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  • Fonte: Applied Surface Science. Unidade: EP

    Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS

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    • ABNT

      MANSANO, Ronaldo Domingues e VERDONCK, Patrick Bernard e MACIEL, H. S. Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas. Applied Surface Science, v. 100/101, p. 583-586, 1996Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/0169-4332(96)00343-1. Acesso em: 16 nov. 2025.
    • APA

      Mansano, R. D., Verdonck, P. B., & Maciel, H. S. (1996). Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas. Applied Surface Science, 100/101, 583-586. doi:10.1016/0169-4332(96)00343-1
    • NLM

      Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS. Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas [Internet]. Applied Surface Science. 1996 ; 100/101 583-586.[citado 2025 nov. 16 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0169-4332(96)00343-1
    • Vancouver

      Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS. Deep trench etching in silicon with fluorine containing plasmas [Internet]. Applied Surface Science. 1996 ; 100/101 583-586.[citado 2025 nov. 16 ] Available from: https://doi.org/10.1016/0169-4332(96)00343-1
  • Fonte: Abstracts Book. Nome do evento: International Conference on Thin Films. Unidade: EP

    Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS

    Como citar
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    • ABNT

      MANSANO, Ronaldo Domingues e VERDONCK, Patrick Bernard e MACIEL, H. S. Mechanisms of surface roughness induced in silicon by fluorine containing plasmas. 1996, Anais.. Madrid: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo, 1996. . Acesso em: 16 nov. 2025.
    • APA

      Mansano, R. D., Verdonck, P. B., & Maciel, H. S. (1996). Mechanisms of surface roughness induced in silicon by fluorine containing plasmas. In Abstracts Book. Madrid: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo.
    • NLM

      Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS. Mechanisms of surface roughness induced in silicon by fluorine containing plasmas. Abstracts Book. 1996 ;[citado 2025 nov. 16 ]
    • Vancouver

      Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS. Mechanisms of surface roughness induced in silicon by fluorine containing plasmas. Abstracts Book. 1996 ;[citado 2025 nov. 16 ]
  • Fonte: Proceedings. Nome do evento: Congress of the Brazilian Microelectronics Society. Unidade: EP

    Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS

    Como citar
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    • ABNT

      MANSANO, Ronaldo Domingues e VERDONCK, Patrick Bernard e MACIEL, H. S. Dry etching of resist for three level resist process using statistical design of experiments. 1995, Anais.. Porto Alegre: Instituto de Informatica da Ufrgs, 1995. . Acesso em: 16 nov. 2025.
    • APA

      Mansano, R. D., Verdonck, P. B., & Maciel, H. S. (1995). Dry etching of resist for three level resist process using statistical design of experiments. In Proceedings. Porto Alegre: Instituto de Informatica da Ufrgs.
    • NLM

      Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS. Dry etching of resist for three level resist process using statistical design of experiments. Proceedings. 1995 ;[citado 2025 nov. 16 ]
    • Vancouver

      Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS. Dry etching of resist for three level resist process using statistical design of experiments. Proceedings. 1995 ;[citado 2025 nov. 16 ]
  • Unidade: EP

    Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS

    Como citar
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
    • ABNT

      MANSANO, Ronaldo Domingues e MACIEL, H. S. Modelamento da corrosao de resiste por plasma usando o metodo de superficie de resposta. . São Paulo: Epusp. . Acesso em: 16 nov. 2025. , 1995
    • APA

      Mansano, R. D., & Maciel, H. S. (1995). Modelamento da corrosao de resiste por plasma usando o metodo de superficie de resposta. São Paulo: Epusp.
    • NLM

      Mansano RD, Maciel HS. Modelamento da corrosao de resiste por plasma usando o metodo de superficie de resposta. 1995 ;[citado 2025 nov. 16 ]
    • Vancouver

      Mansano RD, Maciel HS. Modelamento da corrosao de resiste por plasma usando o metodo de superficie de resposta. 1995 ;[citado 2025 nov. 16 ]
  • Fonte: Proceedings. Nome do evento: Encontro Brasileiro de Fisica. Unidade: EP

    Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS

    Como citar
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
    • ABNT

      PETRACONI, G e MACIEL, H. S. Energy analysis of electrons, positive and negative ions in oxygen plasma beams. 1993, Anais.. Sao Jose dos Campos: SBF/Inpe, 1993. . Acesso em: 16 nov. 2025.
    • APA

      Petraconi, G., & Maciel, H. S. (1993). Energy analysis of electrons, positive and negative ions in oxygen plasma beams. In Proceedings. Sao Jose dos Campos: SBF/Inpe.
    • NLM

      Petraconi G, Maciel HS. Energy analysis of electrons, positive and negative ions in oxygen plasma beams. Proceedings. 1993 ;[citado 2025 nov. 16 ]
    • Vancouver

      Petraconi G, Maciel HS. Energy analysis of electrons, positive and negative ions in oxygen plasma beams. Proceedings. 1993 ;[citado 2025 nov. 16 ]
  • Fonte: Proceedings. Nome do evento: Encontro Brasileiro de Fisica dos Plasmas. Unidade: EP

    Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS

    Como citar
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
    • ABNT

      NOGUEIRA, C L et al. Plasma enhanced chemical vapor infiltration for carbon / carbon composite manufacture. 1993, Anais.. Sao Jose dos Campos: SBF/Inpe, 1993. . Acesso em: 16 nov. 2025.
    • APA

      Nogueira, C. L., Otani, C., Maciel, H. S., Petraconi, G., & Aquino, E. (1993). Plasma enhanced chemical vapor infiltration for carbon / carbon composite manufacture. In Proceedings. Sao Jose dos Campos: SBF/Inpe.
    • NLM

      Nogueira CL, Otani C, Maciel HS, Petraconi G, Aquino E. Plasma enhanced chemical vapor infiltration for carbon / carbon composite manufacture. Proceedings. 1993 ;[citado 2025 nov. 16 ]
    • Vancouver

      Nogueira CL, Otani C, Maciel HS, Petraconi G, Aquino E. Plasma enhanced chemical vapor infiltration for carbon / carbon composite manufacture. Proceedings. 1993 ;[citado 2025 nov. 16 ]

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