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Artigo de periodico
Different electrode anodes used in OLED devices (2021)
Santos, Emerson Roberto ; Fullenbach, Thiago de Carvalho; Medeiros, Marina Sparvoli; Zambom, Luís da Silva ; Onmori, Roberto Koji ; Wang, Shu Hui
Source: Revista Brasileira de Aplicações a Vácuo. Unidade: EP
Subjects: TENSÃO DOS MATERIAIS, ELETRODO
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ABNT
SANTOS, Emerson Roberto et al. Different electrode anodes used in OLED devices. Revista Brasileira de Aplicações a Vácuo, v. 40, 2021Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.17563/rbav.v40.1205. Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Santos, E. R., Fullenbach, T. de C., Medeiros, M. S., Zambom, L. da S., Onmori, R. K., & Wang, S. H. (2021). Different electrode anodes used in OLED devices. Revista Brasileira de Aplicações a Vácuo, 40. doi:10.17563/rbav.v40.1205
NLM
Santos ER, Fullenbach T de C, Medeiros MS, Zambom L da S, Onmori RK, Wang SH. Different electrode anodes used in OLED devices [Internet]. Revista Brasileira de Aplicações a Vácuo. 2021 ; 40[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://doi.org/10.17563/rbav.v40.1205
Vancouver
Santos ER, Fullenbach T de C, Medeiros MS, Zambom L da S, Onmori RK, Wang SH. Different electrode anodes used in OLED devices [Internet]. Revista Brasileira de Aplicações a Vácuo. 2021 ; 40[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://doi.org/10.17563/rbav.v40.1205
Trabalho de evento-resumo
OPTICAL AND ELECTRICAL CHARACTERIZATION OF TITANIUM OXIDE THIN FILMS (2020)
Mendonça, Bianca Jardim; Chubaci, José Fernando Diniz ; Matsuoka, Masao; Silva, Antonio Ferreira da; Zambom, Luís da Silva ; Mansano, Ronaldo Domingues
Conference titles: Encontro de Outono da Sociedade Brasileira de Física. Unidades: IF, EP
Assunto: FILMES FINOS
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ABNT
MENDONÇA, Bianca Jardim et al. OPTICAL AND ELECTRICAL CHARACTERIZATION OF TITANIUM OXIDE THIN FILMS. 2020, Anais.. São Paulo: SBF-Sociedade Brasileira de Física, 2020. Disponível em: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0291-1.pdf. Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Mendonça, B. J., Chubaci, J. F. D., Matsuoka, M., Silva, A. F. da, Zambom, L. da S., & Mansano, R. D. (2020). OPTICAL AND ELECTRICAL CHARACTERIZATION OF TITANIUM OXIDE THIN FILMS. In . São Paulo: SBF-Sociedade Brasileira de Física. Recuperado de https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0291-1.pdf
NLM
Mendonça BJ, Chubaci JFD, Matsuoka M, Silva AF da, Zambom L da S, Mansano RD. OPTICAL AND ELECTRICAL CHARACTERIZATION OF TITANIUM OXIDE THIN FILMS [Internet]. 2020 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0291-1.pdf
Vancouver
Mendonça BJ, Chubaci JFD, Matsuoka M, Silva AF da, Zambom L da S, Mansano RD. OPTICAL AND ELECTRICAL CHARACTERIZATION OF TITANIUM OXIDE THIN FILMS [Internet]. 2020 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/eosbf/2020/sys/resumos/R0291-1.pdf
Trabalho de evento-resumo
Estudo de anodos de ITO para OLEDS (2019)
Amaro, Augusto Anselmo; Zambom, Luís da Silva ; Mansano, Ronaldo Domingues ; Burini Junior, Elvo Calixto ; Wang, Shu Hui ; Santos, Emerson Roberto
Source: Resumos. Conference titles: Congresso de Tecnologia. Unidades: EP, IEE
Subjects: FILMES FINOS, EMISSÃO DA LUZ
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ABNT
