Estudo de ligações químicas entre carbono, nitrogênio e oxigênio nos filmes de nitreto de carbono produzidos por RF magnetron sputtering reativo (2003)
- Authors:
- USP affiliated authors: MATSUOKA, MASAO - IF ; ISOTANI, SADAO - IF
- Unidade: IF
- Subjects: SUPERFÍCIE FÍSICA; FILMES FINOS
- Language: Português
- Imprenta:
- Source:
- Título: Resumos
- Conference titles: Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada 26
-
ABNT
MATSUOKA, Masao et al. Estudo de ligações químicas entre carbono, nitrogênio e oxigênio nos filmes de nitreto de carbono produzidos por RF magnetron sputtering reativo. 2003, Anais.. São Paulo: SBF, 2003. . Acesso em: 17 out. 2024. -
APA
Matsuoka, M., Mittani, J. C., Lopes, K. C., Isotani, S., Pinto, R. C., & Mansano, R. D. (2003). Estudo de ligações químicas entre carbono, nitrogênio e oxigênio nos filmes de nitreto de carbono produzidos por RF magnetron sputtering reativo. In Resumos. São Paulo: SBF. -
NLM
Matsuoka M, Mittani JC, Lopes KC, Isotani S, Pinto RC, Mansano RD. Estudo de ligações químicas entre carbono, nitrogênio e oxigênio nos filmes de nitreto de carbono produzidos por RF magnetron sputtering reativo. Resumos. 2003 ;[citado 2024 out. 17 ] -
Vancouver
Matsuoka M, Mittani JC, Lopes KC, Isotani S, Pinto RC, Mansano RD. Estudo de ligações químicas entre carbono, nitrogênio e oxigênio nos filmes de nitreto de carbono produzidos por RF magnetron sputtering reativo. Resumos. 2003 ;[citado 2024 out. 17 ] - X-ray photoelectron spectroscopy analysis of zirconium nitride-like filmsprepared on Si(100) substrates by ion beam assisted deposition
- Influence of ion energy and arrival rate on x-ray crystallographic properties of thin Zr'O IND.X' films prepared on Si(111) substrate by ion-beam assisted deposition
- Effects of arrival rate and gas pressure on the chemical bonding and composition in titanium nitride films prepared on Si(100) substrates by ion beam and vapor deposition
- Efeito de energia de ion e razao de transporte na composicao de filmes de oxido de zirconio preparados com ion-beam assisted deposition
- Effects of ion energy and arrival rate on the composition of zirconium oxide films prepared by ion-beam assisted deposition
- Isothermal annealing of a 620 nm optical absorption band in Brazilian topaz crystals
- Efeito da energia de ions de oxigenio na formacao de filmes finos de oxido de zirconio com metodo de ion and vapor deposition
- Efeitos de "arrival rate" e de pressão de gás na composição de filmes de nitreto de titânio preparados com deposição assistida por feixe de íons
- Chemical bonding and composition of silicon nitride films prepared by inductively coupled plasma chemical vapor deposition
- Propriedades de filmes finos de Zr-N preparados com ion-beam assisted deposition
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas