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Artigo de periodico
End-point detection of polymer etching using Lagmuir probes (2000)
Castro, Raul Murete de; Verdonck, Patrick Bernard; Pisani, Marcelo B.; Mansano, Ronaldo Domingues ; Cirino, Giuseppe Antonio; Maciel, Homero Santiago; Massi, Marcos
Source: IEEE Transactions on Plasma Science. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
CASTRO, Raul Murete de et al. End-point detection of polymer etching using Lagmuir probes. IEEE Transactions on Plasma Science, v. 28, n. Ju 2000, p. 1043-1049, 2000Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1109/27.887774. Acesso em: 08 nov. 2024.
APA
Castro, R. M. de, Verdonck, P. B., Pisani, M. B., Mansano, R. D., Cirino, G. A., Maciel, H. S., & Massi, M. (2000). End-point detection of polymer etching using Lagmuir probes. IEEE Transactions on Plasma Science, 28( Ju 2000), 1043-1049. doi:10.1109/27.887774
NLM
Castro RM de, Verdonck PB, Pisani MB, Mansano RD, Cirino GA, Maciel HS, Massi M. End-point detection of polymer etching using Lagmuir probes [Internet]. IEEE Transactions on Plasma Science. 2000 ; 28( Ju 2000): 1043-1049.[citado 2024 nov. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1109/27.887774
Vancouver
Castro RM de, Verdonck PB, Pisani MB, Mansano RD, Cirino GA, Maciel HS, Massi M. End-point detection of polymer etching using Lagmuir probes [Internet]. IEEE Transactions on Plasma Science. 2000 ; 28( Ju 2000): 1043-1049.[citado 2024 nov. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1109/27.887774
Artigo de periodico
A comparative study of single and double langmuir probe techniques for RF plasma characterization (1999)
Castro, Raul Murete de; Cirino, Giuseppe Antonio; Verdonck, Patrick Bernard; Maciel, Homero Santiago; Massi, Marcos; Pisani, M B; Mansano, Ronaldo Domingues
Source: Contributions to plasma physics. Unidade: EP
Assunto: PLASMA (MICROELETRÔNICA)
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ABNT
CASTRO, Raul Murete de et al. A comparative study of single and double langmuir probe techniques for RF plasma characterization. Contributions to plasma physics, v. 39, n. 3, p. 235-246, 1999Tradução . . Acesso em: 08 nov. 2024.
APA
Castro, R. M. de, Cirino, G. A., Verdonck, P. B., Maciel, H. S., Massi, M., Pisani, M. B., & Mansano, R. D. (1999). A comparative study of single and double langmuir probe techniques for RF plasma characterization. Contributions to plasma physics, 39( 3), 235-246.
NLM
Castro RM de, Cirino GA, Verdonck PB, Maciel HS, Massi M, Pisani MB, Mansano RD. A comparative study of single and double langmuir probe techniques for RF plasma characterization. Contributions to plasma physics. 1999 ;39( 3): 235-246.[citado 2024 nov. 08 ]
Vancouver
Castro RM de, Cirino GA, Verdonck PB, Maciel HS, Massi M, Pisani MB, Mansano RD. A comparative study of single and double langmuir probe techniques for RF plasma characterization. Contributions to plasma physics. 1999 ;39( 3): 235-246.[citado 2024 nov. 08 ]
Relatorio tecnico
Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering (1999)
Massi, Marcos; Mansano, Ronaldo Domingues ; Maciel, Homero Santiago; Otani, C.; Verdonck, Patrick Bernard; Nishioka, L. N. B. M.
Unidade: EP
Assunto: ENGENHARIA ELÉTRICA
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ABNT
MASSI, Marcos et al. Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering. . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 08 nov. 2024. , 1999
APA
Massi, M., Mansano, R. D., Maciel, H. S., Otani, C., Verdonck, P. B., & Nishioka, L. N. B. M. (1999). Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering. São Paulo: EPUSP.