AMARO, Augusto Anselmo et al. Estudo de anodos de ITO para OLEDS. 2019, Anais.. São Paulo: Fatec, 2019. Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/3054dbf4-d88c-4cda-8204-5c29eec37240/HUI-2019-Estudodeanodos.pdf. Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Amaro, A. A., Zambom, L. da S., Mansano, R. D., Burini Junior, E. C., Wang, S. H., & Santos, E. R. (2019). Estudo de anodos de ITO para OLEDS. In Resumos. São Paulo: Fatec. Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/3054dbf4-d88c-4cda-8204-5c29eec37240/HUI-2019-Estudodeanodos.pdf
NLM
Amaro AA, Zambom L da S, Mansano RD, Burini Junior EC, Wang SH, Santos ER. Estudo de anodos de ITO para OLEDS [Internet]. Resumos. 2019 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/3054dbf4-d88c-4cda-8204-5c29eec37240/HUI-2019-Estudodeanodos.pdf
Vancouver
Amaro AA, Zambom L da S, Mansano RD, Burini Junior EC, Wang SH, Santos ER. Estudo de anodos de ITO para OLEDS [Internet]. Resumos. 2019 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/3054dbf4-d88c-4cda-8204-5c29eec37240/HUI-2019-Estudodeanodos.pdf
Artigo de periodico
Estudo de anodos de ITO para OLEDS (2019)
Amaro, Augusto Anselmo; Zambom, Luís da Silva ; Mansano, Ronaldo Domingues ; Burini Junior, Elvo Calixto ; Wang, Shu Hui ; Santos, Emerson Roberto
Source: Boletim técnico da Faculdade de Tecnologia de São Paulo. Unidades: IEE, EP
Subjects: FILMES FINOS, EMISSÃO DA LUZ
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ABNT
AMARO, Augusto Anselmo et al. Estudo de anodos de ITO para OLEDS. Boletim técnico da Faculdade de Tecnologia de São Paulo, n. 48, p. 34, 2019Tradução . . Disponível em: http://bt.fatecsp.br/media/bulletins/bt48v2.pdf. Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Amaro, A. A., Zambom, L. da S., Mansano, R. D., Burini Junior, E. C., Wang, S. H., & Santos, E. R. (2019). Estudo de anodos de ITO para OLEDS. Boletim técnico da Faculdade de Tecnologia de São Paulo, (48), 34. Recuperado de http://bt.fatecsp.br/media/bulletins/bt48v2.pdf
NLM
Amaro AA, Zambom L da S, Mansano RD, Burini Junior EC, Wang SH, Santos ER. Estudo de anodos de ITO para OLEDS [Internet]. Boletim técnico da Faculdade de Tecnologia de São Paulo. 2019 ;(48): 34.[citado 2026 maio 01 ] Available from: http://bt.fatecsp.br/media/bulletins/bt48v2.pdf
Vancouver
Amaro AA, Zambom L da S, Mansano RD, Burini Junior EC, Wang SH, Santos ER. Estudo de anodos de ITO para OLEDS [Internet]. Boletim técnico da Faculdade de Tecnologia de São Paulo. 2019 ;(48): 34.[citado 2026 maio 01 ] Available from: http://bt.fatecsp.br/media/bulletins/bt48v2.pdf
Trabalho de evento-resumo
Production and Characterization of TiO2 Thin Films (2018)
Mendonça, Bianca Jardim; Chubaci, José Fernando Diniz ; Soares, Renato Vasconcelos Coura; Goveia, Gilson Schaberle; Fidelis, Daniel Gonçalves; Mansano, Ronaldo Domingues ; Zambom, Luís da Silva
Source: Resumos. Conference titles: Encontro de Outono. Unidades: IF, EP
Subjects: FÍSICA, FILMES FINOS
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ABNT
MENDONÇA, Bianca Jardim et al. Production and Characterization of TiO2 Thin Films. 2018, Anais.. São Paulo: SBF, 2018. Disponível em: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xli/sys/resumos/R0474-1.pdf. Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Mendonça, B. J., Chubaci, J. F. D., Soares, R. V. C., Goveia, G. S., Fidelis, D. G., Mansano, R. D., & Zambom, L. da S. (2018). Production and Characterization of TiO2 Thin Films. In Resumos. São Paulo: SBF. Recuperado de https://sec.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xli/sys/resumos/R0474-1.pdf
NLM
