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Trabalho de evento-resumo
EXAFS analysis on SiOxNy films (2006)
Criado, Denise ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Pereyra, Inés
Source: Abstracts. Conference titles: Brazilian MRS Meeting. Unidades: IF, EP
Assunto: MATERIAIS
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ABNT
CRIADO, Denise e FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu e PEREYRA, Inés. EXAFS analysis on SiOxNy films. 2006, Anais.. Florianópolis: SBPMat - Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais, 2006. . Acesso em: 11 out. 2024.
APA
Criado, D., Fantini, M. C. de A., & Pereyra, I. (2006). EXAFS analysis on SiOxNy films. In Abstracts. Florianópolis: SBPMat - Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais.
NLM
Criado D, Fantini MC de A, Pereyra I. EXAFS analysis on SiOxNy films. Abstracts. 2006 ;[citado 2024 out. 11 ]
Vancouver
Criado D, Fantini MC de A, Pereyra I. EXAFS analysis on SiOxNy films. Abstracts. 2006 ;[citado 2024 out. 11 ]
Trabalho de evento-resumo
Exafs analysis on sioxny films (2006)
Pereyra, Inés ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Criado, Denise
Source: Poster Session G522. Conference titles: Encontro da Sociedade Brasileira de Pesquisas em Materiais (SBPMat. Unidades: IF, EP
Assunto: MATERIAIS (PESQUISA)
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ABNT
PEREYRA, Inés e FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu e CRIADO, Denise. Exafs analysis on sioxny films. 2006, Anais.. Rio de Janeiro: SBPMat, 2006. Disponível em: http://www.sbpmat.org.br/5encontro/IndexPosterG.pdf. Acesso em: 11 out. 2024.
APA
Pereyra, I., Fantini, M. C. de A., & Criado, D. (2006). Exafs analysis on sioxny films. In Poster Session G522. Rio de Janeiro: SBPMat. Recuperado de http://www.sbpmat.org.br/5encontro/IndexPosterG.pdf
NLM
Pereyra I, Fantini MC de A, Criado D. Exafs analysis on sioxny films [Internet]. Poster Session G522. 2006 ;[citado 2024 out. 11 ] Available from: http://www.sbpmat.org.br/5encontro/IndexPosterG.pdf
Vancouver
Pereyra I, Fantini MC de A, Criado D. Exafs analysis on sioxny films [Internet]. Poster Session G522. 2006 ;[citado 2024 out. 11 ] Available from: http://www.sbpmat.org.br/5encontro/IndexPosterG.pdf
Artigo de periodico
Study of the mechanical and structural properties of silicon oxynitride films for optical applications (2006)
Criado, Denise ; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Pereyra, Inés
Source: Journal of non-crystalline solids. Unidades: IF, EP
Subjects: DIFRAÇÃO POR RAIOS X, ESTRUTURA DOS SÓLIDOS, FILMES FINOS
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ABNT
CRIADO, Denise et al. Study of the mechanical and structural properties of silicon oxynitride films for optical applications. Journal of non-crystalline solids, v. 352, n. 23-25, p. 2319-2323, 2006Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.jnoncrysol.2006.03.012. Acesso em: 11 out. 2024.
APA
Criado, D., Alayo Chávez, M. I., Fantini, M. C. de A., & Pereyra, I. (2006). Study of the mechanical and structural properties of silicon oxynitride films for optical applications. Journal of non-crystalline solids, 352( 23-25), 2319-2323. doi:10.1016/j.jnoncrysol.2006.03.012
NLM
Criado D, Alayo Chávez MI, Fantini MC de A, Pereyra I. Study of the mechanical and structural properties of silicon oxynitride films for optical applications [Internet]. Journal of non-crystalline solids. 2006 ; 352( 23-25): 2319-2323.[citado 2024 out. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jnoncrysol.2006.03.012
Vancouver
Criado D, Alayo Chávez MI, Fantini MC de A, Pereyra I. Study of the mechanical and structural properties of silicon oxynitride films for optical applications [Internet]. Journal of non-crystalline solids. 2006 ; 352( 23-25): 2319-2323.[citado 2024 out. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jnoncrysol.2006.03.012
Artigo de periodico
Local bonding in PECVD-"SiO IND.X" "N IND.Y" films (2006)
Criado, Denise ; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Pereyra, Inés
Source: Journal of Non-Crystalline Solids. Unidades: IF, EP
Subjects: FILMES FINOS, ESPECTROSCOPIA DE RAIO X
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ABNT
CRIADO, Denise et al. Local bonding in PECVD-"SiO IND.X" "N IND.Y" films. Journal of Non-Crystalline Solids, v. 352, n. 9-20, p. 1298-1302, 2006Tradução . . Disponível em: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=PublicationURL&_cdi=5594&_pubType=J&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=214bac5d32eab2194b6eace9325ac20e. Acesso em: 11 out. 2024.
