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Trabalho de evento
Experimental study of preoxidation cleaning effects on the oxide growth rate (1992)
Chen, H; Zasnicoff, Luiz Sergio
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
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ABNT
CHEN, H e ZASNICOFF, Luiz Sergio. Experimental study of preoxidation cleaning effects on the oxide growth rate. 1992, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Chen, H., & Zasnicoff, L. S. (1992). Experimental study of preoxidation cleaning effects on the oxide growth rate. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Chen H, Zasnicoff LS. Experimental study of preoxidation cleaning effects on the oxide growth rate. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Chen H, Zasnicoff LS. Experimental study of preoxidation cleaning effects on the oxide growth rate. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Trabalho de evento
Digital signal processing for testability - dspt (1992)
Amazonas, José Roberto de Almeida
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: PROCESSAMENTO DE SINAIS
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ABNT
AMAZONAS, José Roberto de Almeida. Digital signal processing for testability - dspt. 1992, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Amazonas, J. R. de A. (1992). Digital signal processing for testability - dspt. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Amazonas JR de A. Digital signal processing for testability - dspt. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Amazonas JR de A. Digital signal processing for testability - dspt. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Trabalho de evento
Implementation of analog circuits on digital sea of gates (1992)
Soares Junior, João Navarro ; Rikkink, V; Goffart, B; Van Noije, Wilhelmus Adrianus Maria
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assuntos: CIRCUITOS ELÉTRICOS, CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
SOARES JUNIOR, João Navarro et al. Implementation of analog circuits on digital sea of gates. 1992, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Soares Junior, J. N., Rikkink, V., Goffart, B., & Van Noije, W. A. M. (1992). Implementation of analog circuits on digital sea of gates. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Soares Junior JN, Rikkink V, Goffart B, Van Noije WAM. Implementation of analog circuits on digital sea of gates. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Soares Junior JN, Rikkink V, Goffart B, Van Noije WAM. Implementation of analog circuits on digital sea of gates. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Trabalho de evento
Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio (1992)
Morimoto, Nilton Itiro ; Cardoso, A R; Silva, Maria Lucia Pereira da; Shibata, Newton Yoshiyuki; Escote, Adolfo Tsuyama; Matsumura, W T; Swart, Jacobus Willibrordus
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
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ABNT
MORIMOTO, Nilton Itiro et al. Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio. 1992, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Morimoto, N. I., Cardoso, A. R., Silva, M. L. P. da, Shibata, N. Y., Escote, A. T., Matsumura, W. T., & Swart, J. W. (1992). Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Morimoto NI, Cardoso AR, Silva MLP da, Shibata NY, Escote AT, Matsumura WT, Swart JW. Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Morimoto NI, Cardoso AR, Silva MLP da, Shibata NY, Escote AT, Matsumura WT, Swart JW. Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Trabalho de evento
Difusao de 'AS' a partir do 'TI''SI IND.2' com estruturas c49 e c54 (1992)
Oka, Mauricio Massazumi; Furlan, Rogério
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
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ABNT
OKA, Mauricio Massazumi e FURLAN, Rogério. Difusao de 'AS' a partir do 'TI''SI IND.2' com estruturas c49 e c54. 1992, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Oka, M. M., & Furlan, R. (1992). Difusao de 'AS' a partir do 'TI''SI IND.2' com estruturas c49 e c54. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Oka MM, Furlan R. Difusao de 'AS' a partir do 'TI''SI IND.2' com estruturas c49 e c54. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Oka MM, Furlan R. Difusao de 'AS' a partir do 'TI''SI IND.2' com estruturas c49 e c54. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Trabalho de evento
Obtencao de camadas ultrafinas de oxido de silicio por oxidacao termica rapida (1992)
Santos Filho, Sebastião Gomes dos ; Hasenack, Claus Martin
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
