Production and photoluminescence characterization of silicate glasses exposed to ionizing radiation. (2011)
- Authors:
- USP affiliated authors: CHUBACI, JOSE FERNANDO DINIZ - IF ; MATSUOKA, MASAO - IF ; WATANABE, SHIGUEO - IF
- Unidade: IF
- Assunto: RADIAÇÃO IONIZANTE
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher: SBF
- Publisher place: Foz do Iguaçu
- Date published: 2011
- Source:
- Título: Resumo
- Conference titles: Econtro de Física
-
ABNT
SOUZA, Pedro O de et al. Production and photoluminescence characterization of silicate glasses exposed to ionizing radiation. 2011, Anais.. Foz do Iguaçu: SBF, 2011. Disponível em: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enf/2011/sys/resumos/R3278-1.pdf. Acesso em: 20 fev. 2026. -
APA
Souza, P. O. de, Chubaci, J. F. D., Matsuoka, M., Watanabe, S., Guimarães, R. S., Rosa, R. de, et al. (2011). Production and photoluminescence characterization of silicate glasses exposed to ionizing radiation. In Resumo. Foz do Iguaçu: SBF. Recuperado de http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enf/2011/sys/resumos/R3278-1.pdf -
NLM
Souza PO de, Chubaci JFD, Matsuoka M, Watanabe S, Guimarães RS, Rosa R de, Torres HG, Gennari RF. Production and photoluminescence characterization of silicate glasses exposed to ionizing radiation. [Internet]. Resumo. 2011 ;[citado 2026 fev. 20 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enf/2011/sys/resumos/R3278-1.pdf -
Vancouver
Souza PO de, Chubaci JFD, Matsuoka M, Watanabe S, Guimarães RS, Rosa R de, Torres HG, Gennari RF. Production and photoluminescence characterization of silicate glasses exposed to ionizing radiation. [Internet]. Resumo. 2011 ;[citado 2026 fev. 20 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enf/2011/sys/resumos/R3278-1.pdf - Thermoluminescense and photoluminescence characterization of silicate glasses exposed to ionizing radiation
- Caracterização de filmes finos de nitreto de índio para fabricação de sensores que operam na região do IR
- Filmes finos de oxidos(HfO2, CeO2, TiO2) para dispositivos eletrônicos fabricados por IBAD (Ions Beam Assisted for Deposition)
- Produção de filmes finos de óxidos para aplicação em eletrônica
- Thin film oxides produced by IBAD (ion beam assisted deposition)
- Study and characterization of thin films of CeOx produced by ion beam assited deposition
- Formação de filmes finos de óxidos metálicos pela técnica IBAD (Ions Beam Assisted for Deposition)
- Estudo das propriedades de filmes finos de Nitreto de Índio preparado por IBAD
- Bulk properties of InN films determined by experiments and theory
- Electrical and optical properties of aluminum oxide thin films produced by IBAD
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
