Formação de filmes finos de óxidos metálicos pela técnica IBAD (Ions Beam Assisted for Deposition) (2014)
- Authors:
- USP affiliated authors: CHUBACI, JOSE FERNANDO DINIZ - IF ; MATSUOKA, MASAO - IF
- Unidade: IF
- Subjects: MICROELETRÔNICA; FILMES FINOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: SBF
- Conference titles: Encontro de Físicos do Norte e Nordeste
-
ABNT
COSTA, Harliton Jonas et al. Formação de filmes finos de óxidos metálicos pela técnica IBAD (Ions Beam Assisted for Deposition). 2014, Anais.. São Paulo: Instituto de Física, Universidade de São Paulo, 2014. Disponível em: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/efnne/xxxii/sys/resumos/R0430-1.pdf. Acesso em: 06 fev. 2026. -
APA
Costa, H. J., David, D. G. F., Silva, A. F. da, Freitas Jr., J. A., Chubaci, J. F. D., & Matsuoka, M. (2014). Formação de filmes finos de óxidos metálicos pela técnica IBAD (Ions Beam Assisted for Deposition). In SBF. São Paulo: Instituto de Física, Universidade de São Paulo. Recuperado de http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/efnne/xxxii/sys/resumos/R0430-1.pdf -
NLM
Costa HJ, David DGF, Silva AF da, Freitas Jr. JA, Chubaci JFD, Matsuoka M. Formação de filmes finos de óxidos metálicos pela técnica IBAD (Ions Beam Assisted for Deposition) [Internet]. SBF. 2014 ;[citado 2026 fev. 06 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/efnne/xxxii/sys/resumos/R0430-1.pdf -
Vancouver
Costa HJ, David DGF, Silva AF da, Freitas Jr. JA, Chubaci JFD, Matsuoka M. Formação de filmes finos de óxidos metálicos pela técnica IBAD (Ions Beam Assisted for Deposition) [Internet]. SBF. 2014 ;[citado 2026 fev. 06 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/efnne/xxxii/sys/resumos/R0430-1.pdf - Caracterização de filmes finos de nitreto de índio para fabricação de sensores que operam na região do IR
- Filmes finos de oxidos(HfO2, CeO2, TiO2) para dispositivos eletrônicos fabricados por IBAD (Ions Beam Assisted for Deposition)
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