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ABNT
SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos e HASENACK, Claus Martin. Obtencao de camadas ultrafinas de oxido de silicio por oxidacao termica rapida. 1992, Anais.. Sao Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Santos Filho, S. G. dos, & Hasenack, C. M. (1992). Obtencao de camadas ultrafinas de oxido de silicio por oxidacao termica rapida. In Anais. Sao Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Santos Filho SG dos, Hasenack CM. Obtencao de camadas ultrafinas de oxido de silicio por oxidacao termica rapida. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Santos Filho SG dos, Hasenack CM. Obtencao de camadas ultrafinas de oxido de silicio por oxidacao termica rapida. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Trabalho de evento
Actionometry and its applications on polysilicon etching in a magnetically confined reactor (1992)
Verdonck, Patrick Bernard; Degeyter, P; Swart, Jacobus Willibrordus
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
VERDONCK, Patrick Bernard e DEGEYTER, P e SWART, Jacobus Willibrordus. Actionometry and its applications on polysilicon etching in a magnetically confined reactor. 1992, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Verdonck, P. B., Degeyter, P., & Swart, J. W. (1992). Actionometry and its applications on polysilicon etching in a magnetically confined reactor. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Verdonck PB, Degeyter P, Swart JW. Actionometry and its applications on polysilicon etching in a magnetically confined reactor. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Verdonck PB, Degeyter P, Swart JW. Actionometry and its applications on polysilicon etching in a magnetically confined reactor. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Trabalho de evento
'SI' / 'SI''O IND.2' interface asperities: their effect on breakdown characteristics and on electric field distribution within thin gate oxides (1992)
Lopes, M C V; Hasenack, Claus Martin
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
LOPES, M C V e HASENACK, Claus Martin. 'SI' / 'SI''O IND.2' interface asperities: their effect on breakdown characteristics and on electric field distribution within thin gate oxides. 1992, Anais.. Sao Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Lopes, M. C. V., & Hasenack, C. M. (1992). 'SI' / 'SI''O IND.2' interface asperities: their effect on breakdown characteristics and on electric field distribution within thin gate oxides. In Anais. Sao Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Lopes MCV, Hasenack CM. 'SI' / 'SI''O IND.2' interface asperities: their effect on breakdown characteristics and on electric field distribution within thin gate oxides. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Lopes MCV, Hasenack CM. 'SI' / 'SI''O IND.2' interface asperities: their effect on breakdown characteristics and on electric field distribution within thin gate oxides. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Trabalho de evento
Analise da sensibilidade de magneto-transistores pnp laterais na tecnologia cmos (1992)
Galeazzo, Elisabete ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
GALEAZZO, Elisabete e RAMÍREZ FERNANDEZ, Francisco Javier. Analise da sensibilidade de magneto-transistores pnp laterais na tecnologia cmos. 1992, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Galeazzo, E., & Ramírez Fernandez, F. J. (1992). Analise da sensibilidade de magneto-transistores pnp laterais na tecnologia cmos. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Galeazzo E, Ramírez Fernandez FJ. Analise da sensibilidade de magneto-transistores pnp laterais na tecnologia cmos. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Galeazzo E, Ramírez Fernandez FJ. Analise da sensibilidade de magneto-transistores pnp laterais na tecnologia cmos. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Trabalho de evento
Propriedades dos filmes de a - 'SI IND.1'-'ANTIND.X C': h dopados com diborano diluido em helio (1992)
Ramos, C A S; Pereyra, Inés ; Andrade, Adnei Melges de
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
RAMOS, C A S e PEREYRA, Inés e ANDRADE, Adnei Melges de. Propriedades dos filmes de a - 'SI IND.1'-'ANTIND.X C': h dopados com diborano diluido em helio. 1992, Anais.. Sao Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Ramos, C. A. S., Pereyra, I., & Andrade, A. M. de. (1992). Propriedades dos filmes de a - 'SI IND.1'-'ANTIND.X C': h dopados com diborano diluido em helio. In Anais. Sao Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Ramos CAS, Pereyra I, Andrade AM de. Propriedades dos filmes de a - 'SI IND.1'-'ANTIND.X C': h dopados com diborano diluido em helio. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Ramos CAS, Pereyra I, Andrade AM de. Propriedades dos filmes de a - 'SI IND.1'-'ANTIND.X C': h dopados com diborano diluido em helio. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Trabalho de evento
