ADNEI MELGES DE - EP
- Unidade: EP
- Assunto: FILMES FINOS
- Idioma: Português
- Imprenta:
- Fonte:
- Título do periódico: SIICUSP;CICTE: resumos
- Nome do evento: Simpósio Internacional de Iniciação Científica da USP
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ABNT
LIMA, John Paul Hempel et al. Programa SILICIO: agrupando e correlacionando dados sobre deposição e caracterização de filmes finos de silício hidrogenado. 2002, Anais.. São Paulo: USP, 2002. Disponível em: http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htm. Acesso em: 19 set. 2024. -
APA
Lima, J. P. H., Dirani, E. A. T., Nardes, A. M., Fonseca, F. J., & Andrade, A. M. de. (2002). Programa SILICIO: agrupando e correlacionando dados sobre deposição e caracterização de filmes finos de silício hidrogenado. In SIICUSP;CICTE: resumos. São Paulo: USP. Recuperado de http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htm -
NLM
Lima JPH, Dirani EAT, Nardes AM, Fonseca FJ, Andrade AM de. Programa SILICIO: agrupando e correlacionando dados sobre deposição e caracterização de filmes finos de silício hidrogenado [Internet]. SIICUSP;CICTE: resumos. 2002 ;[citado 2024 set. 19 ] Available from: http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htm -
Vancouver
Lima JPH, Dirani EAT, Nardes AM, Fonseca FJ, Andrade AM de. Programa SILICIO: agrupando e correlacionando dados sobre deposição e caracterização de filmes finos de silício hidrogenado [Internet]. SIICUSP;CICTE: resumos. 2002 ;[citado 2024 set. 19 ] Available from: http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htm - Low operating voltage of an ITO/MEH-PPV/AI light emmiting device
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