PECVD deposited dielectrics for a-Si:H thin film transistors (1996)
- Authors:
- USP affiliated authors: ANDRADE, ADNEI MELGES DE - EP ; FONSECA, FERNANDO JOSEPETTI - EP ; DIRANI, ELY ANTONIO TADEU - EP ; SANEMATSU, MARIO SABRO - EP
- Unidade: EP
- Assunto: CRISTAIS LÍQUIDOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Resumos
- Conference titles: Seminário Iberoamericano de Tecnologia de Mostradores de Cristal Líquido
-
ABNT
SASSAKI, Carlos Alberto et al. PECVD deposited dielectrics for a-Si:H thin film transistors. 1996, Anais.. Campinas: IM/CTI, 1996. . Acesso em: 15 nov. 2024. -
APA
Sassaki, C. A., Andrade, A. M. de, Fonseca, F. J., Abade, K. A., Dirani, E. A. T., & Sanematsu, M. S. (1996). PECVD deposited dielectrics for a-Si:H thin film transistors. In Resumos. Campinas: IM/CTI. -
NLM
Sassaki CA, Andrade AM de, Fonseca FJ, Abade KA, Dirani EAT, Sanematsu MS. PECVD deposited dielectrics for a-Si:H thin film transistors. Resumos. 1996 ;[citado 2024 nov. 15 ] -
Vancouver
Sassaki CA, Andrade AM de, Fonseca FJ, Abade KA, Dirani EAT, Sanematsu MS. PECVD deposited dielectrics for a-Si:H thin film transistors. Resumos. 1996 ;[citado 2024 nov. 15 ] - Injecting contacts for a Si:H thin film transistors
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