Mendonça BJ, Chubaci JFD, Soares RVC, Goveia GS, Fidelis DG, Mansano RD, Zambom L da S. Production and Characterization of TiO2 Thin Films [Internet]. Resumos. 2018 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xli/sys/resumos/R0474-1.pdf
Vancouver
Mendonça BJ, Chubaci JFD, Soares RVC, Goveia GS, Fidelis DG, Mansano RD, Zambom L da S. Production and Characterization of TiO2 Thin Films [Internet]. Resumos. 2018 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://sec.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xli/sys/resumos/R0474-1.pdf
Trabalho de evento
Synhesis and characterization of polyfluorene fluorinated for apllication in OLEDs (2016)
Takimoto, Herick Garcia; Yoshida, S; Ono, E.; Nascimento, A. D. M.; Santos, E R; Onmori, Roberto Koji ; Zambom, Luís da Silva ; Oliveira, A. M.; Wang, Shu Hui
Source: Anais. Cbecimat. Conference titles: Congresso Brasileiro de Engenharia e Ciência dos Materiais. Unidade: EP
Subjects: FLUORESCÊNCIA, POLÍMEROS (MATERIAIS), POLIMERIZAÇÃO
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ABNT
TAKIMOTO, Herick Garcia et al. Synhesis and characterization of polyfluorene fluorinated for apllication in OLEDs. 2016, Anais.. São Paulo: Associação Brasileira de Cerâmica, 2016. Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/efcdaf08-0a0c-4e09-9ac2-e66de88c48b2/HUI-2016-Synthesisandcharacterization_OK.pdf. Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Takimoto, H. G., Yoshida, S., Ono, E., Nascimento, A. D. M., Santos, E. R., Onmori, R. K., et al. (2016). Synhesis and characterization of polyfluorene fluorinated for apllication in OLEDs. In Anais. Cbecimat. São Paulo: Associação Brasileira de Cerâmica. Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/efcdaf08-0a0c-4e09-9ac2-e66de88c48b2/HUI-2016-Synthesisandcharacterization_OK.pdf
NLM
Takimoto HG, Yoshida S, Ono E, Nascimento ADM, Santos ER, Onmori RK, Zambom L da S, Oliveira AM, Wang SH. Synhesis and characterization of polyfluorene fluorinated for apllication in OLEDs [Internet]. Anais. Cbecimat. 2016 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/efcdaf08-0a0c-4e09-9ac2-e66de88c48b2/HUI-2016-Synthesisandcharacterization_OK.pdf
Vancouver
Takimoto HG, Yoshida S, Ono E, Nascimento ADM, Santos ER, Onmori RK, Zambom L da S, Oliveira AM, Wang SH. Synhesis and characterization of polyfluorene fluorinated for apllication in OLEDs [Internet]. Anais. Cbecimat. 2016 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/efcdaf08-0a0c-4e09-9ac2-e66de88c48b2/HUI-2016-Synthesisandcharacterization_OK.pdf
Trabalho de evento-anais periodico
p-ZnO Thin Films Deposited by RF-Magnetron Sputtering (2015)
Zambom, Luís da Silva ; Mansano, Ronaldo Domingues
Source: Journal of Physics: Conference Series. Conference titles: IAEA TM on Research Using Small Fusion Devices (RUSFD). Unidade: EP
Assunto: FILMES FINOS
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ABNT
ZAMBOM, Luís da Silva e MANSANO, Ronaldo Domingues. p-ZnO Thin Films Deposited by RF-Magnetron Sputtering. Journal of Physics: Conference Series. [S.l.]: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo. Disponível em: https://doi.org/10.1088/1742-6596/591/1/012040. Acesso em: 01 maio 2026. , 2015
APA
Zambom, L. da S., & Mansano, R. D. (2015). p-ZnO Thin Films Deposited by RF-Magnetron Sputtering. Journal of Physics: Conference Series. Escola Politécnica, Universidade de São Paulo. doi:10.1088/1742-6596/591/1/012040
NLM
