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Trabalho de evento-resumo
Optical waveguides of PECVD silicon oxynitride films (2002)
Alayo Chávez, Marco Isaías ; Pereyra, Inés ; Scopel, Wanderla Luis ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu
Source: Programa e Livro de Resumos. Conference titles: Encontro da Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais. Unidades: EP, IF
Subjects: MATERIAIS, PROPRIEDADES DOS MATERIAIS
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ABNT
ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías et al. Optical waveguides of PECVD silicon oxynitride films. 2002, Anais.. Rio de Janeiro: SBPMat, 2002. . Acesso em: 10 nov. 2024.
APA
Alayo Chávez, M. I., Pereyra, I., Scopel, W. L., & Fantini, M. C. de A. (2002). Optical waveguides of PECVD silicon oxynitride films. In Programa e Livro de Resumos. Rio de Janeiro: SBPMat.
NLM
Alayo Chávez MI, Pereyra I, Scopel WL, Fantini MC de A. Optical waveguides of PECVD silicon oxynitride films. Programa e Livro de Resumos. 2002 ;[citado 2024 nov. 10 ]
Vancouver
Alayo Chávez MI, Pereyra I, Scopel WL, Fantini MC de A. Optical waveguides of PECVD silicon oxynitride films. Programa e Livro de Resumos. 2002 ;[citado 2024 nov. 10 ]
Artigo de periodico
Local order structure of a-Si'O IND.X' 'N IND.Y':H grown by PECVD (2002)
Scopel, Wanderla Luis ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Pereyra, Inés
Source: Brazilian Journal of Physics. Unidades: IF, EP
Subjects: ESPECTROSCOPIA DE RAIO X, ESPECTROMETRIA
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ABNT
SCOPEL, Wanderla Luis et al. Local order structure of a-Si'O IND.X' 'N IND.Y':H grown by PECVD. Brazilian Journal of Physics, v. 32, n. 2A, p. 366-368, 2002Tradução . . Disponível em: http://www.sbf.if.usp.br/bjp/Vol32/Num2a/v32_366.pdf. Acesso em: 10 nov. 2024.
APA
Scopel, W. L., Fantini, M. C. de A., Alayo Chávez, M. I., & Pereyra, I. (2002). Local order structure of a-Si'O IND.X' 'N IND.Y':H grown by PECVD. Brazilian Journal of Physics, 32( 2A), 366-368. Recuperado de http://www.sbf.if.usp.br/bjp/Vol32/Num2a/v32_366.pdf
NLM
Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Local order structure of a-Si'O IND.X' 'N IND.Y':H grown by PECVD [Internet]. Brazilian Journal of Physics. 2002 ; 32( 2A): 366-368.[citado 2024 nov. 10 ] Available from: http://www.sbf.if.usp.br/bjp/Vol32/Num2a/v32_366.pdf
Vancouver
Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Local order structure of a-Si'O IND.X' 'N IND.Y':H grown by PECVD [Internet]. Brazilian Journal of Physics. 2002 ; 32( 2A): 366-368.[citado 2024 nov. 10 ] Available from: http://www.sbf.if.usp.br/bjp/Vol32/Num2a/v32_366.pdf
Artigo de periodico
Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films (2002)
Scopel, Wanderla Luis ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Pereyra, Inés
Source: Thin Solid Films. Unidades: IF, EP
Subjects: ESPECTROSCOPIA DE RAIO X, ESPECTROMETRIA, FILMES FINOS
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ABNT
SCOPEL, Wanderla Luis et al. Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films. Thin Solid Films, v. 413, n. 1-2, p. 59-64, 2002Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(02)00346-2. Acesso em: 10 nov. 2024.
APA
Scopel, W. L., Fantini, M. C. de A., Alayo Chávez, M. I., & Pereyra, I. (2002). Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films. Thin Solid Films, 413( 1-2), 59-64. doi:10.1016/s0040-6090(02)00346-2
NLM
Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films [Internet]. Thin Solid Films. 2002 ; 413( 1-2): 59-64.[citado 2024 nov. 10 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(02)00346-2
Vancouver
Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films [Internet]. Thin Solid Films. 2002 ; 413( 1-2): 59-64.[citado 2024 nov. 10 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(02)00346-2
Parte de monografia/livro
3D topography in self-sustained membranes of SiOxNy obtained by PECVD technique at low temperatures (2002)
Páez Carreño, Marcelo Nelson ; Lopes, Alexandre Tavares; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Pereyra, Inés
Source: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
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ABNT
PÁEZ CARREÑO, Marcelo Nelson et al. 3D topography in self-sustained membranes of SiOxNy obtained by PECVD technique at low temperatures. Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Tradução . Pennington: The Electrochemical Society, 2002. . . Acesso em: 10 nov. 2024.
APA
Páez Carreño, M. N., Lopes, A. T., Alayo Chávez, M. I., & Pereyra, I. (2002). 3D topography in self-sustained membranes of SiOxNy obtained by PECVD technique at low temperatures. In Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society.
NLM
Páez Carreño MN, Lopes AT, Alayo Chávez MI, Pereyra I. 3D topography in self-sustained membranes of SiOxNy obtained by PECVD technique at low temperatures. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002. [citado 2024 nov. 10 ]
Vancouver
Páez Carreño MN, Lopes AT, Alayo Chávez MI, Pereyra I. 3D topography in self-sustained membranes of SiOxNy obtained by PECVD technique at low temperatures. In: Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002. Pennington: The Electrochemical Society; 2002. [citado 2024 nov. 10 ]
Artigo de periodico
On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) SiOxNy films (2002)
Alayo Chávez, Marco Isaías ; Pereyra, Inés ; Scopel, Wanderla Luis ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu
Source: Thin Solid Films. Unidades: IF, EP
Subjects: FÍSICA DE PLASMAS, DIELÉTRICOS
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ABNT
ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías et al. On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) SiOxNy films. Thin Solid Films, v. 402, n. 1-2, p. 154-161, 2002Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/S0040-6090(01)01685-6. Acesso em: 10 nov. 2024.
APA
Alayo Chávez, M. I., Pereyra, I., Scopel, W. L., & Fantini, M. C. de A. (2002). On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) SiOxNy films. Thin Solid Films, 402( 1-2), 154-161. doi:10.1016/S0040-6090(01)01685-6
NLM
Alayo Chávez MI, Pereyra I, Scopel WL, Fantini MC de A. On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) SiOxNy films [Internet]. Thin Solid Films. 2002 ; 402( 1-2): 154-161.[citado 2024 nov. 10 ] Available from: https://doi.org/10.1016/S0040-6090(01)01685-6
Vancouver
Alayo Chávez MI, Pereyra I, Scopel WL, Fantini MC de A. On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) SiOxNy films [Internet]. Thin Solid Films. 2002 ; 402( 1-2): 154-161.[citado 2024 nov. 10 ] Available from: https://doi.org/10.1016/S0040-6090(01)01685-6

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