NLM
Massi M, Mansano RD, Maciel HS, Otani C, Verdonck PB, Nishioka LNBM. Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering. 1999 ;[citado 2024 nov. 08 ]
Vancouver
Massi M, Mansano RD, Maciel HS, Otani C, Verdonck PB, Nishioka LNBM. Influence of plasma etching on Raman spectra of DLC films deposited by magnetron sputtering. 1999 ;[citado 2024 nov. 08 ]
Relatorio tecnico
Comparison between single and double Langmuir probe tecniques for analysis of inductively coupled plasmas (1998)
Cirino, Giuseppe Antonio; Verdonck, Patrick Bernard; Maciel, Homero Santiago; Castro, R M; Massi, Marcos; Pisani, M B; Mansano, Ronaldo Domingues
Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
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ABNT
CIRINO, Giuseppe Antonio et al. Comparison between single and double Langmuir probe tecniques for analysis of inductively coupled plasmas. . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 08 nov. 2024. , 1998
APA
Cirino, G. A., Verdonck, P. B., Maciel, H. S., Castro, R. M., Massi, M., Pisani, M. B., & Mansano, R. D. (1998). Comparison between single and double Langmuir probe tecniques for analysis of inductively coupled plasmas. São Paulo: EPUSP.
NLM
Cirino GA, Verdonck PB, Maciel HS, Castro RM, Massi M, Pisani MB, Mansano RD. Comparison between single and double Langmuir probe tecniques for analysis of inductively coupled plasmas. 1998 ;[citado 2024 nov. 08 ]
Vancouver
Cirino GA, Verdonck PB, Maciel HS, Castro RM, Massi M, Pisani MB, Mansano RD. Comparison between single and double Langmuir probe tecniques for analysis of inductively coupled plasmas. 1998 ;[citado 2024 nov. 08 ]
Trabalho de evento
Characteristic of silicon etching process in a RIE reactor modified to include a built-in radio frequency excitation coil. (em CD-Rom) (1997)
Massi, Marcos; Mansano, Ronaldo Domingues ; Maciel, Homero Santiago; Verdonck, Patrick Bernard
Source: Proceedings. Conference titles: Conference of the Brazilian Microelectronics Society. Unidade: EP
Subjects: CIRCUITOS INTEGRADOS, SEMICONDUTORES
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ABNT
MASSI, Marcos et al. Characteristic of silicon etching process in a RIE reactor modified to include a built-in radio frequency excitation coil. (em CD-Rom). 1997, Anais.. Itajubá: SBMICRO/EFEI, 1997. . Acesso em: 08 nov. 2024.
APA
Massi, M., Mansano, R. D., Maciel, H. S., & Verdonck, P. B. (1997). Characteristic of silicon etching process in a RIE reactor modified to include a built-in radio frequency excitation coil. (em CD-Rom). In Proceedings. Itajubá: SBMICRO/EFEI.
NLM
Massi M, Mansano RD, Maciel HS, Verdonck PB. Characteristic of silicon etching process in a RIE reactor modified to include a built-in radio frequency excitation coil. (em CD-Rom). Proceedings. 1997 ;[citado 2024 nov. 08 ]
Vancouver
Massi M, Mansano RD, Maciel HS, Verdonck PB. Characteristic of silicon etching process in a RIE reactor modified to include a built-in radio frequency excitation coil. (em CD-Rom). Proceedings. 1997 ;[citado 2024 nov. 08 ]
Trabalho de evento-resumo
Simulacao numerica computacional de uma sonda magnetica (1995)
Dutra, R G; Maciel, H. S.; Massi, Marcos; Sudano, J P
Source: Resumos. Conference titles: Congresso Brasileiro de Aplicacoes de Vacuo Na Industria e Na Ciencia. Unidade: EP
Assunto: VÁCUO
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ABNT
DUTRA, R G et al. Simulacao numerica computacional de uma sonda magnetica. 1995, Anais.. Brasília: Sbv/Unicamp/Unb, 1995. . Acesso em: 08 nov. 2024.
APA
Dutra, R. G., Maciel, H. S., Massi, M., & Sudano, J. P. (1995). Simulacao numerica computacional de uma sonda magnetica. In Resumos. Brasília: Sbv/Unicamp/Unb.
NLM
Dutra RG, Maciel HS, Massi M, Sudano JP. Simulacao numerica computacional de uma sonda magnetica. Resumos. 1995 ;[citado 2024 nov. 08 ]
Vancouver
Dutra RG, Maciel HS, Massi M, Sudano JP. Simulacao numerica computacional de uma sonda magnetica. Resumos. 1995 ;[citado 2024 nov. 08 ]
Trabalho de evento-resumo
Deposicao de carbono pirolitico, via processo de deposicao de vapor quimico assistido a plasma de metano , sobre substratos de carbono vitreo (1995)
Watari, S; Otani, C; Resende, M; Nogueira, C; Massi, Marcos; Lima, M.; Maciel, H. S.