Zambom L da S, Mansano RD. p-ZnO Thin Films Deposited by RF-Magnetron Sputtering [Internet]. Journal of Physics: Conference Series. 2015 ; 591[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://doi.org/10.1088/1742-6596/591/1/012040
Vancouver
Zambom L da S, Mansano RD. p-ZnO Thin Films Deposited by RF-Magnetron Sputtering [Internet]. Journal of Physics: Conference Series. 2015 ; 591[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://doi.org/10.1088/1742-6596/591/1/012040
Trabalho de evento-anais periodico
Chemical bonding and composition of silicon nitride films prepared by inductively coupled plasma chemical vapor deposition (2010)
Matsuoka, Masao; Isotani, Sadao; Mamani, Wilmer Alexe Sucasaire; Zambom, Luís da Silva ; Ogata, Katsuhiko
Source: Surface & Coatings Technology. Conference titles: International Workshop on Plasma-Based Ion Implantation and Deposition. Unidades: IF, EP
Assunto: ESPECTROSCOPIA DE RAIO X
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ABNT
MATSUOKA, Masao et al. Chemical bonding and composition of silicon nitride films prepared by inductively coupled plasma chemical vapor deposition. Surface & Coatings Technology. Amsterdam: Elsevier Science. Disponível em: http://www.sciencedirect.com/science/journal/02578972. Acesso em: 01 maio 2026. , 2010
APA
Matsuoka, M., Isotani, S., Mamani, W. A. S., Zambom, L. da S., & Ogata, K. (2010). Chemical bonding and composition of silicon nitride films prepared by inductively coupled plasma chemical vapor deposition. Surface & Coatings Technology. Amsterdam: Elsevier Science. Recuperado de http://www.sciencedirect.com/science/journal/02578972
NLM
Matsuoka M, Isotani S, Mamani WAS, Zambom L da S, Ogata K. Chemical bonding and composition of silicon nitride films prepared by inductively coupled plasma chemical vapor deposition [Internet]. Surface & Coatings Technology. 2010 ; 204 18-19.[citado 2026 maio 01 ] Available from: http://www.sciencedirect.com/science/journal/02578972
Vancouver
Matsuoka M, Isotani S, Mamani WAS, Zambom L da S, Ogata K. Chemical bonding and composition of silicon nitride films prepared by inductively coupled plasma chemical vapor deposition [Internet]. Surface & Coatings Technology. 2010 ; 204 18-19.[citado 2026 maio 01 ] Available from: http://www.sciencedirect.com/science/journal/02578972
Patente
Processo de deposição de filme de carbono amorfo hidrogenado, filme de carbono amorfo hidrogenado e artigo revestido com filme de carbono amorfo hidrogenado (2003)
Gonçalves Neto, Luiz; Mansano, Ronaldo Domingues ; Cirino, Giuseppe Antonio; Zambom, Luís da Silva
Unidades: EESC, EP
Subjects: CARBONO, FILMES FINOS, PROCESSOS QUÍMICOS, REVESTIMENTOS
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ABNT
GONÇALVES NETO, Luiz et al. Processo de deposição de filme de carbono amorfo hidrogenado, filme de carbono amorfo hidrogenado e artigo revestido com filme de carbono amorfo hidrogenado. . Rio de Janeiro: Instituto Nacional da Propriedade Industrial. Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/e51f678e-c8cf-4b8f-945b-8cf2ff85288a/PI0105474.pdf. Acesso em: 01 maio 2026. , 2003
APA
Gonçalves Neto, L., Mansano, R. D., Cirino, G. A., & Zambom, L. da S. (2003). Processo de deposição de filme de carbono amorfo hidrogenado, filme de carbono amorfo hidrogenado e artigo revestido com filme de carbono amorfo hidrogenado. Rio de Janeiro: Instituto Nacional da Propriedade Industrial. Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/e51f678e-c8cf-4b8f-945b-8cf2ff85288a/PI0105474.pdf
NLM
