Obtencao do perfil de impurezas utilizando a tecnica de resistencia de espraiamento (1994)
Source: Cbecimat: Anais. Conference titles: Congresso Brasileiro de Engenharia e Ciencia dos Materiais. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
ABNT
PEREZ LISBOA, Mauricio Oscar et al. Obtencao do perfil de impurezas utilizando a tecnica de resistencia de espraiamento. 1994, Anais.. Sao Paulo: Ifusp/Epusp/Ipt, 1994. . Acesso em: 01 nov. 2024.APA
Perez Lisboa, M. O., Pereira, C. T., Peres, H. E. M., & Ramírez Fernandez, F. J. (1994). Obtencao do perfil de impurezas utilizando a tecnica de resistencia de espraiamento. In Cbecimat: Anais. Sao Paulo: Ifusp/Epusp/Ipt.NLM
Perez Lisboa MO, Pereira CT, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Obtencao do perfil de impurezas utilizando a tecnica de resistencia de espraiamento. Cbecimat: Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 01 ]Vancouver
Perez Lisboa MO, Pereira CT, Peres HEM, Ramírez Fernandez FJ. Obtencao do perfil de impurezas utilizando a tecnica de resistencia de espraiamento. Cbecimat: Anais. 1994 ;[citado 2024 nov. 01 ]