APA
Criado, D., Alayo Chávez, M. I., Fantini, M. C. de A., & Pereyra, I. (2006). Local bonding in PECVD-"SiO IND.X" "N IND.Y" films. Journal of Non-Crystalline Solids, 352( 9-20), 1298-1302. Recuperado de http://www.sciencedirect.com/science?_ob=PublicationURL&_cdi=5594&_pubType=J&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=214bac5d32eab2194b6eace9325ac20e
NLM
Criado D, Alayo Chávez MI, Fantini MC de A, Pereyra I. Local bonding in PECVD-"SiO IND.X" "N IND.Y" films [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2006 ; 352( 9-20): 1298-1302.[citado 2024 out. 11 ] Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=PublicationURL&_cdi=5594&_pubType=J&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=214bac5d32eab2194b6eace9325ac20e
Vancouver
Criado D, Alayo Chávez MI, Fantini MC de A, Pereyra I. Local bonding in PECVD-"SiO IND.X" "N IND.Y" films [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 2006 ; 352( 9-20): 1298-1302.[citado 2024 out. 11 ] Available from: http://www.sciencedirect.com/science?_ob=PublicationURL&_cdi=5594&_pubType=J&_auth=y&_acct=C000049650&_version=1&_urlVersion=0&_userid=972067&md5=214bac5d32eab2194b6eace9325ac20e
Artigo de periodico
Characterization of Si1-xCx:H thin films deposited by PECVD for SiCOI heterojuntion fabrication (2006)
Forhan, Neisy Amparo Escobar; Fantini, Marcia ; Pereyra, Inés
Source: Journal of the Brazilian Chemical Society. Unidades: IF, EP
Subjects: FÍSICO-QUÍMICA, CRISTALOGRAFIA FÍSICA, ESPECTROSCOPIA RAMAN, DIFRAÇÃO POR RAIOS X, ESPECTROSCOPIA INFRAVERMELHA, FILMES FINOS
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ABNT
FORHAN, Neisy Amparo Escobar e FANTINI, Marcia e PEREYRA, Inés. Characterization of Si1-xCx:H thin films deposited by PECVD for SiCOI heterojuntion fabrication. Journal of the Brazilian Chemical Society, v. 17, n. 6, p. 1158-1162, 2006Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1590/S0103-50532006000600013. Acesso em: 11 out. 2024.
APA
Forhan, N. A. E., Fantini, M., & Pereyra, I. (2006). Characterization of Si1-xCx:H thin films deposited by PECVD for SiCOI heterojuntion fabrication. Journal of the Brazilian Chemical Society, 17( 6), 1158-1162. doi:10.1590/S0103-50532006000600013
NLM
Forhan NAE, Fantini M, Pereyra I. Characterization of Si1-xCx:H thin films deposited by PECVD for SiCOI heterojuntion fabrication [Internet]. Journal of the Brazilian Chemical Society. 2006 ; 17( 6): 1158-1162.[citado 2024 out. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1590/S0103-50532006000600013
Vancouver
Forhan NAE, Fantini M, Pereyra I. Characterization of Si1-xCx:H thin films deposited by PECVD for SiCOI heterojuntion fabrication [Internet]. Journal of the Brazilian Chemical Society. 2006 ; 17( 6): 1158-1162.[citado 2024 out. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1590/S0103-50532006000600013
Trabalho de evento-resumo
Photoluminescenct silicon-rich silicon oxynitride alloys grown by PECVD (2006)
Ribeiro, M.; Criado, Denise ; Aparecido, R.; Pereyra, Inés
Source: Abstracts. Conference titles: Brazilian MRS Meeting. Unidade: EP
Assunto: MATERIAIS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
RIBEIRO, M. et al. Photoluminescenct silicon-rich silicon oxynitride alloys grown by PECVD. 2006, Anais.. Florianópolis: SBPMat - Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais, 2006. . Acesso em: 11 out. 2024.
APA
Ribeiro, M., Criado, D., Aparecido, R., & Pereyra, I. (2006). Photoluminescenct silicon-rich silicon oxynitride alloys grown by PECVD. In Abstracts. Florianópolis: SBPMat - Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais.
NLM
Ribeiro M, Criado D, Aparecido R, Pereyra I. Photoluminescenct silicon-rich silicon oxynitride alloys grown by PECVD. Abstracts. 2006 ;[citado 2024 out. 11 ]
Vancouver
Ribeiro M, Criado D, Aparecido R, Pereyra I. Photoluminescenct silicon-rich silicon oxynitride alloys grown by PECVD. Abstracts. 2006 ;[citado 2024 out. 11 ]
Trabalho de evento-resumo
Study of the structural properties of the PECVD SiOxNy dielectric layers obtained with different RF powers by XANES and EXAFS analysis (2006)
Albertin, Katia Franklin ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu ; Pereyra, Inés
Source: Abstracts. Conference titles: Brazilian MRS Meeting. Unidades: IF, EP
Assunto: MATERIAIS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ALBERTIN, Katia Franklin e FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu e PEREYRA, Inés. Study of the structural properties of the PECVD SiOxNy dielectric layers obtained with different RF powers by XANES and EXAFS analysis. 2006, Anais.. Florianópolis: SBPMat - Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais, 2006. . Acesso em: 11 out. 2024.
APA
Albertin, K. F., Fantini, M. C. de A., & Pereyra, I. (2006). Study of the structural properties of the PECVD SiOxNy dielectric layers obtained with different RF powers by XANES and EXAFS analysis. In Abstracts. Florianópolis: SBPMat - Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais.
NLM
Albertin KF, Fantini MC de A, Pereyra I. Study of the structural properties of the PECVD SiOxNy dielectric layers obtained with different RF powers by XANES and EXAFS analysis. Abstracts. 2006 ;[citado 2024 out. 11 ]
Vancouver
Albertin KF, Fantini MC de A, Pereyra I. Study of the structural properties of the PECVD SiOxNy dielectric layers obtained with different RF powers by XANES and EXAFS analysis. Abstracts. 2006 ;[citado 2024 out. 11 ]

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