Gonçalves Neto L, Mansano RD, Cirino GA, Zambom L da S. Processo de deposição de filme de carbono amorfo hidrogenado, filme de carbono amorfo hidrogenado e artigo revestido com filme de carbono amorfo hidrogenado [Internet]. 2003 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/e51f678e-c8cf-4b8f-945b-8cf2ff85288a/PI0105474.pdf
Vancouver
Gonçalves Neto L, Mansano RD, Cirino GA, Zambom L da S. Processo de deposição de filme de carbono amorfo hidrogenado, filme de carbono amorfo hidrogenado e artigo revestido com filme de carbono amorfo hidrogenado [Internet]. 2003 ;[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/e51f678e-c8cf-4b8f-945b-8cf2ff85288a/PI0105474.pdf
Artigo de periodico
Obtenção de filmes de nitreto de silício por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente (2000)
Zambom, Luís da Silva ; Furlan, Rogério ; Mansano, Ronaldo Domingues
Source: Boletim Técnico da Escola Politécnica da USP. Departamento de Engenharia de Sistemas Eletrônicos. Unidade: EP
Assunto: LASER
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ABNT
ZAMBOM, Luís da Silva e FURLAN, Rogério e MANSANO, Ronaldo Domingues. Obtenção de filmes de nitreto de silício por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente. Boletim Técnico da Escola Politécnica da USP. Departamento de Engenharia de Sistemas Eletrônicos, n. 15, 2000Tradução . . Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/933ced26-ad48-4860-9e0a-225cdbbdac23/BT-PSI-0015_1196078_250820_113436.pdf. Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Zambom, L. da S., Furlan, R., & Mansano, R. D. (2000). Obtenção de filmes de nitreto de silício por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente. Boletim Técnico da Escola Politécnica da USP. Departamento de Engenharia de Sistemas Eletrônicos, (15). Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/933ced26-ad48-4860-9e0a-225cdbbdac23/BT-PSI-0015_1196078_250820_113436.pdf
NLM
Zambom L da S, Furlan R, Mansano RD. Obtenção de filmes de nitreto de silício por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente [Internet]. Boletim Técnico da Escola Politécnica da USP. Departamento de Engenharia de Sistemas Eletrônicos. 2000 ;(15):[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/933ced26-ad48-4860-9e0a-225cdbbdac23/BT-PSI-0015_1196078_250820_113436.pdf
Vancouver
Zambom L da S, Furlan R, Mansano RD. Obtenção de filmes de nitreto de silício por deposição química assistida por plasma acoplado indutivamente [Internet]. Boletim Técnico da Escola Politécnica da USP. Departamento de Engenharia de Sistemas Eletrônicos. 2000 ;(15):[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/933ced26-ad48-4860-9e0a-225cdbbdac23/BT-PSI-0015_1196078_250820_113436.pdf
Trabalho de evento
The applicability of Langmuir probes for end point detection of polymer etching (1999)
Mansano, Ronaldo Domingues ; Nogueira, Paula Maria; Zambom, Luís da Silva ; Verdonck, Patrick Bernard; Massi, Marcos ; Maciel, Homero Santiago
Source: ICMP 99: technical digest. Conference titles: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: FILMES
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ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues et al. The applicability of Langmuir probes for end point detection of polymer etching. 1999, Anais.. São Paulo: SBMicro/IMAPS, 1999. . Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Mansano, R. D., Nogueira, P. M., Zambom, L. da S., Verdonck, P. B., Massi, M., & Maciel, H. S. (1999). The applicability of Langmuir probes for end point detection of polymer etching. In ICMP 99: technical digest. São Paulo: SBMicro/IMAPS.
