Cristalização e stress devidos à presença de níquel em filmes de silício amorfo (2008)
- Authors:
- Autor USP: ZANATTA, ANTONIO RICARDO - IFSC
- Unidade: IFSC
- Subjects: FILMES FINOS; SILÍCIO; NÍQUEL; CRISTALIZAÇÃO; NANOTECNOLOGIA
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: Sociedade Brasileira de Física
- Publisher place: São Paulo
- Date published: 2008
- Source:
- Título: Resumos
- Volume/Número/Paginação/Ano: São Paulo : Sociedade Brasileira de Física, 2008
- Conference titles: Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada - ENFMC
-
ABNT
FERRI, F. A. e ZANATTA, Antonio Ricardo. Cristalização e stress devidos à presença de níquel em filmes de silício amorfo. 2008, Anais.. São Paulo: Sociedade Brasileira de Física, 2008. Disponível em: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxxi/sys/resumos/R0075-1.pdf. Acesso em: 27 dez. 2025. -
APA
Ferri, F. A., & Zanatta, A. R. (2008). Cristalização e stress devidos à presença de níquel em filmes de silício amorfo. In Resumos. São Paulo: Sociedade Brasileira de Física. Recuperado de http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxxi/sys/resumos/R0075-1.pdf -
NLM
Ferri FA, Zanatta AR. Cristalização e stress devidos à presença de níquel em filmes de silício amorfo [Internet]. Resumos. 2008 ;[citado 2025 dez. 27 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxxi/sys/resumos/R0075-1.pdf -
Vancouver
Ferri FA, Zanatta AR. Cristalização e stress devidos à presença de níquel em filmes de silício amorfo [Internet]. Resumos. 2008 ;[citado 2025 dez. 27 ] Available from: http://www.sbf1.sbfisica.org.br/eventos/enfmc/xxxi/sys/resumos/R0075-1.pdf - Photoluminescence and structural study of Sm and Tb-doped TiOx thin films
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