Source: Resumos. Conference titles: Congresso Brasileiro de Aplicacoes de Vacuo Na Industria e Na Ciencia. Unidade: EP
Assunto: VÁCUO
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ABNT
WATARI, S et al. Deposicao de carbono pirolitico, via processo de deposicao de vapor quimico assistido a plasma de metano , sobre substratos de carbono vitreo. 1995, Anais.. Brasília: Sbv/Unicamp/Unb, 1995. . Acesso em: 08 nov. 2024.
APA
Watari, S., Otani, C., Resende, M., Nogueira, C., Massi, M., Lima, M., & Maciel, H. S. (1995). Deposicao de carbono pirolitico, via processo de deposicao de vapor quimico assistido a plasma de metano , sobre substratos de carbono vitreo. In Resumos. Brasília: Sbv/Unicamp/Unb.
NLM
Watari S, Otani C, Resende M, Nogueira C, Massi M, Lima M, Maciel HS. Deposicao de carbono pirolitico, via processo de deposicao de vapor quimico assistido a plasma de metano , sobre substratos de carbono vitreo. Resumos. 1995 ;[citado 2024 nov. 08 ]
Vancouver
Watari S, Otani C, Resende M, Nogueira C, Massi M, Lima M, Maciel HS. Deposicao de carbono pirolitico, via processo de deposicao de vapor quimico assistido a plasma de metano , sobre substratos de carbono vitreo. Resumos. 1995 ;[citado 2024 nov. 08 ]
Trabalho de evento
Levantamento de curva de paschen em plasmas formados por fontes dc utilizando-sediferentes configuracoes de eletrodos (1992)
Barros, E. A; Massi, Marcos; Maciel, Homero Santiago; Sudano, J P
Source: Resumos. Conference titles: Congresso Brasileiro de Aplicacoes de Vacuo Na Industria e Na Ciencia. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
BARROS, E. A et al. Levantamento de curva de paschen em plasmas formados por fontes dc utilizando-sediferentes configuracoes de eletrodos. 1992, Anais.. Campinas: Unicamp, 1992. . Acesso em: 08 nov. 2024.
APA
Barros, E. A., Massi, M., Maciel, H. S., & Sudano, J. P. (1992). Levantamento de curva de paschen em plasmas formados por fontes dc utilizando-sediferentes configuracoes de eletrodos. In Resumos. Campinas: Unicamp.
NLM
Barros EA, Massi M, Maciel HS, Sudano JP. Levantamento de curva de paschen em plasmas formados por fontes dc utilizando-sediferentes configuracoes de eletrodos. Resumos. 1992 ;[citado 2024 nov. 08 ]
Vancouver
Barros EA, Massi M, Maciel HS, Sudano JP. Levantamento de curva de paschen em plasmas formados por fontes dc utilizando-sediferentes configuracoes de eletrodos. Resumos. 1992 ;[citado 2024 nov. 08 ]
Trabalho de evento-resumo
Efeito de injecao de eletrons primarios (1992)
Massi, Marcos; Maciel, H. S.; Sudano, J P
Source: Resumos. Conference titles: Congresso Brasileiro de Aplicacoes de Vacuo Na Industria e Na Ciencia. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MASSI, Marcos e MACIEL, H. S. e SUDANO, J P. Efeito de injecao de eletrons primarios. 1992, Anais.. Campinas: Unicamp, 1992. . Acesso em: 08 nov. 2024.
APA
Massi, M., Maciel, H. S., & Sudano, J. P. (1992). Efeito de injecao de eletrons primarios. In Resumos. Campinas: Unicamp.
NLM
Massi M, Maciel HS, Sudano JP. Efeito de injecao de eletrons primarios. Resumos. 1992 ;[citado 2024 nov. 08 ]
Vancouver
Massi M, Maciel HS, Sudano JP. Efeito de injecao de eletrons primarios. Resumos. 1992 ;[citado 2024 nov. 08 ]

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