NLM
Mansano RD, Nogueira PM, Zambom L da S, Verdonck PB, Massi M, Maciel HS. The applicability of Langmuir probes for end point detection of polymer etching. ICMP 99: technical digest. 1999 ;[citado 2026 maio 01 ]
Vancouver
Mansano RD, Nogueira PM, Zambom L da S, Verdonck PB, Massi M, Maciel HS. The applicability of Langmuir probes for end point detection of polymer etching. ICMP 99: technical digest. 1999 ;[citado 2026 maio 01 ]
Artigo de periodico
LPCVD deposition of silicon nitride assisted by high density plasmas (1999)
Zambom, Luís da Silva ; Mansano, Ronaldo Domingues ; Furlan, Rogério ; Verdonck, Patrick Bernard
Source: Thin Solid Films. Unidade: EP
Assunto: FILMES FINOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ZAMBOM, Luís da Silva et al. LPCVD deposition of silicon nitride assisted by high density plasmas. Thin Solid Films, v. 343-344, p. 299-301, 1999Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(98)01587-9. Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Zambom, L. da S., Mansano, R. D., Furlan, R., & Verdonck, P. B. (1999). LPCVD deposition of silicon nitride assisted by high density plasmas. Thin Solid Films, 343-344, 299-301. doi:10.1016/s0040-6090(98)01587-9
NLM
Zambom L da S, Mansano RD, Furlan R, Verdonck PB. LPCVD deposition of silicon nitride assisted by high density plasmas [Internet]. Thin Solid Films. 1999 ; 343-344 299-301.[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(98)01587-9
Vancouver
Zambom L da S, Mansano RD, Furlan R, Verdonck PB. LPCVD deposition of silicon nitride assisted by high density plasmas [Internet]. Thin Solid Films. 1999 ; 343-344 299-301.[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(98)01587-9
Artigo de periodico
Deposicao de nitreto de silicio por lpcvd (1995)
Zambom, Luís da Silva ; Hasenack, Claus Martin
Source: Boletim Tecnico da Escola Politecnica da Usp. Departamento de Engenharia Metalurgica e de Materiais. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ZAMBOM, Luís da Silva e HASENACK, Claus Martin. Deposicao de nitreto de silicio por lpcvd. Boletim Tecnico da Escola Politecnica da Usp. Departamento de Engenharia Metalurgica e de Materiais, n. 007, 1995Tradução . . Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/50101d73-6a71-43f0-a9ba-79aafe861c3c/BT-PM7-9407_260130_114149.pdf. Acesso em: 01 maio 2026.
APA
Zambom, L. da S., & Hasenack, C. M. (1995). Deposicao de nitreto de silicio por lpcvd. Boletim Tecnico da Escola Politecnica da Usp. Departamento de Engenharia Metalurgica e de Materiais, ( 007). Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/50101d73-6a71-43f0-a9ba-79aafe861c3c/BT-PM7-9407_260130_114149.pdf
NLM
Zambom L da S, Hasenack CM. Deposicao de nitreto de silicio por lpcvd [Internet]. Boletim Tecnico da Escola Politecnica da Usp. Departamento de Engenharia Metalurgica e de Materiais. 1995 ;( 007):[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/50101d73-6a71-43f0-a9ba-79aafe861c3c/BT-PM7-9407_260130_114149.pdf
Vancouver
Zambom L da S, Hasenack CM. Deposicao de nitreto de silicio por lpcvd [Internet]. Boletim Tecnico da Escola Politecnica da Usp. Departamento de Engenharia Metalurgica e de Materiais. 1995 ;( 007):[citado 2026 maio 01 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/50101d73-6a71-43f0-a9ba-79aafe861c3c/BT-PM7-9407_260130_114149.pdf

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