Transistor mos com porta de paladio sensivel ao helio (1992)
Baratto, G; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
BARATTO, G e RAMÍREZ FERNANDEZ, Francisco Javier. Transistor mos com porta de paladio sensivel ao helio. 1992, Anais.. Sao Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Baratto, G., & Ramírez Fernandez, F. J. (1992). Transistor mos com porta de paladio sensivel ao helio. In Anais. Sao Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Baratto G, Ramírez Fernandez FJ. Transistor mos com porta de paladio sensivel ao helio. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Baratto G, Ramírez Fernandez FJ. Transistor mos com porta de paladio sensivel ao helio. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Trabalho de evento
Stack cache structure to forth directed microprocessor (1992)
Bernal, A; Próspero Sanchez, Pedro Luís ; Van Noije, Wilhelmus Adrianus Maria
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
BERNAL, A e PRÓSPERO SANCHEZ, Pedro Luís e VAN NOIJE, Wilhelmus Adrianus Maria. Stack cache structure to forth directed microprocessor. 1992, Anais.. Sao Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Bernal, A., Próspero Sanchez, P. L., & Van Noije, W. A. M. (1992). Stack cache structure to forth directed microprocessor. In Anais. Sao Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Bernal A, Próspero Sanchez PL, Van Noije WAM. Stack cache structure to forth directed microprocessor. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Bernal A, Próspero Sanchez PL, Van Noije WAM. Stack cache structure to forth directed microprocessor. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Trabalho de evento
Estruturas de porta de transistores mos (1992)
Pellegrini Junior, C; Martino, João Antonio
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
PELLEGRINI JUNIOR, C e MARTINO, João Antonio. Estruturas de porta de transistores mos. 1992, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Pellegrini Junior, C., & Martino, J. A. (1992). Estruturas de porta de transistores mos. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Pellegrini Junior C, Martino JA. Estruturas de porta de transistores mos. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Pellegrini Junior C, Martino JA. Estruturas de porta de transistores mos. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Trabalho de evento
Sintese da arquitetura de um circuito cancelador de eco (1992)
Vale Neto, José Vieira do; Strum, Marius
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: TELECOMUNICAÇÕES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
VALE NETO, José Vieira do e STRUM, Marius. Sintese da arquitetura de um circuito cancelador de eco. 1992, Anais.. Sao Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Vale Neto, J. V. do, & Strum, M. (1992). Sintese da arquitetura de um circuito cancelador de eco. In Anais. Sao Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Vale Neto JV do, Strum M. Sintese da arquitetura de um circuito cancelador de eco. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Vale Neto JV do, Strum M. Sintese da arquitetura de um circuito cancelador de eco. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Trabalho de evento
Caracterizacao da magneto-concentracao em transistores pnp bipolares laterais (1992)
Galeazzo, Elisabete ; Ramírez Fernandez, Francisco Javier
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
GALEAZZO, Elisabete e RAMÍREZ FERNANDEZ, Francisco Javier. Caracterizacao da magneto-concentracao em transistores pnp bipolares laterais. 1992, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Galeazzo, E., & Ramírez Fernandez, F. J. (1992). Caracterizacao da magneto-concentracao em transistores pnp bipolares laterais. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Galeazzo E, Ramírez Fernandez FJ. Caracterizacao da magneto-concentracao em transistores pnp bipolares laterais. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Galeazzo E, Ramírez Fernandez FJ. Caracterizacao da magneto-concentracao em transistores pnp bipolares laterais. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Trabalho de evento
Construcao e caracterizacao inicial de um medidor de rugosidade quimica de superficies de silicio empregando espalhamento espectral de luz (1992)
Santos Filho, Sebastião Gomes dos ; Hasenack, Claus Martin
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos e HASENACK, Claus Martin. Construcao e caracterizacao inicial de um medidor de rugosidade quimica de superficies de silicio empregando espalhamento espectral de luz. 1992, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Santos Filho, S. G. dos, & Hasenack, C. M. (1992). Construcao e caracterizacao inicial de um medidor de rugosidade quimica de superficies de silicio empregando espalhamento espectral de luz. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Santos Filho SG dos, Hasenack CM. Construcao e caracterizacao inicial de um medidor de rugosidade quimica de superficies de silicio empregando espalhamento espectral de luz. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Santos Filho SG dos, Hasenack CM. Construcao e caracterizacao inicial de um medidor de rugosidade quimica de superficies de silicio empregando espalhamento espectral de luz. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Trabalho de evento
Spock: um processador experimental de 32 bits (1992)
Aedo, J E; Bernal, A; Silveira, R; Próspero Sanchez, Pedro Luís
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
AEDO, J E et al. Spock: um processador experimental de 32 bits. 1992, Anais.. Sao Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Aedo, J. E., Bernal, A., Silveira, R., & Próspero Sanchez, P. L. (1992). Spock: um processador experimental de 32 bits. In Anais. Sao Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Aedo JE, Bernal A, Silveira R, Próspero Sanchez PL. Spock: um processador experimental de 32 bits. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Aedo JE, Bernal A, Silveira R, Próspero Sanchez PL. Spock: um processador experimental de 32 bits. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Trabalho de evento
Estudo comparativo da implantacao ionica de potassio e fosforo em silicio amorfo para utilizacao em contatos injetores (1992)
Fonseca, Fernando Josepetti ; Andrade, Adnei Melges de
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
FONSECA, Fernando Josepetti e ANDRADE, Adnei Melges de. Estudo comparativo da implantacao ionica de potassio e fosforo em silicio amorfo para utilizacao em contatos injetores. 1992, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Fonseca, F. J., & Andrade, A. M. de. (1992). Estudo comparativo da implantacao ionica de potassio e fosforo em silicio amorfo para utilizacao em contatos injetores. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Fonseca FJ, Andrade AM de. Estudo comparativo da implantacao ionica de potassio e fosforo em silicio amorfo para utilizacao em contatos injetores. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Fonseca FJ, Andrade AM de. Estudo comparativo da implantacao ionica de potassio e fosforo em silicio amorfo para utilizacao em contatos injetores. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Trabalho de evento
Estudo da influencia da adicao de s'F IND.6' ao plasma de c'BR''F IND.3' na corrosao de silicio (1992)
Yamamoto, R K; Maciel, H. S.
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
YAMAMOTO, R K e MACIEL, H. S. Estudo da influencia da adicao de s'F IND.6' ao plasma de c'BR''F IND.3' na corrosao de silicio. 1992, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Yamamoto, R. K., & Maciel, H. S. (1992). Estudo da influencia da adicao de s'F IND.6' ao plasma de c'BR''F IND.3' na corrosao de silicio. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Yamamoto RK, Maciel HS. Estudo da influencia da adicao de s'F IND.6' ao plasma de c'BR''F IND.3' na corrosao de silicio. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Yamamoto RK, Maciel HS. Estudo da influencia da adicao de s'F IND.6' ao plasma de c'BR''F IND.3' na corrosao de silicio. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Trabalho de evento
Estudo comparativo de estruturas de fonte e dreno de transistores mos submicrometricos (1992)
Mafra Junior, J J; Martino, João Antonio
Fonte: Anais. Nome do evento: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MAFRA JUNIOR, J J e MARTINO, João Antonio. Estudo comparativo de estruturas de fonte e dreno de transistores mos submicrometricos. 1992, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 01 nov. 2024.
APA
Mafra Junior, J. J., & Martino, J. A. (1992). Estudo comparativo de estruturas de fonte e dreno de transistores mos submicrometricos. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Mafra Junior JJ, Martino JA. Estudo comparativo de estruturas de fonte e dreno de transistores mos submicrometricos. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]
Vancouver
Mafra Junior JJ, Martino JA. Estudo comparativo de estruturas de fonte e dreno de transistores mos submicrometricos. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 01 ]

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